[發明專利]一種克爾靈敏度測量及校準方法在審
| 申請號: | 201810429229.5 | 申請日: | 2018-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN109001651A | 公開(公告)日: | 2018-12-14 |
| 發明(設計)人: | 張向平;方曉華;趙永建 | 申請(專利權)人: | 金華職業技術學院 |
| 主分類號: | G01R33/032 | 分類號: | G01R33/032;G01R33/14;G01R35/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 321017 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 靈敏度測量 非球面鏡 孔徑光闌 校準 物鏡 光電探測器 光干涉 檢偏器 波片 目鏡 多方向測量 材料磁性 測量領域 測量裝置 磁化分量 磁滯回線 反射光路 聚焦平面 入射光路 激光器 靈敏度 棱鏡 電流表 分束器 偏振器 十字形 示波器 樣品臺 磁鐵 光路 開孔 消光 成像 電源 觀測 計算機 檢驗 | ||
本發明涉及材料磁性測量領域,一種克爾靈敏度測量及校準方法,測量裝置包括激光器、非球面鏡I、孔徑光闌、偏振器、非球面鏡II、分束器、1/2波片、1/4波片、沃拉斯頓棱鏡、光電探測器I、光電探測器II、物鏡臺、物鏡、非球面鏡III、樣品、樣品臺、磁鐵、電流表、電源、示波器、計算機、檢偏器、目鏡,組成有入射光路、反射光路、檢驗光路,所述孔徑光闌為四種孔徑模式,能同時并且定量地確定樣品的兩個面內磁化分量,通過調整檢偏器能在目鏡中觀測到物鏡的背聚焦平面上出現的錐光干涉圖,調節孔徑光闌使得其開孔能成像于錐光干涉圖的十字形消光區域內,提供了多方向測量克爾靈敏度時的克爾靈敏度測量方法及磁滯回線校準方法。
技術領域
本發明涉及材料磁性測量領域,尤其是一種能夠定量地確定樣品的面內磁化分量的一種克爾靈敏度測量及校準方法。
背景技術
磁光克爾效應測量裝置是材料表面磁性研究中的一種重要手段,其工作原理是基于由光與磁化介質間相互作用而引起的磁光克爾效應,其不僅能夠進行單原子層厚度材料的磁性檢測,而且可實現非接觸式測量,在磁性超薄膜的磁有序、磁各向異性、層間耦合和磁性超薄膜的相變行為等方面的研究中都有重要應用。克爾顯微鏡是一種常用的裝置,其工作原理為:平面偏振光與非透明的磁性媒介表面相互作用后,被反射的光的偏振平面產生了順時針或逆時針的旋轉,其旋轉方向與媒介的磁化方向有關,通常反射光中的橢圓偏振是疊加的,反射光經過反射光路中的檢偏器后,克爾旋轉轉變為磁疇對比度,從而得到樣品表面不同區域的磁疇的磁化特征。現有技術缺陷一:現有技術通常使用調節非平面鏡及反射鏡的方法來改變入射光的方向,涉及的光學元件較多,操作復雜;現有技術缺陷二:由于在樣品磁化反轉的過程中,磁化的方向并不是嚴格沿著磁場方向,這種情況下,克爾信號是不同種克爾效應的混合,較難分離不同種克爾效應的貢獻。現有技術中,通常在不同條件下測量得到多條磁滯回線,在這個過程中,需要改變光路即光學元件位置,或者是改變外磁場,另外,裝置在每一次改變后都需要校準,所述一種克爾靈敏度測量及校準方法能解決問題。
發明內容
為了解決上述問題,本發明采用具有多種孔徑模式的孔徑光闌來調節入射到樣品的入射光方向以進行不同克爾靈敏度的測量。另外,本發明通過對光電探測器得到的不同種克爾效應的混合信號處理,能夠在不改變裝置結構的基礎上定量地確定樣品的兩個面內磁化分量。
本發明所采用的技術方案是:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于金華職業技術學院,未經金華職業技術學院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810429229.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





