[發(fā)明專利]一種廣角模組全視場解像力測試設備及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810486043.3
• 申請日: 2018-05-21
• 公開（公告）號: CN108827599A
• 公開（公告）日: 2018-11-16
• 發(fā)明（設計）人: 潘周權
• 申請（專利權）人: 余姚舜宇智能光學技術有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 北京觀韜中茂律師事務所 11553
• 代理人: 梁朝玉

一種廣角模組全視場解像力測試設備及方法，屬于解像力測試技術領域。本發(fā)明廣角模組全視場解像力測試設備，包括用于放置待測模組的工作臺、外罩于所述工作臺上方的外圍機架、裝配于所述外圍機架上的顯示器，所述外圍機架內的頂部設有光源組件，所述工作臺上設有圍繞所述待測模組設置的鏡面反射組件，所述鏡面反射組件用以接收光源組件的光線并反射入所述待測模組內。本發(fā)明適用于任何角度的廣角模組，該測試設備采用鏡面反射進行全視場解像力測試，標版尺寸大大縮小，測試設備尺寸減小，占地面積少，制造成本、場地成本都相應減少；同時鏡面反射邊緣光線傳播路徑更短，畸變更小，效果更好。

技術領域

本發(fā)明屬于解像力測試技術領域，尤其涉及一種廣角模組全視場解像力測試設備及方法。

背景技術

解像力是用來描述縮微攝影系統(tǒng)再現被攝原件細微部分能力的物理量，是影響量評價的重要指標，在攝像、照相領域，是指相機對細節(jié)的表現能力，解像力好的相機拍攝的圖像肯定是毫發(fā)畢現般的清晰，反之，解像力較差的拍攝出來的圖像則容易丟失許多肉眼可見的細節(jié)。因此，攝像模組在生產過程中需要測試鏡頭的解像力，以準確地判斷其解像力情況，保證出廠的鏡頭能夠滿足應用需求。

一般在進行攝像模組解像力測試時，利用光源照亮標版，選取合適的測試距離，利用鏡頭對準標版進行拍攝，通過攝像模組和圖像采集系統(tǒng)獲取測試圖像并由顯示器顯示出來，通過測試軟件分析測試及計算，最終計算出分辨率值以精準地反應鏡頭的解像力。

目前很多攝像模組都是大視場角攝像模組，100°~200°。但這類廣角模組進行解像力測試時，隨著廣角模組視場角和對焦距離增大，標版尺寸也大幅度加大，所需測試設備尺寸也相應增大，進而大大增加了制造難度和成本。盡管許多測試設備如大廣角機臺、五面機臺等被設計用來滿足大視場角攝像模組測試的要求，但這些機臺占用較大的場地空間，設備成本和場地成本較高。另外，通常情況下，解像力管控不到全視場，尤其是大視場角的位置處畸變較大。如果按照傳統(tǒng)的解像力測試方法，且僅通過加大標版的方式對廣角模組進行全視場角解像力測試，其最終無法實現有效全視場解像力測試。

發(fā)明專利申請CN107525651A公開了一種鏡頭解像力測試方法、裝置及系統(tǒng)，其具體公開了一種鏡頭解像力測試方法，包括獲取使用待測鏡頭拍攝至少兩個靶板得到的圖像，其中，所述靶板上設有至少一個圖案，所述靶板所在平面與預設球面相切，所述預設球面為以所述鏡頭為球心，以預設尺寸為半徑的球體表面；對所述圖像進行圖像分析，得到所述待測鏡頭在各所述靶板方向視場角位置處的解像力參數；根據所述待測鏡頭在各所述靶板方向視場角位置處的解像力參數，確定所述待測鏡頭的解像力是否合格。該發(fā)明通過設置至少兩個靶板，以在使用待測鏡頭進行拍攝時采集到的圖像中包含有多個靶板的圖案，這些圖案處于圖像的不同位置處，進而解決現有技術中僅使用一個靶板圖案進行測試因圖像的畸變而導致的誤判。但該申請雖然解決了大視場角畸變問題，但是測試設備由于有多塊靶板，其設備尺寸增大，設備成本和場地成本也相應增加。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的是提供一種體積小、成本低、畸變小的廣角模組全視場解像力測試設備及方法。

根據上述目的，本發(fā)明提供一種廣角模組全視場解像力測試設備，包括用于放置待測模組的工作臺、外罩于所述工作臺上方的外圍機架、裝配于所述外圍機架上的顯示器，所述外圍機架內的頂部設有光源組件，所述工作臺上設有圍繞所述待測模組設置的鏡面反射組件，所述鏡面反射組件用以接收光源組件的光線并反射入所述待測模組內。

作為優(yōu)選，所述光源組件包括光源架、以及設于所述光源架上的光源和勻光板。

作為優(yōu)選，所述光源為可見光源或紅外光源。

作為優(yōu)選，所述鏡面反射組件包括若干鏡面反射機構，若干所述鏡面反射機構圍設于待測模組周圍以滿足廣角模組視場角解像力測試的光線入射要求。

作為優(yōu)選，所述反射機構包括Z軸位移組件、X-Y軸位移組件、反射鏡；所述反射鏡通過所述Z軸位移組件裝配于所述X-Y軸位移組件。