[發(fā)明專利]具有多層光學(xué)膜的淺色耐刮擦制品有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810443138.7 | 申請日: | 2014-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN108646323B | 公開(公告)日: | 2020-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | R·A·貝爾曼;S·D·哈特;K·W·科齊三世;C·A·保爾森;J·J·普萊斯 | 申請(專利權(quán))人: | 康寧股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/14 | 分類號: | G02B1/14;G02B1/115;G02B1/113;G02B1/10;C04B35/597;C04B35/58;C03C17/34 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 樂洪詠;沙永生 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 多層 光學(xué) 淺色 耐刮擦 制品 | ||
1.一種消費(fèi)電子設(shè)備,其包括:
包含用戶界面的顯示器;以及
設(shè)置在顯示器上的防護(hù)制品,所述防護(hù)制品包含具有表面的基片和設(shè)置在基片表面上形成涂覆表面的光學(xué)薄膜,所述光學(xué)薄膜包含:
物理厚度為0.2-3μm的耐刮擦層,以及
光學(xué)干涉層,所述光學(xué)干涉層包含第一低折射率(RI)亞層和第二高RI亞層,其中所述光學(xué)干涉層中的每個亞層具有2-200nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度(n*d),且所述光學(xué)干涉層中的至少一個亞層具有50nm以上的光學(xué)厚度。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述防護(hù)制品具有:12GPa以上的最大硬度,其利用伯克維奇壓頭硬度測試法沿100nm以上的壓入深度測量;在可見光譜范圍內(nèi)85%以上的平均透光率;當(dāng)在包含CIE A光源、CIE B光源、CIE C光源、CIE D光源或CIE F光源的光源下相對于垂直入射2-60度范圍內(nèi)的入射照明角度觀察時2以下的色偏。
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其特征在于,所述色偏利用下式確定:a*1和b*1表示沿垂直入射方向觀察時制品的坐標(biāo),a*2和b*2表示沿入射照明角度觀察時制品的坐標(biāo),其中沿垂直入射方向和入射照明角度觀察時制品的坐標(biāo)均為透射或反射坐標(biāo)。
4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述光學(xué)干涉層設(shè)置在耐刮擦層與基片之間。
5.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述第一低RI亞層的折射率與所述第二高RI亞層的折射率之差為0.01以上。
6.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其特征在于,所述光學(xué)干涉層包含多個亞層組,所述多個亞層組包含第一低RI亞層和第二高RI亞層。
7.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述光學(xué)干涉層還包含第三亞層,所述第三亞層設(shè)置在:
所述多個亞層組與所述耐刮擦層之間;以及/或者
所述基片與所述多個亞層組之間,
其中所述第三亞層所具有的RI處在所述第一低RI亞層的折射率與所述第二高RI亞層的折射率之間。
8.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述光學(xué)干涉薄膜包含最多10個亞層組。
9.如權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其特征在于,所述第一低RI亞層與所述第二高RI亞層中的至少一個亞層具有2-200nm范圍內(nèi)的光學(xué)厚度(n*d)。
10.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其特征在于,所述光學(xué)干涉層具有800nm以下的物理厚度。
11.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其特征在于,所述光學(xué)干涉層在光學(xué)波長區(qū)內(nèi)具有0.5%以下的平均反光率。
12.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述防護(hù)制品在光學(xué)波長區(qū)具有平均振幅為5個百分點(diǎn)以下的平均透射率或平均反射率。
13.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其特征在于,所述基片包含無定形基片或晶體基片。
14.如權(quán)利要求13所述的設(shè)備,其特征在于,所述無定形基片包含選自下組的玻璃:鈉鈣玻璃、堿金屬鋁硅酸鹽玻璃、含堿金屬的硼硅酸鹽玻璃和堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃。
15.如權(quán)利要求14所述的設(shè)備,其特征在于,所述玻璃經(jīng)過化學(xué)強(qiáng)化,并且包含壓縮應(yīng)力(CS)層,該壓縮應(yīng)力層具有至少250MPa的表面CS,在化學(xué)強(qiáng)化玻璃內(nèi)自化學(xué)強(qiáng)化玻璃表面延伸至至少10μm的層深度(DOL)。
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