[發(fā)明專利]噴嘴清掃裝置、涂敷裝置和噴嘴清掃方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810448191.6
• 申請(qǐng)日: 2018-05-11
• 公開（公告）號(hào): CN108855719B
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安陪裕滋;高村幸宏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫(kù)林集團(tuán)
• 主分類號(hào): B05B15/50
• 分類號(hào): B05B15/50;B05B1/04
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇;崔炳哲

本發(fā)明涉及噴嘴清掃技術(shù)，在將噴嘴抵接構(gòu)件的凹部按壓于噴嘴的頂端部的狀態(tài)下清掃上述頂端部，防止噴嘴抵接構(gòu)件的局部性摩耗來延長(zhǎng)噴嘴抵接構(gòu)件的壽命并且減少摩擦粉的產(chǎn)生。噴嘴清掃裝置具備：噴嘴抵接構(gòu)件，設(shè)置有凹部，凹部具有能夠與頂端部抵接的內(nèi)側(cè)面；以及驅(qū)動(dòng)部，在噴嘴抵接構(gòu)件按壓于頂端部的狀態(tài)下，使噴嘴抵接構(gòu)件相對(duì)于頂端部在噴出口的延伸方向上移動(dòng)。在噴嘴抵接構(gòu)件未對(duì)頂端部施加按壓的狀態(tài)下，噴嘴抵接構(gòu)件利用內(nèi)側(cè)面中的凹部的開口側(cè)的端部卡止頂端部，另一方面，在噴嘴抵接構(gòu)件對(duì)頂端部施加按壓的狀態(tài)下，頂端部與凹部彼此接近，由此使凹部彈性變形，擴(kuò)展內(nèi)側(cè)面對(duì)頂端部的按壓范圍。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及涂敷裝置和噴嘴清掃技術(shù)，其中，涂敷裝置從設(shè)置于噴嘴的頂端部的噴出口噴出涂敷液來涂敷液晶顯示裝置用玻璃基板、半導(dǎo)體基板、等離子顯示器(PDP：Plasma Display Panel)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、濾色片用基板、存儲(chǔ)盤用基板、太陽能電池用基板、電子紙用基板等精密電子裝置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板、有機(jī)電致發(fā)光(EL：Electro Luminescence)用基板(以下簡(jiǎn)稱為“基板”)，噴嘴清掃技術(shù)去除附著于上述噴嘴的頂端部的附著物來進(jìn)行清掃。

背景技術(shù)

以往，為了向基板涂敷涂敷液，通常使用例如專利第5346643號(hào)公報(bào)中記載那樣從噴出口噴出涂敷液的噴嘴。在這樣的噴嘴中，存在附著在設(shè)置有噴出口的頂端部的側(cè)面上的涂敷液等附著物干燥硬化而落在基板上，導(dǎo)致污染基板的情況。因此，使用例如日本專利第5766990號(hào)公報(bào)所記載的涂敷液的去除技術(shù)。日本專利第5766990號(hào)公報(bào)所記載的狹縫式涂敷機(jī)(涂敷裝置)中，在通過噴嘴開始涂敷前執(zhí)行噴嘴清掃處理。在該噴嘴清掃處理中，通過在使設(shè)置于擦拭頭的噴嘴抵接構(gòu)件與噴嘴的頂端部抵接的狀態(tài)下使擦拭頭相對(duì)噴嘴移動(dòng)，去除附著于噴嘴的頂端部的側(cè)面的涂敷液。

但是，在上述日本專利第5766990號(hào)公報(bào)所記載的狹縫式涂敷機(jī)中，清掃構(gòu)件具有與噴嘴的頂端部配合的大致V字狀的凹部。而且，清掃構(gòu)件被彈簧等彈性體施加鉛垂方向上方的力，凹部壓在噴嘴的頂端部，在該狀態(tài)下，擦拭頭沿著噴嘴的頂端部移動(dòng)。這樣通過將凹部壓在噴嘴的頂端部，使向清掃構(gòu)件施加的應(yīng)力集中在與噴嘴的頂端部的角部分抵接的部位。因此，在反復(fù)進(jìn)行噴嘴的頂端部的清掃的期間，有時(shí)上述部位局部性摩耗，從而清掃構(gòu)件的凹部的形狀發(fā)生變化(參照例如在后面說明的圖7的(a-1)～(a-3))。因該形狀變化而產(chǎn)生清掃性能降低的問題。此外，有時(shí)上述摩耗產(chǎn)生摩擦粉并進(jìn)入到噴出口，摩擦粉與涂敷液一同被供給至基板的表面，從而導(dǎo)致涂敷品質(zhì)的降低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于，在將噴嘴抵接構(gòu)件的凹部壓在噴嘴的頂端部的狀態(tài)下清掃上述頂端部的噴嘴清掃技術(shù)中，防止噴嘴抵接構(gòu)件的局部性摩耗來延長(zhǎng)噴嘴抵接構(gòu)件的壽命，并減少摩擦粉的產(chǎn)生。

本發(fā)明的第一方式是噴嘴清掃裝置，對(duì)噴嘴的頂端部進(jìn)行清掃，該噴嘴設(shè)置有噴出涂敷液的狹縫狀的噴出口，其特征在于，噴嘴清掃裝置具備：噴嘴抵接構(gòu)件，設(shè)置有凹部，凹部具有能夠與頂端部抵接的內(nèi)側(cè)面，以及驅(qū)動(dòng)部，在噴嘴抵接構(gòu)件按壓于頂端部的狀態(tài)下，使噴嘴抵接構(gòu)件相對(duì)于頂端部在噴出口的延伸方向上移動(dòng)。在噴嘴抵接構(gòu)件未對(duì)頂端部施加按壓的狀態(tài)下，噴嘴抵接構(gòu)件利用內(nèi)側(cè)面中的凹部的開口側(cè)的端部卡止頂端部，另一方面，在噴嘴抵接構(gòu)件對(duì)頂端部施加按壓的狀態(tài)下，頂端部與凹部彼此接近，由此使凹部彈性變形，擴(kuò)展內(nèi)側(cè)面對(duì)頂端部的按壓范圍。

此外，本發(fā)明的第二方式是噴嘴清掃方法，其特征在于，具備：利用在噴嘴抵接構(gòu)件設(shè)置的凹部的內(nèi)側(cè)面中的凹部的開口側(cè)的端部，卡止設(shè)置有用于噴出涂敷液的狹縫狀的噴出口的噴嘴的頂端部的工序；將噴嘴抵接構(gòu)件按壓于利用凹部的開口側(cè)的端部卡止的頂端部，由此使凹部彈性變形，利用內(nèi)側(cè)面按壓頂端部的工序；以及在凹部的內(nèi)側(cè)面按壓頂端部的狀態(tài)下，使噴嘴抵接構(gòu)件在噴出口的延伸方向上相對(duì)移動(dòng)來清掃頂端部的工序。