[發(fā)明專利]一種鍍膜治具、鍍膜機(jī)及鍍膜時(shí)定位方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810448165.3 | 申請日: | 2018-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN108342711B | 公開(公告)日: | 2019-11-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐志淮 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山彰盛奈米科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;C23C14/22 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 孫輝 |
| 地址: | 215331 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍍膜治具 固定框 矽鋼片 磁場裝置 第一端 鍍膜機(jī) 固定線 內(nèi)徑部 鍍膜 內(nèi)壁 鍍膜效果 機(jī)械設(shè)備 內(nèi)壁周圍 安裝軸 導(dǎo)向槽 抵接 框體 膜破 磁場 橫跨 承接 通電 干涉 延伸 配置 | ||
本發(fā)明涉及機(jī)械設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種鍍膜治具、鍍膜機(jī)及鍍膜時(shí)定位方法。一種鍍膜治具,其包括固定框、多個(gè)固定線,以及磁場裝置。固定框具有橫跨框體的相對的第一端和第二端;固定線的兩端分別設(shè)置在第一端和第二端上;磁場裝置設(shè)置在鍍膜機(jī)內(nèi)壁周圍且位于固定框周圍,磁場裝置通電時(shí)配置為生成從固定框的第一端到第二端的磁場;矽鋼片包括環(huán)形的內(nèi)徑部,固定線抵接在矽鋼片的內(nèi)徑部的內(nèi)壁,以承接矽鋼片;矽鋼片的內(nèi)徑部的內(nèi)壁上設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)沿厚度方向延伸的導(dǎo)向槽。這樣的鍍膜治具鍍膜效果避免了內(nèi)徑膜破點(diǎn)與安裝軸之間的干涉,提高了安裝精度,具有顯著的經(jīng)濟(jì)效益。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及機(jī)械設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種鍍膜治具、鍍膜機(jī)及鍍膜時(shí)定位方法。
背景技術(shù)
電機(jī)用矽鋼片比較輕薄,直徑較小的結(jié)構(gòu)。一般需要對其進(jìn)行鍍膜或者其他處理以達(dá)到防腐或者絕緣的目的。
相關(guān)技術(shù)中一般的矽鋼片鍍膜工藝和方法如下:將矽鋼片的內(nèi)徑掛在普通的掛鉤治具上,然后到鍍膜機(jī)中進(jìn)行鍍膜處理。處理完成后,將掛鉤去除,由于鍍膜過程中掛鉤在矽鋼片內(nèi)徑的表面,除去掛鉤時(shí),其將帶走部分膜層,導(dǎo)致內(nèi)徑的膜層不完整有破損,破壞公差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種鍍膜治具,其能夠高效、快捷地完成對矽鋼片的鍍膜,且這樣的鍍膜治具不會造成矽鋼片內(nèi)徑的膜層不完整或有破損的情況,同時(shí)這樣的鍍膜治具結(jié)構(gòu)簡單、操作方便,能夠明顯地提高鍍膜效率,制造方便,有利于大規(guī)模流水線生產(chǎn)。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種包括上述鍍膜治具的鍍膜機(jī),這樣的鍍膜機(jī)能夠大規(guī)模、大批量,高效地完成對矽鋼片的鍍膜,且這樣的鍍膜治具不會造成矽鋼片內(nèi)徑的膜層不完整或有破損的情況。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種基于上述鍍膜治具的鍍膜時(shí)定位方法,這樣的鍍膜時(shí)定位方法簡便易行,能夠高效地完成對矽鋼片的鍍膜。
本發(fā)明的實(shí)施例是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種鍍膜治具,其包括:
固定框,固定框具有橫跨框體的相對的第一端和第二端;
多個(gè)固定線,固定線的兩端分別設(shè)置在第一端和第二端上;
磁場裝置,磁場裝置設(shè)置在固定框周圍,磁場裝置通電時(shí)被配置為生成從固定框的第一端到第二端的磁場;
矽鋼片包括環(huán)形的內(nèi)徑部;固定線抵接在矽鋼片的內(nèi)徑部的內(nèi)壁,以承接矽鋼片,矽鋼片的內(nèi)徑部的內(nèi)壁上設(shè)置有沿厚度方向延伸的導(dǎo)向槽。
現(xiàn)有技術(shù)中對矽鋼片鍍膜時(shí),先將矽鋼片的內(nèi)徑掛在普通的掛鉤治具上,然后到鍍膜機(jī)中進(jìn)行鍍膜處理。處理完成后,將掛鉤去除,由于鍍膜過程中掛鉤在矽鋼片內(nèi)徑的表面,除去掛鉤時(shí),其將帶走部分膜層,導(dǎo)致內(nèi)徑的膜層不完整有破損。
據(jù)此,發(fā)明人發(fā)明了一種鍍膜治具,其包括固定框和設(shè)置在固定框上的固定線。使用時(shí),將矽鋼片的內(nèi)徑部穿設(shè)在固定線上,因?yàn)楣潭ň€與矽鋼片內(nèi)徑的接觸面積小(幾乎可以忽略),如此改善了現(xiàn)有技術(shù)鍍膜后導(dǎo)致矽鋼片內(nèi)徑的膜層不完整有破損的情況。進(jìn)一步地,磁場裝置設(shè)置在固定框周圍,磁場裝置通電時(shí)被配置為生成從固定框的第一端到第二端的磁場。如此使得穿設(shè)在固定線上的多個(gè)矽鋼片能夠沿磁場方向均勻分布,只要磁場裝置持續(xù)生成磁場,多個(gè)矽鋼片就能保持均勻的相對位置關(guān)系。進(jìn)一步地,磁場裝置產(chǎn)生的磁場位于固定線延伸的方向,多個(gè)矽鋼片沿電磁場的磁感線方向排列。使用時(shí),磁場裝置通電,通過電磁感應(yīng)產(chǎn)生電磁場,矽鋼片在磁場中充磁。充磁后的矽鋼片均得到了磁場方向相同的磁場,在同一固定線上,相鄰的矽鋼片在同性磁極相互排斥的作用力下相互分開,即使得同一固定線上的多個(gè)矽鋼片保持均勻的相對位置關(guān)系。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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