[發(fā)明專(zhuān)利]具有多層光學(xué)膜的淺色耐刮擦制品有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810443138.7 | 申請(qǐng)日： | 2014-05-06 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN108646323B | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-08-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | R·A·貝爾曼;S·D·哈特;K·W·科齊三世;C·A·保爾森;J·J·普萊斯 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 康寧股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G02B1/14 | 分類(lèi)號(hào)： | G02B1/14;G02B1/115;G02B1/113;G02B1/10;C04B35/597;C04B35/58;C03C17/34 |
| 代理公司： | 上海專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人： | 樂(lè)洪詠;沙永生 |
| 地址： | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 多層 光學(xué) 淺色 耐刮擦 制品 | ||
1.一種消費(fèi)電子設(shè)備，其包括：
包含用戶(hù)界面的顯示器；以及
設(shè)置在顯示器上的防護(hù)制品，所述防護(hù)制品包含具有表面的基片和設(shè)置在基片表面上形成涂覆表面的光學(xué)薄膜，所述光學(xué)薄膜包含：
物理厚度為0.2-3μm的耐刮擦層，以及
光學(xué)干涉層，所述光學(xué)干涉層包含第一低折射率(RI)亞層和第二高RI亞層，其中所述光學(xué)干涉層中的每個(gè)亞層具有2-200nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度(n*d)，且所述光學(xué)干涉層中的至少一個(gè)亞層具有50nm以上的光學(xué)厚度。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述防護(hù)制品具有：12GPa以上的最大硬度，其利用伯克維奇壓頭硬度測(cè)試法沿100nm以上的壓入深度測(cè)量；在可見(jiàn)光譜范圍內(nèi)85％以上的平均透光率；當(dāng)在包含CIE A光源、CIE B光源、CIE C光源、CIE D光源或CIE F光源的光源下相對(duì)于垂直入射2-60度范圍內(nèi)的入射照明角度觀(guān)察時(shí)2以下的色偏。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，所述色偏利用下式確定：a*1和b*1表示沿垂直入射方向觀(guān)察時(shí)制品的坐標(biāo)，a*2和b*2表示沿入射照明角度觀(guān)察時(shí)制品的坐標(biāo)，其中沿垂直入射方向和入射照明角度觀(guān)察時(shí)制品的坐標(biāo)均為透射或反射坐標(biāo)。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)干涉層設(shè)置在耐刮擦層與基片之間。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述第一低RI亞層的折射率與所述第二高RI亞層的折射率之差為0.01以上。
6.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)干涉層包含多個(gè)亞層組，所述多個(gè)亞層組包含第一低RI亞層和第二高RI亞層。
7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)干涉層還包含第三亞層，所述第三亞層設(shè)置在：
所述多個(gè)亞層組與所述耐刮擦層之間；以及/或者
所述基片與所述多個(gè)亞層組之間，
其中所述第三亞層所具有的RI處在所述第一低RI亞層的折射率與所述第二高RI亞層的折射率之間。
8.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)干涉薄膜包含最多10個(gè)亞層組。
9.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其特征在于，所述第一低RI亞層與所述第二高RI亞層中的至少一個(gè)亞層具有2-200nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度(n*d)。
10.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)干涉層具有800nm以下的物理厚度。
11.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)干涉層在光學(xué)波長(zhǎng)區(qū)內(nèi)具有0.5％以下的平均反光率。
12.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述防護(hù)制品在光學(xué)波長(zhǎng)區(qū)具有平均振幅為5個(gè)百分點(diǎn)以下的平均透射率或平均反射率。
13.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述基片包含無(wú)定形基片或晶體基片。
14.如權(quán)利要求13所述的設(shè)備，其特征在于，所述無(wú)定形基片包含選自下組的玻璃：鈉鈣玻璃、堿金屬鋁硅酸鹽玻璃、含堿金屬的硼硅酸鹽玻璃和堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃。
15.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備，其特征在于，所述玻璃經(jīng)過(guò)化學(xué)強(qiáng)化，并且包含壓縮應(yīng)力(CS)層，該壓縮應(yīng)力層具有至少250MPa的表面CS，在化學(xué)強(qiáng)化玻璃內(nèi)自化學(xué)強(qiáng)化玻璃表面延伸至至少10μm的層深度(DOL)。
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