[發(fā)明專利]用于制造用于開放式紡紗轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)子座的方法以及用于開放式紡紗轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)子座

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810450268.3
• 申請日: 2018-05-11
• 公開（公告）號: CN109082736A
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: M·庫布勒;B·洛斯;A·弗蘭克
• 申請（專利權(quán)）人: 里特機(jī)械公司
• 主分類號: D01H4/10
• 分類號: D01H4/10;D01H4/50
• 代理公司: 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102
• 代理人: 隆翔鷹

1.一種用于制造用于開放式紡紗轉(zhuǎn)子（1）的轉(zhuǎn)子座（10）的方法，在該方法中，所述轉(zhuǎn)子座（10）的端側(cè)邊緣（16）設(shè)有用于中斷和準(zhǔn)備接上線團(tuán)端部（5a）的分離結(jié)構(gòu)（17），其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）通過非機(jī)械制造方法、尤其通過非機(jī)械燒蝕方法來涂覆。

2.根據(jù)前述權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）通過激光燒蝕來涂覆。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）通過電化學(xué)燒蝕方法來涂覆。

4.根據(jù)權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）以數(shù)個互相間隔、優(yōu)選等距離互相間隔地布置的凹口（18）的形式來涂覆。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述轉(zhuǎn)子座（10）通過車削來制造，其中，車削所述轉(zhuǎn)子座（10）和涂覆所述分離結(jié)構(gòu)（17）以相同制造過程來實(shí)現(xiàn)。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述轉(zhuǎn)子座（10）設(shè)有涂層（19）、尤其設(shè)有鎳-金剛石-涂層并且優(yōu)選所述分離結(jié)構(gòu)（17）引入到所述涂層中。

7.一種用于開放式紡紗轉(zhuǎn)子（1）的轉(zhuǎn)子座（10），所述轉(zhuǎn)子座（10）帶有內(nèi)轉(zhuǎn)子壁（12）和外轉(zhuǎn)子壁（13）、轉(zhuǎn)子底部（14）和與所述轉(zhuǎn)子底部（14）相對的端側(cè)邊緣（16），該邊緣設(shè)有用于中斷和準(zhǔn)備接上線團(tuán)端部（5a）的分離結(jié)構(gòu)（17），其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）具有帶有微型輪廓（20）的表面。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，所述微型輪廓（20）的輪廓深度（PT）為小于50微米并且優(yōu)選大于5微米。

9.根據(jù)前述裝置權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，所述微型輪廓（20）不規(guī)則地構(gòu)造。

10.根據(jù)前述裝置權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，所述轉(zhuǎn)子座（10）的所述邊緣（16）設(shè)有數(shù)個互相間隔地、優(yōu)選等距離互相間隔地布置的分離結(jié)構(gòu)（17），尤其設(shè)有以凹口（18）形式的分離結(jié)構(gòu)（17）。

11.根據(jù)前述裝置權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，在所述轉(zhuǎn)子座（10）的整個周緣上分布地布置所述分離結(jié)構(gòu)（17）。

12.根據(jù)前述裝置權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）具有小于0.5毫米、優(yōu)選小于0.3毫米并且特別優(yōu)選小于0.2毫米的寬度（B）。

13.根據(jù)前述裝置權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）、尤其所述凹口（18）彼此間具有在0.2毫米到1.5毫米之間、優(yōu)選0.2毫米到1.0毫米之間、特別優(yōu)選在0.3毫米到0.8毫米之間的間隔（A）。

14.根據(jù)前述裝置權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）具有小于100微米、優(yōu)選小于70微米并且特別優(yōu)選小于50微米的深度（T）或者高度（H）。

15.根據(jù)前述裝置權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，所述分離結(jié)構(gòu)（17）延伸至所述內(nèi)轉(zhuǎn)子壁（12）和/或所述外轉(zhuǎn)子壁（13）中。

16.根據(jù)前述裝置權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的轉(zhuǎn)子座（10），其特征在于，所述轉(zhuǎn)子座（10）具有涂層（19）、尤其鎳-金剛石-涂層，其中，優(yōu)選將所述分離結(jié)構(gòu)（17）僅引入到所述涂層（19）中。