[發明專利]光學掃描系統及方法在審
| 申請號： | 201810454632.3 | 申請日： | 2018-05-11 |
| 公開（公告）號： | CN108445619A | 公開（公告）日： | 2018-08-24 |
| 發明（設計）人： | 汪偉;彭其先;王旭;暢里華;李劍;肖正飛;劉寧文;溫偉峰;趙新才;何徽 | 申請（專利權）人： | 中國工程物理研究院流體物理研究所 |
| 主分類號： | G02B26/10 | 分類號： | G02B26/10 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 魏彥 |
| 地址： | 621000*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 補償透鏡 光學掃描系統 場鏡 視場光闌 透鏡組件 轉鏡 像面 高速掃描成像 動態成像 發光件 反射 光路 照射 發射 | ||
1.一種光學掃描系統，其特征在于，包括：視場光闌、場鏡、補償透鏡、透鏡組件、轉鏡和像面；
所述場鏡設置于所述視場光闌的一側；
所述補償透鏡設置于所述場鏡遠離所述視場光闌的一側；其中，所述補償透鏡用于對通過該補償透鏡的光進行補償；
所述透鏡組件設置于所述補償透鏡遠離所述場鏡的一側；
所述轉鏡設置于所述透鏡組件遠離所述補償透鏡的一側；
發光件發射的光路依次通過所述視場光闌、所述場鏡、所述補償透鏡、所述透鏡組件照射到所述轉鏡，并通過所述轉鏡反射到所述像面。
2.根據權利要求1所述的光學掃描系統，其特征在于，所述場鏡的法線、所述補償透鏡的法線和所述透鏡組件的法線位于同一直線。
3.根據權利要求1所述的光學掃描系統，其特征在于，所述場鏡為彎月形負透鏡。
4.根據權利要求1所述的光學掃描系統，其特征在于，所述視場光闌為單狹縫。
5.根據權利要求1所述的光學掃描系統，其特征在于，所述視場光闌為多條平行的多狹縫。
6.根據權利要求1所述的光學掃描系統，其特征在于，所述補償透鏡為柱面負透鏡。
7.根據權利要求1所述的光學掃描系統，其特征在于所述透鏡組件為中繼透鏡組。
8.根據權利要求1所述的光學掃描系統，其特征在于，所述轉鏡為鋼轉鏡。
9.根據權利要求8所述的光學掃描系統，其特征在于，所述鋼轉鏡的轉速范圍為6×104r/min～3×105r/min。
10.一種光學掃描方法，其特征在于，應用于權利要求1-9任一所述的光學掃描系統，所述方法包括：
根據轉鏡的轉速選擇對應焦距的補償透鏡，將所述補償透鏡設置于場鏡和透鏡組件之間；
采用發光件進行發光，其中，所述發光件發出的光依次通過視場光闌、所述場鏡、所述補償透鏡、所述透鏡組件照射到所述轉鏡；
采用像面獲取所述轉鏡反射的光。
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