[發明專利]一種氧化還原電位水的制備方法及裝置

在審

• 申請號: 201810474315.8
• 申請日: 2018-05-17
• 公開（公告）號: CN108358283A
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發明（設計）人: 鄧劍軍
• 申請（專利權）人: 鄧劍軍
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369
• 代理人: 韓飛

1.一種氧化還原電位水的制備方法，其特征在于，包括下述步驟：

1)將待處理水通過進水單元流入電解槽單元，并控制待處理水的流速，分別流入主電解室和副電解室；

2)在通水的同時，向電解槽的電極施加具有恒定電流的直流電；在制備電位水的初期，連通主電解室出水口和廢水出口，排出低質量電位水；隨后連通主電解室出水口和電位水出口，收集高質量電位水；

3)在電位水制備完成后，通過在電極上施加與工作時相反的電源極性，以清除附著在電極表面的無機鹽；

其中，為得到高質量的電位水，需要根據主電解室的有效體積以及電極面積，來調控水流速度和恒定電流大小；

在制備酸性氧化電位水時，電流控制單元將主電解室的電極與電源陽極相連接，通過單個主電解室的水流速度與單個主電解室的有效體積之比為6-10min^-1,單組陰極電極和陽極電極之間的平均電流密度為140-300A/m²；

在制備堿性還原電位水時，電流控制單元將主電解室的電極與電源陰極相連接，通過單個主電解室的水流速度與單個主電解室的有效體積之比為10-16min^-1,單組陰極電極和陽極電極之間的平均電流密度為130-280A/m²。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟1)中流入主電解室與副電解室的水流流量之比為1-10∶1。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述步驟2)中的初期為在制備電位水的最初3-10秒。

4.一種氧化還原電位水的制備裝置，其特征在于，包括：

電解槽單元，其槽體被分割為主電解室和副電解室；所述主電解室和副電解室中均設置有電極和水路結構；

進水單元，通過進水管道順次連接主電解室進水口和副電解室進水口；

出水單元，通過出水管道將主電解室出水口、副電解室出水口、電位水出口以及廢水出口相連接；

電流控制單元，與電解槽單元中的電極相連接；

其中，所述主電解室出水口通過三通切換閥接入出水管道；所述三通切換閥的其余兩端口分別與廢水出口和電位水出口相通；所述副電解室出水口與廢水出口相連。

5.根據權利要求4所述的制備裝置，其特征在于，所述電解槽單元至少包括一個主電解室和一個副電解室；所述主電解室和副電解室交替設置，中間通過隔膜被分割；所述隔膜為離子交換膜。

6.根據權利要求4所述的制備裝置，其特征在于，所述電流控制單元通過并聯或者串聯的方式連接所述電解槽單元中的電極，并向其施加恒定直流電流；所述設置于相鄰電解室中的電極之間的垂直距離為3-8mm。

7.根據權利要求6所述的制備裝置，其特征在于，所述電流控制單元采用變壓恒流、脈沖寬度調制金屬-氧化物-半導體場效應晶體管或者三極管的方式調控電流，并通過切換所連接電極的電源極性，實現主電解室制備酸性氧化電位水或者堿性還原電位水。

8.根據權利要求4所述的制備裝置，其特征在于，所述進水管道在主電解室進水口外部設置有水流控制器和流量傳感器，用于實時調控進入主電解室的水流速度；所述水流控制器選用水泵或者流量調節閥。

9.根據權利要求4所述的制備裝置，其特征在于，所述主電解室進水口和副電解室進水口之間安裝有流量限制機構，用于調控進入副電解室中的水流速度；所述流量限制機構為流量調節閥、流量限制器或者細管徑管路。

10.根據權利要求4所述的制備裝置，其特征在于，所述主電解室出水口和副電解室出水口的上方均設置有毛細孔；所述毛細孔與相應下方的主電解室或者副電解室相連接。