[發明專利]層狀介電材料及其制備方法有效
| 申請號: | 201810440998.5 | 申請日: | 2018-05-10 |
| 公開(公告)號: | CN108638616B | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發明(設計)人: | 沈洋;江建勇;南策文 | 申請(專利權)人: | 深圳清華大學研究院 |
| 主分類號: | B32B27/02 | 分類號: | B32B27/02;B32B27/12;B32B27/30;B32B37/06;B32B37/10;H01G4/14;H01G4/16;H01G13/00 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 潘霞 |
| 地址: | 518057 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 層狀 材料 及其 制備 方法 | ||
本發明涉及一種層狀介電材料及其制備方法,包括層疊設置的第一纖維無紡布層和第二纖維無紡布層,第一纖維無紡布層為偏氟乙烯?六氟丙烯共聚物層,第二纖維無紡布層為偏氟乙烯?三氟乙烯?氯氟乙烯共聚物層,第一纖維無紡布層及第二纖維無紡布層的總層數為2~30層。上述層狀介電材料及其制備方法,偏氟乙烯?六氟丙烯共聚物層具有高擊穿性能,而偏氟乙烯?三氟乙烯?氯氟乙烯共聚物岑具有高極化性能和高儲能效率,并且通過將偏氟乙烯?六氟丙烯共聚物層和偏氟乙烯?三氟乙烯?氯氟乙烯共聚物層相互層疊以控制層狀介電材料的內部介觀結構,有利于抑制層狀介電材料內部的電導損耗和鐵電損耗,從而使得層狀介電材料同時兼具高儲能密度和儲能效率。
技術領域
本發明涉及介電材料制備技術領域,特別是涉及層狀介電材料及其制備方法。
背景技術
隨著現代科技的發展,作為重要的基礎電子元件和高功率的儲能器件,電容器在消費類電子產品、通信產品、自動化控制、高速鐵路、新能源汽車與航空及軍事裝備上得到廣泛的應用。其中,薄膜電容器因其高耐壓強度,高功率密度等優勢,得到科研人員和市場更多的關注。然而,商用電介質薄膜BOPP(雙向拉伸聚丙烯)的介電常數較低(2~3),導致其較低的儲能密度(~2J/cm3),限制了其更廣泛的應用。比如,軌道電磁炮每次發射需要大約100MJ的能量輸入,而提供能量的電容器的體積通常在10立方米左右,過大的體積和重量就極大地限制了其更高效的使用。為了提高介電薄膜的介電常數和儲能密度,科研人員將目光轉向了具有高極化能力的PVDF基聚合物。2006年,美國賓州州立大學章啟明教授在期刊Science提出用P(VDF-CTFE)作為介電儲能薄膜,得到高于10的介電常數和高于10J/cm3的儲能密度,遠高于傳統BOPP的儲能密度。此后,科研人員采用各種不同的方式去進一步提高PVDF基聚合物的儲能密度,例如制備聚合物納米復合材料,構建具有多層結構的復合材料和制備共混、接枝等聚合物改性材料等。通過十幾年的努力,如今PVDF基聚合物材料的儲能密度能達到5~15J/cm3,但是其儲能效率卻只有50~70%,這就意味著大量的能量被耗散。而這些耗散的能量絕大部分轉化為無用且有害的熱能,由于聚合物材料本征的低熱導率,使得熱量在聚合物內部累積,導致材料的內部溫升和最終的性能惡化。因此,如何在保證高儲能密度的同時提高PVDF基聚合物的儲能效率就成為了一個研究熱點和難點。
PVDF基聚合物低的儲能效率主要源于兩方面的損耗:1)鐵電損耗:PVDF是一種非線性的鐵電材料,內部偶極不能跟上外加電場的變化,存在遲滯的現象,這一遲滯過程會帶來能量的損耗,從而產生鐵電損耗。2)電導損耗:PVDF內部存在自由移動的電子和離子,在外電場的作用下,會定向移動形成漏電流,從而產生電導損耗。為了抑制PVDF基聚合物的損耗,提高材料的儲能效率,科研人員也展開了大量的研究工作。2013年,章啟明教授在P(VDF-TrFE)上加入大尺寸的CFE或CTFE單體,制備得到P(VDF-TrFE-CFE)或P(VDF-TrFE-CTFE)三元共聚物,通過納米限制效應,將原來P(VDF-TrFE)聚合物中的大尺寸鐵電疇縮小為納米尺寸的鐵電疇,減小疇壁對偶極翻轉的限制,使得聚合物內部的偶極能夠對外加電場的變化做出迅速的響應,從而減少鐵電損耗,提高效率。同時,美國西儲大學祝磊教授在P(VDF-TrFE-CTFE)的基礎上接枝了聚苯乙烯PS,制成P(VDF-TrFE-CTFE)-g-PS嵌段共聚物,進一步抑制了聚合物的損耗。2010年,西安交通大學徐卓教授通過制備具有不同相結構的PVDF,發現α-PVDF和γ-PVDF比β-PVDF的損耗更低,效率更高。以上的研究工作主要是從抑制鐵電損耗的角度出發,也有人從抑制電導損耗的方向去著手。2012年,祝磊教授利用微層共擠出的方法制備了PVDF/PC(聚丙烯)多層聚合物材料,通過層結構設計和界面對電荷遷移抑制,更好的控制了聚合物內部的電導損耗。2015年,美國賓州州立大學王慶教授在期刊EnergyEnvironmental Science提出采用BNNS(氮化硼納米片)作為填料去制備P(VDF-TrFE-CFE)/BNNS納米復合材料,實驗結果表明,由于BNNS二維片層的大長徑比結構和高絕緣性,復合材料表現出更低的漏電流和更高的擊穿性能,制備的復合材料具有更高的儲能密度和效率。
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