[發明專利]光源系統、投影設備及照明設備

有效

• 申請號: 201810444994.4
• 申請日: 2018-05-10
• 公開（公告）號: CN110471245B
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: 郭祖強;杜鵬;魯寧
• 申請（專利權）人: 深圳光峰科技股份有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 唐芳芳

1.一種光源系統，其特征在于，包括：

激發光源，用于發出第一色激光；

補充光源，用于發出與所述第一色激光顏色不同的補充光，所述補充光為激光；

光路選擇元件，包括：

透射部，用于透射所述第一色激光；

光路選擇部，用于將所述第一色激光隨時序反射至第一光路或第二光路；及

驅動部，用于帶動所述透射部與所述光路選擇部交替位于所述第一色激光的光路上；

第一波長轉換裝置，用于在沿所述第一光路傳輸的第一色激光的激發下產生第二色熒光；及

第二波長轉換裝置，用于在沿所述第二光路傳輸的第一色激光的激發下產生第三色熒光；

控制裝置，當所述透射部位于所述第一色激光的光路上時，所述控制裝置控制所述補充光源不發光；當所述光路選擇部位于所述第一色激光的光路上時，所述控制裝置控制所述補充光源發光；

所述第二色熒光、所述第三色熒光、所述補充光、與所述光路選擇元件透射的第一色激光合光后出射。

2.如權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述光路選擇部包括由第一反射部與第二反射部表面組成的起伏表面，所述第一反射部用于將所述第一色激光引導至所述第一光路，所述第二反射部用于將所述第一色激光引導至所述第二光路。

3.如權利要求2所述的光源系統，其特征在于，所述起伏表面設置有第一區段與第二區段，所述第一區段中設置有所述第一反射部，所述第二區段中設置有所述第二反射部。

4.如權利要求2所述的光源系統，其特征在于，所述第一反射部與所述第二反射部交錯設置或相鄰設置。

5.如權利要求2所述的光源系統，其特征在于，所述第一反射部與所述第二反射部為反射路徑不同的平面或曲面。

6.如權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述光源系統在鄰近所述第一波長轉換裝置及所述第二波長轉換裝置的位置分別設置有對應的收集透鏡組，每個收集透鏡組分別用于會聚光線至對應的波長轉換裝置，以及用于將對應波長轉換裝置出射的熒光進行準直后出射。

7.如權利要求1所述的光源系統，其特征在于，所述光源系統還包括勻光裝置，所述第二色熒光、所述第三色熒光、所述補充光、與所述光路選擇元件透射的第一色激光合光后入射至所述勻光裝置。

8.如權利要求1-7任意一項所述的光源系統，其特征在于，所述光源系統還包括第一分光濾光片，用于引導所述第一波長轉換裝置出射的第二色熒光與所述第二波長轉換裝置出射的第三色熒光沿同一光路出射；

所述第一分光濾光片設置有第一區域與第二區域，其中，所述第一區域用于將沿所述第一光路傳輸的第一色激光引導至所述第一波長轉換裝置，所述第二區域用于將沿所述第二光路傳輸的第一色激光引導至所述第二波長轉換裝置。

9.如權利要求8所述的光源系統，其特征在于，所述光源系統還包括第二分光濾光片，所述第二分光濾光片用于引導所述補充光、所述第一分光濾光片出射的第二色熒光與第三色熒光、以及所述光路選擇元件透射的第一色激光沿同一光路出射。

10.如權利要求9所述的光源系統，其特征在于，準直后的第二色熒光與第三色熒光照射至所述第二分光濾光片表面，所述第二分光濾光片包括鍍膜區域與邊緣區域，所述補充光與所述光路選擇元件出射的第一色激光會聚于所述鍍膜區域附近，所述鍍膜區域用于反射所述補充光與所述光路選擇元件透射的第一色激光，所述邊緣區域用于透射所述第二色熒光與所述第三色熒光。

11.如權利要求10所述的光源系統，其特征在于，所述鍍膜區域用于反射預設波長范圍的光線，所述第一色激光與所述補充光的波長范圍位于所述預設波長范圍內。