[發(fā)明專利]噴嘴清掃裝置、涂敷裝置和噴嘴清掃方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810449439.0
• 申請日: 2018-05-11
• 公開（公告）號: CN108855720B
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設計）人: 安陪裕滋;高村幸宏
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: B05B15/50
• 分類號: B05B15/50;B05B1/04
• 代理公司: 隆天知識產(chǎn)權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇;崔炳哲

1.一種噴嘴清掃裝置，其特征在于，具備：

噴嘴抵接構件，具有能夠與噴嘴的頂端部抵接的凹部，所述噴嘴設置有噴出涂敷液的狹縫狀的噴出口；

支撐部，支撐所述噴嘴抵接構件，

開口調(diào)整部，從與所述噴出口的延伸方向交叉的方向對處于被所述支撐部支撐狀態(tài)下的所述噴嘴抵接構件施加應力來調(diào)整所述凹部的開口形狀；以及

驅動部，使所述噴嘴抵接構件在所述延伸方向上相對地移動，

在將由所述開口調(diào)整部調(diào)整了開口形狀的所述凹部按壓于所述頂端部的狀態(tài)下，所述驅動部使所述噴嘴抵接構件相對于所述頂端部在所述延伸方向上移動來清掃所述頂端部，

所述開口調(diào)整部具有應力施加構件，所述應力施加構件從所述凹部的寬度方向中的至少一方的外側對所述噴嘴抵接構件施加應力來使所述凹部變形。

2.根據(jù)權利要求1所述的噴嘴清掃裝置，其特征在于，

所述開口調(diào)整部通過使所述凹部的內(nèi)側面中的施加有所述應力的一側的內(nèi)側面的傾斜改變，來調(diào)整所述凹部的開口形狀。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的噴嘴清掃裝置，其特征在于，

所述噴嘴抵接構件是彈性體。

4.一種涂敷裝置，其特征在于，具備：

噴嘴，從狹縫狀的噴出口噴出涂敷液；以及

權利要求1至3中任一項所述的噴嘴清掃裝置。

5.一種噴嘴清掃方法，通過噴嘴抵接構件來清掃設置有噴出涂敷液的狹縫狀的噴出口的噴嘴的頂端部，其特征在于，所述噴嘴清掃方法包括：

開口調(diào)整工序，通過開口調(diào)整部從與所述噴出口的延伸方向交叉的方向對處于被支撐部支撐狀態(tài)下的所述噴嘴抵接構件施加應力，來調(diào)整設置于所述噴嘴抵接構件的凹部的開口形狀；以及

清掃工序，在將已調(diào)整了開口形狀的所述凹部按壓于所述頂端部的狀態(tài)下，使所述噴嘴抵接構件相對于所述頂端部在所述延伸方向上移動來清掃所述頂端部，

其中，通過所述開口調(diào)整部的應力施加構件從所述凹部的寬度方向中的至少一方的外側對所述噴嘴抵接構件施加應力來使所述凹部變形。