[發(fā)明專(zhuān)利]圖像傳感器及其形成方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810426241.0
• 申請(qǐng)日: 2018-05-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108538874B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-03-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高俊九;李志偉;黃仁德
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L27/146
• 分類(lèi)號(hào): H01L27/146
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 武振華;吳敏

1.一種圖像傳感器的形成方法，其特征在于，包括：

提供半導(dǎo)體襯底，所述半導(dǎo)體襯底的表面具有第一介質(zhì)層；

刻蝕所述第一介質(zhì)層，以在所述第一介質(zhì)層內(nèi)形成網(wǎng)格狀的格柵溝槽；

在所述格柵溝槽內(nèi)填充格柵材料，以形成網(wǎng)格狀的格柵；

在所述第一介質(zhì)層的表面形成襯墊，所述襯墊的一部分覆蓋所述格柵的一部分，以使所述襯墊與所述格柵電連接；

所述圖像傳感器的形成方法還包括：

形成第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層覆蓋所述襯墊、第一介質(zhì)層以及格柵；刻蝕所述第二介質(zhì)層以及所述第一介質(zhì)層，以在所述襯墊上方的第二介質(zhì)層內(nèi)形成襯墊開(kāi)口，以及在所述格柵之間的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層內(nèi)形成濾鏡開(kāi)口，所述襯墊開(kāi)口的底部暴露所述襯墊。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，所述濾鏡開(kāi)口的寬度小于相鄰的格柵之間的距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，在所述第一介質(zhì)層的表面形成襯墊包括：

形成襯墊層，所述襯墊層覆蓋所述第一介質(zhì)層；

刻蝕所述襯墊層，以在所述第一介質(zhì)層的表面形成所述襯墊。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像傳感器的形成方法，其特征在于，在刻蝕所述第一介質(zhì)層之前，還包括：

刻蝕所述第一介質(zhì)層和半導(dǎo)體襯底以形成穿通孔，所述穿通孔貫穿所述半導(dǎo)體襯底以及所述第一介質(zhì)層。

5.一種圖像傳感器，其特征在于，包括：

半導(dǎo)體襯底；

第一介質(zhì)層，位于所述半導(dǎo)體襯底的表面；

網(wǎng)格狀的格柵溝槽，位于所述第一介質(zhì)層內(nèi)；

網(wǎng)格狀的格柵，位于所述格柵溝槽內(nèi)；

襯墊，位于所述第一介質(zhì)層的表面，所述襯墊的一部分覆蓋所述格柵的一部分，以使所述襯墊與所述格柵電連接；

所述圖像傳感器還包括：

第二介質(zhì)層，覆蓋所述襯墊、第一介質(zhì)層以及格柵；

襯墊開(kāi)口，位于所述襯墊上方的第二介質(zhì)層內(nèi)；

濾鏡開(kāi)口，位于所述格柵之間的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層內(nèi)，且所述襯墊開(kāi)口的底部暴露所述襯墊。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖像傳感器，其特征在于，所述濾鏡開(kāi)口的寬度小于相鄰的格柵之間的寬度。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖像傳感器，其特征在于，所述濾鏡開(kāi)口的底面與所述格柵溝槽的底面齊平。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的圖像傳感器，其特征在于，還包括：

穿通孔，所述穿通孔貫穿所述半導(dǎo)體襯底以及所述第一介質(zhì)層。