[發明專利]一種可見濾光片的制備工藝

在審

• 申請號: 201810479170.0
• 申請日: 2018-05-18
• 公開（公告）號: CN110501770A
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發明（設計）人: 張欽輝;劉曉陽;徐超;張海峰
• 申請（專利權）人: 北京首量科技股份有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B1/115
• 代理公司: 11584 北京智晨知識產權代理有限公司
• 代理人: 張婧<國際申請>=<國際公布>=<進入國

1.一種可見濾光片的制備工藝，其特征在于，包括以下步驟：

1)將K9玻璃基材作為第一透明襯底基材，所述第一透明襯底基材具有相對設置的第一表面及第二表面，對所述第一透明襯底基材清洗烘干后，在所述第一透明襯底基材的第一表面從上到下交替鍍上第一濾光膜和多層金屬介質組合膜；其中，所述第一濾光膜包括從上到下層疊設置的五氧化三鈦膜與二氧化硅膜；所述五氧化三鈦膜的鍍膜厚度為304nm；所述二氧化硅膜的鍍膜厚度為469nm；

2)將K9玻璃基材作為第二透明襯底基材，所述第二透明襯底基材具有相對設置的第一表面及第二表面，對所述第二透明襯底基材清洗烘干后，在所述第二透明襯底基材的第一表面從下到上交替鍍上第二濾光膜和多層金屬介質組合膜；其中，所述第二濾光膜包括從上到下層疊設置的二氧化硅膜與五氧化三鈦膜；所述五氧化三鈦膜的鍍膜厚度為304nm；所述二氧化硅膜的鍍膜厚度為469nm；

3)將步驟1)鍍膜得到的所述第一透明襯底基材的第二表面與步驟2)鍍膜得到的所述第二透明襯底基材的第二表面面面相對，將兩者進行壓合和膠固化；得到可見濾光片。

2.根據權利要求1所述的可見濾光片的制備工藝，其特征在于，在步驟1)中，所述第一濾光膜還包括設置于所述五氧化三鈦膜與所述二氧化硅膜之間的光線透增膜。

3.根據權利要求2所述的可見濾光片的制備工藝，其特征在于，在步驟1)中，所述第一透明襯底基材的第二表面鍍有光線透增膜。

4.根據權利要求1所述的可見濾光片的制備工藝，其特征在于，在步驟2)中，所述第二濾光膜還包括設置于所述五氧化三鈦膜與所述二氧化硅膜之間的光線透增膜。

5.根據權利要求4所述的可見濾光片的制備工藝，其特征在于，在步驟2)中，所述第二透明襯底基材的第二表面鍍有光線透增膜。

6.根據權利要求2-5任一項所述的可見濾光片的制備工藝，其特征在于，所述光線透增膜為二氧化硅膜或二氧化鈦膜。

7.根據權利要求1所述的可見濾光片的制備工藝，其特征在于，在步驟1)中，所述第一濾光膜的膜系結構采用：0.4(0.5HL0.5H)^12(0.5LH0.5L)^15(0.5LH0.5L)^12；其中，式中H代表高折射材料五氧化三鈦；L代表低折射材料二氧化硅。

8.根據權利要求7所述的可見濾光片的制備工藝，其特征在于，在步驟1)中，所述第二濾光膜的膜系結構采用：0.4(0.5HL0.5H)^12(0.5LH0.5L)^15(0.5LH0.5L)^12；其中，式中H代表高折射材料五氧化三鈦；L代表低折射材料二氧化硅。

9.根據權利要求1所述的可見濾光片的制備工藝，其特征在于，在步驟1)中，所述第一濾光膜通過真空磁控濺射的工藝鍍在所述第一透明襯底基材的第一表面；

在步驟2)中，所述第二濾光膜通過真空磁控濺射的工藝鍍在所述第二透明襯底基材的第一表面。

10.一種可見濾光片，其特征在于，所述可見濾光片由權利要求1-9任一項所述的可見濾光片的制備工藝制取。