[發明專利]一種增透復合薄膜在審

申請號：	201810468357.0	申請日：	2018-05-16
公開（公告）號：	CN108490511A	公開（公告）日：	2018-09-04
發明（設計）人：	金子明;宮平;張其土;王麗熙;張鵬;李堯堯;管永康;虢忠仁;曲志敏;鐘蔚華;朱曉琳	申請（專利權）人：	山東非金屬材料研究所;南京工業大學
主分類號：	G02B1/115	分類號：	G02B1/115;G02B1/14;G02B1/18
代理公司：	濟南舜源專利事務所有限公司 37205	代理人：	苗峻
地址：	250031 山***	國省代碼：	山東;37
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摘要：
搜索關鍵詞：	增透復合膜耐磨防污材料膜層復合薄膜反射率折射率機械性能高低折射率材料表面復合膜層功能材料技術光學薄膜材料混合膜層交替排列膜層結構透明裝甲增透效果光譜帶透過率自清潔側膜基底膜層匹配玻璃賦予
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【說明書】：

本發明屬于功能材料技術領域。利用高低反射率層的增透原理，通過匹配ZrO₂和TiO₂的表面復合膜層，賦予復合薄膜增透、防污、耐磨等功能。本發明涉及的增透復合膜，為高低折射率材料膜層交替排列的復合膜，其特征在于：膜層結構通式為：基底|(HL)mM|Air，其中：m＝3～5，H表示高射折率材料膜層，L表示低射折率材料膜層；空氣側膜層M為ZrO₂(折射率n＝2.05)和TiO₂(折射率n＝2.35)的混合膜層。該增透復合膜，透過率高，反射率小，具有良好的機械性能和自清潔作用，適用光譜帶400nm?700nm，同時具有耐磨、防污的特點，增透效果持久，適用于具有防污、耐磨、增透要求的透明裝甲玻璃等光學薄膜材料技術領域。

技術領域

本發明屬于功能材料技術領域，涉及光學薄膜設計技術，特別涉及增透、耐磨、防污膜的設計技術。

背景技術

由于生產工藝和材料的影響，未經處理的玻璃產品，其透過率并不能達到使用要求。這一點在光通訊、液晶顯示、光學玻璃等領域尤其明顯，因此關于增透膜的研究越來越受到重視。有文獻在玻璃表面浸涂玻璃增透鍍膜液以實現增透效果(ZL201210387442.7)，也有文獻通過真空鍍膜工藝方法，在玻璃表面鍍制氧化鋁或氧化鋯等材料實現增透效果(ZL201210416697.1)，但是對于不同膜層間的厚度匹配問題少有研究。同時考慮膜層的使用環境，考慮防污和耐磨性能復合膜未見文獻報道。

發明內容

本發明的目的在于提供一種具有低反射率(小于10％)和寬光譜帶寬(400nm-700nm)的增透膜，同時具有良好的耐磨、防污性能。

本發明的目的是這樣實現的，利用高低反射率層的增透原理，通過膜層間的厚度匹配，實現膜層增透，匹配ZrO₂和TiO₂的表面復合膜層，賦予復合薄膜增透、防污、耐磨等功能。采用離子輔助沉積，電子束真空鍍膜工藝制備膜層。

本發明涉及的增透復合膜，為高低折射率材料膜層交替排列的復合膜，其特征在于：膜層結構通式為：基底|(HL)m M|Air，其中：m＝3～5，H表示高射折率材料膜層，L表示低射折率材料膜層；空氣側膜層M為ZrO₂(折射率n＝2.05)和TiO₂(折射率n＝2.35)的混合膜層；

其中：低折射率材料的折射率介于1.3-1.7之間的化合物；高折射率材料為ZrO₂和TiO₂。

本發明涉及的增透復合膜，為高低折射率材料膜層交替排列的復合膜，其特征在于：低折射率材料為CaF₂(折射率n＝1.43)、SiO₂(折射率n＝1.45)、MgF₂(折射率n＝1.38)、BaF₂(折射率n＝1.48)、MgO或Al₂O₃。

本發明涉及的增透復合膜，為高低折射率材料膜層交替排列的復合膜，其特征在于：空氣側膜層M中ZrO₂的質量份數介于40-60％之間。

本發明涉及的增透復合膜，為高低折射率材料膜層交替排列的復合膜，其特征在于：空氣側膜層M的厚度介于87-96nm之間。

本發明涉及的增透復合膜，為高低折射率材料膜層交替排列的復合膜，其特征在于：

當m＝4時，膜層厚度匹配關系為：

第一層：高折射率材料膜層，30-42nm；

第二層：低折射率材料膜層，48-62nm；