[發(fā)明專利]一種熱處理輔助激光熔覆方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810442242.4 | 申請日: | 2018-05-10 |
| 公開(公告)號: | CN108359981B | 公開(公告)日: | 2020-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 簡明德;孔令華;練國富;雷鵬達(dá) | 申請(專利權(quán))人: | 福建工程學(xué)院 |
| 主分類號: | C23C24/10 | 分類號: | C23C24/10;C21D1/00;C21D11/00 |
| 代理公司: | 福州市鼓樓區(qū)京華專利事務(wù)所(普通合伙) 35212 | 代理人: | 王美花 |
| 地址: | 350000 福建省福州*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 熱處理 輔助 激光 方法 | ||
本發(fā)明提供一種熱處理輔助激光熔覆方法,包括如下步驟:步驟10、基體表面預(yù)處理后將預(yù)置層放置在基體上,將放有預(yù)置層的基體放置于熱處理爐的工作臺中;步驟20、關(guān)閉熱處理爐的蓋子形成密閉空間,熱處理爐按每分鐘至多上升10℃的速率對熱處理爐的爐內(nèi)溫度進(jìn)行升溫,直至達(dá)到熱處理爐的預(yù)設(shè)爐內(nèi)溫度;步驟30、打開熱處理爐的蓋子,用激光器對準(zhǔn)基體上放置的預(yù)置層進(jìn)行激光熔覆;步驟40、關(guān)閉熱處理爐的蓋子形成密閉空間,完成激光熔覆的基體在熱處理爐中冷卻至室溫;步驟50、取出已激光熔覆完成的基體;本發(fā)明在于提供一種克服激光快速加熱、快速冷卻過程中裂紋敏感性大的缺點,提供一種高效、操作簡便、環(huán)保的一種熱處理輔助激光熔覆方法。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光熔覆領(lǐng)域,特別指一種熱處理輔助激光熔覆方法。
背景技術(shù)
熱處理是指金屬材料在固態(tài)下,通過加熱、保溫和冷卻的手段,改變材料表面或內(nèi)部的化學(xué)成分與組織,獲得所需性能的一種金屬熱加工工藝。常見的熱處理包括:正火、退火、回火以及淬火,以退火為例。退火是一種金屬熱處理工藝,指的是將金屬緩慢加熱到一定溫度,保持足夠時間,然后以適宜速度冷卻。目的是降低硬度,改善切削加工性;消除殘余應(yīng)力,穩(wěn)定尺寸,減少變形與裂紋傾向;細(xì)化晶粒,調(diào)整組織,消除組織缺陷。準(zhǔn)確的說,退火是一種對材料的熱處理工藝。
激光熔覆技術(shù)是指以不同的添料方式在被涂敷基體表面上放置選擇的涂層材料,經(jīng)高能激光束使之和基體表面-薄層同時熔化,并快速凝固后形成稀釋度極低,與基體材料成冶金結(jié)合的表面涂層,從而顯著改善基體材料表面的耐磨、耐蝕、耐熱、抗氧化性等的工藝。
激光熔覆作為表面工程技術(shù)領(lǐng)域的一種新興技術(shù),因其具有界面為冶金結(jié)合、組織極細(xì)、預(yù)置層稀釋率地,厚度可控、熱畸變小等諸多獨特的優(yōu)點,已成為比較活躍的研究領(lǐng)域。但其缺點在于激光熔覆是一個復(fù)雜的物理、化學(xué)及冶金過程,基體與預(yù)置層在快速加熱和快速冷卻以及熔化凝固過程中極易產(chǎn)生拉應(yīng)力,裂紋敏感性大大提高,使熔覆層(預(yù)置層與基體激光熔覆完成后,稱為熔覆層)產(chǎn)生裂紋,而且生成氣孔。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題,在于提供一種克服激光快速加熱、快速冷卻過程中裂紋敏感性大的缺點,提供一種高效、操作簡便、環(huán)保且不影響激光熔覆的一種熱處理輔助激光熔覆方法。
本發(fā)明具體包括如下步驟:
一種熱處理輔助激光熔覆方法,包括如下步驟:
步驟10、基體表面預(yù)處理后將預(yù)置層放置在基體上,將放有預(yù)置層的基體放置于熱處理爐的工作臺中;
步驟20、關(guān)閉熱處理爐的蓋子形成密閉空間,熱處理爐按每分鐘至多上升10℃的速率對熱處理爐的爐內(nèi)溫度進(jìn)行升溫,直至達(dá)到熱處理爐的預(yù)設(shè)爐內(nèi)溫度;
步驟30、打開熱處理爐的蓋子,用激光器對準(zhǔn)基體表面以及基體上放置的預(yù)置層進(jìn)行激光熔覆,激光熔覆完成后基體表面形成熔覆層;
步驟40、關(guān)閉熱處理爐的蓋子形成密閉空間,完成激光熔覆的基體在熱處理爐中冷卻至室溫;
步驟50、取出已激光熔覆完成的基體。
優(yōu)選地,還包括步驟21、達(dá)到熱處理爐的預(yù)設(shè)爐內(nèi)溫度后,在此溫度保持至少一小時。
優(yōu)選地,還包括步驟41、完成激光熔覆的基體在熱處理爐中冷卻至室溫后再進(jìn)行正火、退火、回火或淬火的熱處理過程。
優(yōu)選地,所述步驟40、完成激光熔覆的基體的熔覆層冷卻溫度控制在每分鐘下降5℃-10℃范圍內(nèi)。
優(yōu)選地,所述步驟20、熱處理爐的預(yù)設(shè)爐內(nèi)溫度按照能夠?qū)崿F(xiàn)基體表面軟化的溫度進(jìn)行設(shè)置。
優(yōu)選地,所述步驟20、熱處理爐按每分鐘上升5℃-10℃的速率對熱處理爐的爐內(nèi)溫度進(jìn)行升溫。
本發(fā)明具有如下優(yōu)點:
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