[發(fā)明專利]一種繪圖目標(biāo)固定裝置及繪圖設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810466679.1
• 申請(qǐng)日: 2018-05-15
• 公開（公告）號(hào): CN108477808A
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 石晶
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州杰賽科技股份有限公司
• 主分類號(hào): A45D29/00
• 分類號(hào): A45D29/00;A45D29/22
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 梁順宜;郝傳鑫

1.一種繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，包括第一磁體、第二磁體、滑塊、殼體和限位件，所述限位件連接在所述殼體上，且所述限位件位于所述滑塊的上方，所述滑塊可上下移動(dòng)地連接在所述殼體上，所述第一磁體連接在所述滑塊上；所述殼體內(nèi)設(shè)有第一空腔，所述第二磁體容置在所述第一空腔內(nèi)，所述第一磁體與所述第二磁體同極性相對(duì)設(shè)置。

2.如權(quán)利要求1所述的繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，所述繪圖目標(biāo)固定裝置還包括調(diào)整裝置，所述調(diào)整裝置的一端設(shè)于所述殼體的外部，所述調(diào)整裝置的另一端穿過所述殼體的底部并可上下移動(dòng)地連接在所述殼體上，所述第二磁體放置在所述調(diào)整裝置上。

3.如權(quán)利要求2所述的繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，所述殼體上設(shè)有貫穿其上下表面的螺紋孔，所述調(diào)整裝置為調(diào)整旋鈕，所述調(diào)整旋鈕包括頭部和螺桿部，所述螺桿部的一端連接在所述頭部上，所述頭部設(shè)于所述殼體的外部，所述螺桿部與所述螺紋孔連接，所述第二磁體放置在所述螺桿部的另一端上。

4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，所述第一空腔包括第一容納部和第一導(dǎo)槽，所述第一導(dǎo)槽設(shè)置于所述第一容納部和所述殼體的內(nèi)側(cè)壁之間，所述第二磁體容置在所述第一容納部?jī)?nèi)，所述滑塊可上下移動(dòng)地插入所述第一導(dǎo)槽。

5.如權(quán)利要求4所述的繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，所述滑塊設(shè)有第二空腔，所述第一磁體容置并連接在所述第二空腔內(nèi)。

6.如權(quán)利要求5所述的繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，所述第二空腔包括第二容納部和第二導(dǎo)槽，所述第二導(dǎo)槽設(shè)置在所述第二容納部和所述滑塊的內(nèi)側(cè)壁之間，所述第一磁體容置并連接在所述第二容納部?jī)?nèi)，所述第一容納部和所述第一導(dǎo)槽的相鄰側(cè)壁可上下移動(dòng)地插入所述第二導(dǎo)槽內(nèi)。

7.如權(quán)利要求4所述的繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，所述第一容納部的橫截面為非圓截面，所述第二磁體的大小與所述第一容納部的大小相適配。

8.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，所述第一空腔的橫截面為非圓截面，所述第二磁體的大小與所述第一空腔的大小相適配。

9.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的繪圖目標(biāo)固定裝置，其特征在于，所述殼體包括相互分離的上殼體和下殼體，所述滑塊可上下移動(dòng)地連接在所述上殼體上，所述第二磁體容置在所述下殼體內(nèi)，所述限位件連接在所述上殼體上。

10.一種繪圖設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的繪圖目標(biāo)固定裝置。