[發(fā)明專利]一種水浴裝置及水浴加熱方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810441256.4
• 申請日: 2018-05-10
• 公開（公告）號: CN108479880A
• 公開（公告）日: 2018-09-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王震;朱曉丹;徐榮;孫娟;史斌;王超;王輝
• 申請（專利權(quán)）人: 青島順昕電子科技有限公司
• 主分類號: B01L7/02
• 分類號: B01L7/02
• 代理公司: 青島聯(lián)智專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 37101
• 代理人: 崔濱生

本發(fā)明提出一種水浴裝置，包括有控制器、水浴箱、冷凝器和設(shè)置在水浴箱中的密閉的反應(yīng)容器、所述水浴箱分為上層中空區(qū)和密閉的下層加熱區(qū)，所述下層加熱區(qū)上連接有進(jìn)水裝置、抽水裝置和可使下層加熱區(qū)的水循環(huán)流通的循環(huán)裝置，所述反應(yīng)容器插裝所述下層加熱區(qū)內(nèi)且與所述下層加熱區(qū)之間密封連接，所述冷凝器與所述下層加熱區(qū)連通；在所述下層加熱區(qū)內(nèi)設(shè)置有加熱裝置，水溫檢測元件和液位檢測元件，所述加熱裝置、水溫檢測元件、液位檢測元件均與所述控制器通訊連接。通過發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中水浴裝置水蒸汽外泄、各部位溫度不均勻、水浴不能自動補(bǔ)水的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種水浴裝置及其水浴加熱方法。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)對樣品反應(yīng)容器進(jìn)行加熱的水浴裝置大都是敞開式水浴加熱方式，即采用露天式水浴箱，將反應(yīng)容器放在水浴箱內(nèi)進(jìn)行加熱，水浴箱在進(jìn)行加熱時，水浴箱中的水蒸汽會不斷被蒸發(fā)掉，造成蒸汽外泄，對水浴箱進(jìn)行補(bǔ)水時主要通過人工手動添加水，操作繁瑣 ；同時，隨水浴箱加熱時，只是對水浴箱的某個位置進(jìn)行加熱，導(dǎo)致水浴箱內(nèi)部容易存在各部分溫度不均勻的問題，對反應(yīng)容器的加熱不均勻，導(dǎo)致樣品反應(yīng)不充分，樣品測試準(zhǔn)確率變低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種水浴裝置，解決現(xiàn)有技術(shù)中水浴裝置水蒸汽外泄、各部位溫度不均勻、水浴不能自動補(bǔ)水的問題。

為達(dá)到解決上述技術(shù)問題的目的，本發(fā)明所提出的水浴裝置采用以下技術(shù)方案予以實現(xiàn)：

一種水浴裝置，包括有控制器、水浴箱、冷凝器和設(shè)置在水浴箱中的密閉的反應(yīng)容器、所述水浴箱分為上層中空區(qū)和密閉的下層加熱區(qū)，所述下層加熱區(qū)上連接有進(jìn)水裝置、抽水裝置和可使下層加熱區(qū)的水循環(huán)流通的循環(huán)裝置，所述反應(yīng)容器插裝在所述下層加熱區(qū)內(nèi)且與所述下層加熱區(qū)之間密封連接，所述冷凝器與所述下層加熱區(qū)連通；在所述下層加熱區(qū)內(nèi)設(shè)置有加熱裝置，水溫檢測元件和液位檢測元件，所述加熱裝置、水溫檢測元件、液位檢測元件均與所述控制器通訊連接。

一種采用上述技術(shù)方案中所述的水浴裝置的水浴加熱方法，包括如下步驟：

（1、）自動進(jìn)水：控制器發(fā)信號給進(jìn)水裝置，進(jìn)水裝置啟動，往水浴箱中注水，待注入的水觸碰到液位傳感器后，液位傳感器傳遞信號給控制器，控制器發(fā)信號到進(jìn)水裝置，進(jìn)水裝置動作，停止工作。

（2、）自動循環(huán)加熱：控制器發(fā)信號給加熱裝置，使加熱裝置開始加熱,同時發(fā)信號給循環(huán)裝置，循環(huán)裝置動作，使水浴箱內(nèi)水流動循環(huán)，確保各處液體溫度保持一致。

（3、）水溫的自動檢測和蒸汽的自動冷凝回流：通過溫度傳感器檢測水溫，等到水溫達(dá)到設(shè)定溫度后，發(fā)信號給控制器，控制器發(fā)送信號給加熱裝置，使加熱裝置停止全功率加熱，控制加熱功率使水浴箱內(nèi)液體保持設(shè)定溫度，同時下層加熱區(qū)中被加熱出的水蒸氣蒸發(fā)到冷凝管內(nèi)，經(jīng)過冷凝管的冷卻后回流至水浴箱內(nèi)。

（4、）自動排空水浴箱：加熱完成后，控制器控制抽水裝置，將水從水浴箱中抽出，自動排空水浴箱。

本發(fā)明還包括以下附加技術(shù)特征：

進(jìn)一步的，所述上層中空區(qū)和下層加熱區(qū)之間設(shè)置一可拆卸式隔板，所述隔板密封設(shè)置在所述下層加熱區(qū)的上方。

進(jìn)一步的，所述隔板上設(shè)置有用于插裝反應(yīng)容器的插裝孔和用于插裝冷凝器的冷凝器插入孔，在所述插裝孔和反應(yīng)容器之間設(shè)置有密封墊片。

進(jìn)一步的，所述循環(huán)裝置包括有循環(huán)泵和與所述循環(huán)泵兩端連接的進(jìn)水管和出水管，所述進(jìn)水管對應(yīng)的進(jìn)水口和所述出水管對應(yīng)的出水口呈對角線設(shè)置在所述下層加熱區(qū)上。

進(jìn)一步的，反應(yīng)容器包括密閉的反應(yīng)瓶、設(shè)置在反應(yīng)瓶內(nèi)部的進(jìn)液管路和出液管路，在距離反應(yīng)容器頂端高度1/4的位置處沿所述反應(yīng)瓶的周向方向依次設(shè)置有排氣口、進(jìn)液口和出液口，在所述反應(yīng)瓶的底端設(shè)置有開口，所述進(jìn)液口與所述進(jìn)液管路連通，所述出液口與所述出液管路一端連通，所述出液管路的另一端與所述開口連通。