[發(fā)明專利]顯示基板的制備方法、顯示基板及顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810426410.0
• 申請日: 2018-05-07
• 公開（公告）號: CN108461393B
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張帥;劉政
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L21/027
• 分類號: H01L21/027;H01L21/77;H01L27/32;H01L21/82
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 柴亮;張?zhí)焓?/td>

1.一種顯示基板的制備方法，所述顯示基板具有非顯示區(qū)，其特征在于，所述顯示基板的制備方法包括：

在基底上形成第一絕緣層，并通過構(gòu)圖工藝在所述第一絕緣層與所述非顯示區(qū)對應(yīng)的位置形成包括至少一個凹陷部的圖形；

通過構(gòu)圖工藝在非顯示區(qū)形成包括第一信號線的圖形，其中，所述第一信號線至少部分覆蓋所述凹陷部；

形成第二絕緣層，并通過構(gòu)圖工藝在所述第二絕緣層對應(yīng)所述第一信號線的至少部分區(qū)域形成過孔；

通過構(gòu)圖工藝形成包括第二信號線的圖形，所述第二信號線通過所述過孔與所述第一信號線連接；

所述第一絕緣層包括凸出部和凹陷部；

所述第一信號線包括下沉部和上升部，所述下沉部對應(yīng)所述第一絕緣層的凹陷部，所述上升部對應(yīng)所述第一絕緣層的凸出部；

所述第二絕緣層的過孔對應(yīng)所述第一信號線的上升部。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，

所述第一絕緣層的材料包括有機絕緣材料。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述在形成第一絕緣層，并通過構(gòu)圖工藝在所述第一絕緣層與所述非顯示區(qū)對應(yīng)的位置形成包括至少一個凹陷部的圖形的步驟之前，還包括：

去除所述基底上的、與非顯示區(qū)位置對應(yīng)的層間絕緣層，以形成凹槽區(qū)；其中，所形成的第一絕緣層填充所述凹槽區(qū)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述在基底上形成第一絕緣層，并通過構(gòu)圖工藝在所述第一絕緣層與非顯示區(qū)對應(yīng)的位置形成包括至少一個凹陷部的圖形的步驟包括：

在基底上形成第一絕緣材料層；

利用不同透光率的掩膜板對所述第一絕緣材料層進行曝光，在所述第一絕緣層與所述非顯示區(qū)對應(yīng)的位置形成包括至少一個凹陷部的圖形，并去除與顯示區(qū)位置對應(yīng)的第一絕緣層材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述通過構(gòu)圖工藝在非顯示區(qū)形成包括第一信號線的圖形的步驟包括：

通過低溫沉積工藝形成金屬膜層；

通過刻蝕工藝對所述金屬膜層進行刻蝕，在非顯示區(qū)形成包括第一信號線的圖形。

6.一種顯示基板，其具有非顯示區(qū)，其特征在于，所述顯示基板包括：

基底；

位于基底上的第一絕緣層，其與非顯示區(qū)對應(yīng)的位置具有至少一個凹陷部；

位于所述第一絕緣層背離所述基底一側(cè)的第一信號線，所述第一信號線位于非顯示區(qū)，且其至少部分覆蓋所述凹陷部；

位于所述第一信號線背離所述基底一側(cè)的第二絕緣層，其對應(yīng)所述第一信號線的至少部分區(qū)域具有過孔；

位于所述第二絕緣層背離所述基底一側(cè)的第二信號線，其通過所述過孔與第一信號線連接；

所述第一絕緣層包括凸出部和凹陷部；

所述第一信號線包括下沉部和上升部，所述下沉部對應(yīng)所述第一絕緣層的凹陷部，所述上升部對應(yīng)所述第一絕緣層的凸出部；

所述第二絕緣層的過孔對應(yīng)所述第一信號線的上升部。

7.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求6所述的顯示基板。