[發明專利]化合物的制造方法有效
| 申請號: | 201810480983.1 | 申請日: | 2018-05-18 |
| 公開(公告)號: | CN109134307B | 公開(公告)日: | 2019-07-23 |
| 發明(設計)人: | 永田大;田村翔 | 申請(專利權)人: | 旭化成株式會社 |
| 主分類號: | C07C253/24 | 分類號: | C07C253/24;C07C255/08;B01J8/24 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 流化床反應器 催化劑 供給口 反應工序 原料氣體 制造 反應生成氣體 氣相催化氧化 氨氧化反應 收納 不飽和酸 不飽和腈 含氧氣體 耐磨耗度 氣相催化 反應器 排出口 飛散 排出 收率 損傷 流動 | ||
提供在不對反應器造成損傷的情況下,邊抑制催化劑的飛散,邊能以高收率得到化合物的化合物的制造方法。所述方法具備如下反應工序:使用流化床反應器,在下述內部空間內,在下述催化劑的存在下將下述烴供至氣相催化氧化反應或氣相催化氨氧化反應,從而制造各自對應的不飽和酸或不飽和腈,流化床反應器具備:內部空間,其中以能夠流動的方式收納有催化劑;第一供給口,其向流化床反應器供給包含烴的原料氣體;第二供給口,其向前述流化床反應器供給包含氧的含氧氣體;和,排出口,從流化床反應器排出反應生成氣體,該反應工序中,將第一供給口處的原料氣體的線速度(m/秒)以相對于催化劑的耐磨耗度(%)滿足規定關系的方式進行調整。
技術領域
本發明涉及化合物的制造方法。
背景技術
一直以來,使烷烴和/或烯烴在金屬復合氧化物催化劑的存在下進行氣相催化氨氧化反應時,正在廣泛使用流化床反應器。工業規模中使用的流化床反應器中,由于長期連續地進行生產運轉,因此產生對反應收率造成影響的催化劑的活性降低、催化劑流出所導致的催化劑填充量的減少、催化劑粒徑分布等的變化。因此,為了提高不飽和腈的反應收率,進行了催化劑的開發和反應器內部裝置的改良等。
例如,專利文獻1中,為了提供具有充分的強度(耐磨耗性)的催化劑的制造方法,公開了使用包含鉬、鉍、鐵和二氧化硅的一次焙燒品的微粒的方法。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2006-263715號公報
發明內容
使用耐磨耗性低的催化劑的情況下,存在催化劑被漸漸粉碎或變細的催化劑從流化床反應器流出,流化床反應器內的催化劑量減少,從而化合物的反應收率降低的問題。然而,另一方面,使用耐磨耗性高的催化劑的情況下,可知會出現流化床反應器內部的損傷。流化床反應器內部的損傷的蓄積由于反應器破壞這樣的危險性高,因此,可能造成各種影響以至于可能成為原料氣體的供給口的直徑增大等導致的反應控制的準確性降低這樣的實際運轉上的危害。使用耐磨耗性高的催化劑的情況下,作為不損傷流化床反應器內部的損傷的方法,也考慮為了使催化劑不強烈碰撞流化床反應器內部而降低供給的各種氣體的線速度。然而,氣體的線速度的降低對催化劑的流動性的降低造成直接的影響,作為結果,導致化合物的反應活性率的降低。
本發明是鑒于上述問題而作出的,其目的在于,提供:在不對反應器造成損傷的情況下,邊抑制催化劑的飛散,邊能以高收率得到化合物的化合物的制造方法。
本發明人等為了解決上述問題進行了深入研究。其結果發現:通過調整催化劑的硬度和原料氣體的線速度,從而可以解決上述課題,至此完成了本發明。
即,本發明如以下所述。
[1]
一種化合物的制造方法,其具備如下反應工序:使用流化床反應器,在下述內部空間內,在下述催化劑的存在下將下述烴供至氣相催化氧化反應或氣相催化氨氧化反應,從而制造各自對應的不飽和酸或不飽和腈,所述流化床反應器具備:內部空間,其中以能夠流動的方式收納有催化劑;第一供給口,其向前述內部空間供給包含烴的原料氣體;第二供給口,其向前述內部空間供給包含氧的含氧氣體;和,排出口,從前述內部空間排出反應生成氣體。
該反應工序中,將前述第一供給口處的前述原料氣體的線速度(m/秒)以相對于前述催化劑的耐磨耗度(%)滿足下述式(1)或(2)所示的條件的方式進行調整。
條件(1):催化劑的耐磨耗度(%)為0以上且4以下時
5≤線速度(m/秒)≤12.5×耐磨耗度(%)+100
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于旭化成株式會社,未經旭化成株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810480983.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





