[發明專利]一種化學氣相沉積裝備用基座

在審

• 申請號: 201810477444.2
• 申請日: 2018-05-18
• 公開（公告）號: CN108396310A
• 公開（公告）日: 2018-08-14
• 發明（設計）人: 黃在浩;鄭大教
• 申請（專利權）人: 合肥微睿光電科技有限公司
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;C23C16/458
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種化學氣相沉積裝備用基座，包括反應箱（1），其特征在于：所述反應箱（1）內部形成真空腔室（2），所述真空腔室（2）內頂壁通過擴散器固定裝置（4）固定連接有擴散器（3），所述擴散器（3）正下方設有基座（5），所述基座（5）內部鑲嵌有加熱嵌件（6），所述基座（5）上端面設有限位框（11），所述限位框（11）平行于基座（5）設置，所述限位框（11）的下端面貫穿基座（5）到達基座（5）下方，所述限位框（11）內底壁通過若干第一固定架分別固定連接有固定環（10），每一個所述固定環（10）上固定連接有連接繩（15）的一端，所述連接繩（15）的另一端固定連接在同一個轉動軸（14）上，所述轉動軸（14）水平設置，所述轉動軸（14）的一端固定連接有電機（13）的輸出端，所述電機（13）通過第二固定架固定連接在基座（5）下端面上，所述轉動軸（14）的另一端貫穿第三固定架到達第三固定架的另一側，所述限位框（11）與基座（5）上端面形成置物槽（12），所述置物槽（12）內部放置有待處理物（7）。

2.根據權利要求1所述的一種化學氣相沉積裝備用基座，其特征在于：所述待處理物（7）下方對稱設有若干支撐桿（9），所述支撐桿（9）螺紋連接在基座（5）上。

3.根據權利要求1所述的一種化學氣相沉積裝備用基座，其特征在于：所述固定環（10）的數量為2-4個。

4.根據權利要求1所述的一種化學氣相沉積裝備用基座，其特征在于：所述待處理物（7）通過遮蔽框（8）限位固定在置物槽（12）內。

5.根據權利要求1所述的一種化學氣相沉積裝備用基座，其特征在于：所述轉動軸（14）遠離電機（13）的一端固定連接有限位板（16）。