[發明專利]一種超分子共插層結構抗光老化材料的制備方法在審
| 申請號: | 201810459930.1 | 申請日: | 2018-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN108794803A | 公開(公告)日: | 2018-11-13 |
| 發明(設計)人: | 李殿卿;趙夢垚;唐平貴;馮擁軍;馬若愚 | 申請(專利權)人: | 北京化工大學 |
| 主分類號: | C08K5/42 | 分類號: | C08K5/42;C08K5/3435;C08K3/22;C08K5/13;C08K5/18;C08K5/098;C08L23/12 |
| 代理公司: | 北京恒和頓知識產權代理有限公司 11014 | 代理人: | 孫伯慶 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 受阻胺光穩定劑 紫外吸收劑 制備 共插層 抗光老化 超分子 層間 插層 強堿 弱堿 反應條件 老化材料 共沉淀 強堿性 弱堿性 再利用 替換 調控 | ||
1.一種超分子插層結構抗光老化材料的制備方法,具體步驟如下:
A.稱取M2+、M3+的硝酸鹽或氯化鹽溶于除二氧化碳的去離子水中配制成混合鹽溶液,其中M2+與M3+的摩爾比為2-4,M3+的摩爾濃度為0.05-0.8mol/L;
根據上述混合鹽溶液M2+、M3+的量配制摩爾濃度為0.05-1mol/L的堿溶液,其中堿的摩爾量為M2+與M3+摩爾量之和的2-2.4倍,再加入紫外吸收劑到堿溶液中形成混合溶液;其中紫外吸收劑與M3+摩爾量的比值為1-3;在氮氣保護和攪拌下,將該混合溶液和上述混合鹽溶液全部混合,反應生成沉淀;然后在60-110℃下晶化1-8小時,過濾,離心洗滌沉淀物3-6遍,得到紫外吸收劑插層LDH濕濾餅;
所述的M2+為Mg2+、Zn2+、Ni2+、Ca2+、Fe2+、Cu2+中的任意一種或兩種,較好的是Mg2+、Zn2+中的一種,M3+為Al3+、Co3+、Ti3+、Fe3+、Cr3+中的一種或兩種,較好的是Al3+;
所述的堿為NaOH、KOH或氨水;所述的紫外吸收劑為對氨基苯甲酸鈉、對-甲氧基肉桂酸鈉、水楊酸鈉、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮-5-磺酸鈉、香豆素-3-羧酸鈉、肉桂酸鈉、苯并三唑-4-羥基-苯磺酸鈉、2-苯基苯并咪唑-5-磺酸鈉中的任意一種;
B.將步驟A得到的紫外吸收劑插層LDH濕濾餅用水配制成固含量為10-100g/L的漿液,再加入受阻胺光穩定劑,其中受阻胺光穩定劑的加入量為漿液中M3+摩爾量的0.3-1倍,然后在20-100℃下攪拌反應3-12小時,冷卻、過濾,洗滌濾餅4-9遍,于60-100℃干燥12-24小時即得到超分子插層結構抗光老化材料,表示為HALS/UVAB-LDH,其中HALS代表受阻胺光穩定劑,UVAB代表紫外吸收劑,受阻胺光穩定劑的利用率大于90%;
所述的受阻胺光穩定劑為四甲基哌啶類化合物,其化學式如下式所示:
式中R1為H或CH3;R2為O-R3-COONa、N-R3-COONa、O-R3-SO3Na或N-R3-SO3Na,其中R3為[CH2]k[C6H4]m[C3N3H4]n,k為0-8之間的整數,m、n=0或1。
2.根據權利要求1所述的超分子插層結構抗光老化材料的制備方法,其特征是步驟A中所述的M2+為Mg2+、Zn2+中的一種,M3+為Al3+。
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