[發明專利]圖像形成裝置有效
| 申請號: | 201810437230.2 | 申請日: | 2018-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN109407488B | 公開(公告)日: | 2022-05-13 |
| 發明(設計)人: | 平川昇;宮本陽子;島田靖廣;萩原和義 | 申請(專利權)人: | 富士膠片商業創新有限公司 |
| 主分類號: | G03G15/16 | 分類號: | G03G15/16 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 形成 裝置 | ||
1.一種圖像形成裝置,該圖像形成裝置包括:
薄壁圖像載體,該薄壁圖像載體可移動地承載由已充電成像顆粒形成的圖像;
轉印裝置,該轉印裝置被設置為與所述圖像載體的圖像承載面接觸,傳送所述轉印裝置與所述圖像載體之間保持的記錄介質,并且另外,向所述轉印裝置與所述圖像載體之間的轉印區域施加轉印電壓,從而使在所述圖像載體上保持的圖像轉印到所述記錄介質;
面形成構件,該面形成構件被設置為,與所述轉印裝置的所述轉印區域相比在所述圖像載體的移動方向上的上游側更遠處,與所述圖像載體的背面接觸,所述面形成構件被設置為沿著與所述圖像載體的所述移動方向交叉的方向接地,并且包括導電構件,該導電構件形成通向所述轉印區域的、所述圖像載體的移動軌跡面;以及
減小元件,該減小元件設置在穿過所述面形成構件的電流路徑上,用于減小從所述面形成構件通向地的電流量,
其中,當所述記錄介質是電阻值小于1010Ω/□的低電阻介質、或者當所述記錄介質具有沿著介質基板面的導電層并且所述導電層的電阻值小于1010Ω/□時,所述減小元件被選擇性地切換到從所述面形成構件通向地的電流路徑。
2.根據權利要求1所述的圖像形成裝置,
其中,所述減小元件在所述面形成構件與地之間插入電阻元件。
3.根據權利要求2所述的圖像形成裝置,其中,
所述電阻元件的電阻值大于所述轉印裝置的電阻值。
4.根據權利要求3所述的圖像形成裝置,其中,
所述電阻元件的電阻值是所述轉印裝置的電阻值的五倍或更大。
5.根據權利要求2所述的圖像形成裝置,其中,
所述電阻元件的電阻值大于所述記錄介質的電阻值。
7.根據權利要求6所述的圖像形成裝置,其中,
在穿過運行中的引導構件之后,所述記錄介質的后端部與所述圖像載體的與所述面形成構件相對的一部分接觸。
8.根據權利要求1至5中任意一項所述的圖像形成裝置,其中,
所述記錄介質是電阻值小于1010Ω/□的低電阻介質或者所述記錄介質具有沿著介質基板面的導電層并且所述導電層的電阻值小于1010Ω/□。
9.根據權利要求1至5中任意一項所述的圖像形成裝置,其中,
所述圖像載體是中間轉印體,圖像形成載體上的圖像在被轉印到記錄介質上之前被立即轉印和保持到該中間轉印體上,并且所述轉印裝置將所述中間轉印體上的圖像轉印到所述記錄介質上。
10.根據權利要求1所述的圖像形成裝置,所述圖像形成裝置還包括:
介質鑒別器,該介質鑒別器鑒別所述記錄介質是否是電阻值小于1010Ω/□的低電阻介質、或者所述記錄介質是否具有沿著介質基板面的導電層并且所述導電層的電阻值小于1010Ω/□;以及
切換機構,當所述介質鑒別器鑒別出所述記錄介質是電阻值小于1010Ω/□的低電阻介質、或者所述導電層的電阻值小于1010Ω/□時,該切換機構選擇性地切換所述減小元件到從所述面形成構件通向地的電流路徑。
11.一種圖像形成裝置,該圖像形成裝置包括:
薄壁圖像載體,該薄壁圖像載體可移動地承載由已充電成像顆粒形成的圖像;
轉印部,該轉印部被設置為與所述圖像載體的圖像承載面接觸,用于傳送所述轉印部與所述圖像載體之間保持的記錄介質,并且另外,向所述轉印部與所述圖像載體之間的轉印區域施加轉印電壓,從而使在所述圖像載體上保持的圖像轉印到所述記錄介質;
面形成構件,該面形成構件被設置為,與所述轉印部的所述轉印區域相比在所述圖像載體的移動方向上的上游側更遠處,與所述圖像載體的背面接觸,所述面形成構件被設置為沿著與所述圖像載體的所述移動方向交叉的方向接地,并且包括導電構件,該導電構件形成通向所述轉印區域的、所述圖像載體的移動軌跡面;以及
減小部,該減小部設置在穿過所述面形成構件的電流路徑上,用于減小從所述面形成構件通向地的電流量,
其中,當所述記錄介質是電阻值小于1010Ω/□的低電阻介質、或者當所述記錄介質具有沿著介質基板面的導電層并且所述導電層的電阻值小于1010Ω/□時,所述減小部被選擇性地切換到從所述面形成構件通向地的電流路徑。
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