[發(fā)明專利]試管

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810464590.1
• 申請日: 2018-05-15
• 公開（公告）號: CN108906145A
• 公開（公告）日: 2018-11-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李曉
• 申請（專利權(quán)）人: 廈門天之元生物科技有限公司
• 主分類號: B01L3/14
• 分類號: B01L3/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種試管，其特征在于，包括：

管體(10)，所述管體(10)內(nèi)形成有容納空間，所述管體(10)的頂部形成有開口(11)，所述管體(10)上設(shè)置有第一磁吸部件(12)；

蓋體(20)，蓋設(shè)在所述管體(10)的頂部，覆蓋所述開口(11)，所述蓋體(20)上設(shè)置有與所述第一磁吸部件(12)相適配的第二磁吸部件(21)，所述蓋體(20)通過所述第二磁吸部件(21)與所述第一磁吸部件(12)之間的磁吸力固定在所述管體(10)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的試管，其特征在于，所述蓋體(20)套設(shè)在所述管體(10)的頂部，所述管體(10)的外側(cè)的與所述開口(11)相鄰的位置處設(shè)置有凸臺(13)，所述凸臺(13)與所述蓋體(20)的底部抵接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的試管，其特征在于，所述第一磁吸部件(12)設(shè)置在所述凸臺(13)上，所述第二磁吸部件(21)設(shè)置在所述蓋體(20)的底部。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的試管，其特征在于，所述蓋體(20)的底部位置處形成有安裝部，所述安裝部用于安裝所述第二磁吸部件(21)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的試管，其特征在于，所述試管還包括密封膜(30)，所述密封膜(30)覆蓋在所述開口(11)上密封所述容納空間。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的試管，其特征在于，所述試管還包括穿刺件(40)，所述穿刺件(40)可活動地設(shè)置在所述蓋體(20)上，所述穿刺件(40)包括固定在所述蓋體(20)上的第一狀態(tài)以及可相對于所述蓋體(20)活動以刺穿所述密封膜(30)的第二狀態(tài)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的試管，其特征在于，所述蓋體(20)上形成有限位部(22)，所述穿刺件(40)與所述限位部(22)配合停留在所述第一狀態(tài)，所述穿刺件(40)與所述限位部(22)分離以進(jìn)入所述第二狀態(tài)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的試管，其特征在于，所述穿刺件(40)以豎直方向為軸心可轉(zhuǎn)動地設(shè)置在所述蓋體(20)的中部，并且所述穿刺件(40)可以沿豎直方向相對所述蓋體(20)移動，所述穿刺件(40)相對所述蓋體(20)轉(zhuǎn)動以與所述限位部(22)配合或分離，所述穿刺件(40)相對所述蓋體(20)移動以刺穿所述密封膜(30)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的試管，其特征在于，所述限位部(22)為開設(shè)在所述蓋體(20)上的限位孔，所述穿刺件(40)上形成有與所述限位孔相配合的限位凸起(41)，所述蓋體(20)的側(cè)壁上還形成有與所述限位孔相連通的第一避讓孔(23)，所述穿刺件(40)相對所述蓋體(20)轉(zhuǎn)動以使所述限位凸起(41)從所述限位孔轉(zhuǎn)動至所述第一避讓孔(23)內(nèi)，所述限位凸起(41)可在所述第一避讓孔(23)內(nèi)做豎直方向上的位移以使得所述穿刺件(40)相對所述蓋體(20)沿豎直方向移動刺穿所述密封膜(30)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的試管，其特征在于，所述第一避讓孔(23)為沿豎直方向開設(shè)的孔，或者所述第一避讓孔(23)為沿相對豎直方向傾斜開設(shè)的孔。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的試管，其特征在于，所述蓋體(20)上還形成有卡位部(24)，所述穿刺件(40)上形成有與所述卡位部(24)相配合的卡位凸起(42)，所述穿刺件(40)沿豎直方向移動到達(dá)刺穿所述密封膜(30)的位置后，所述卡位凸起(42)卡在所述卡位部(24)上，所述蓋體(20)上開設(shè)有避讓所述卡位凸起(42)運動軌跡的第二避讓孔(25)。