[發(fā)明專利]一種醫(yī)藥廢水處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810421828.2 | 申請日: | 2018-05-04 |
| 公開(公告)號: | CN108409059A | 公開(公告)日: | 2018-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王磊;徐琪程;吳智仁;徐暢 | 申請(專利權(quán))人: | 艾特克控股集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/14 | 分類號: | C02F9/14;C02F103/34 |
| 代理公司: | 蘇州市中南偉業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 李明 |
| 地址: | 214214 江蘇省無錫市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反應(yīng)區(qū) 顆粒污泥 處理裝置 醫(yī)藥廢水 廢水 沉淀池 第一區(qū) 好氧池 緩沖 污泥 預(yù)處理 并排設(shè)置 承載裝置 垂直設(shè)置 底部連通 固定顆粒 固定設(shè)置 固定裝置 曝氣處理 曝氣裝置 完全接觸 微電解池 依次連接 泵送力 傳統(tǒng)的 厭氧池 沉淀 | ||
本發(fā)明公開了一種醫(yī)藥廢水處理裝置,包括依次連接的預(yù)處理沉淀池、微電解池、厭氧池、好氧池和沉淀池,其中,所述好氧池包括:L型緩沖入口,所述L型緩沖入口包括垂直設(shè)置的第一區(qū)和第二區(qū);反應(yīng)區(qū),所述反應(yīng)區(qū)設(shè)置在所述第二區(qū)的上方且與所述第一區(qū)并排設(shè)置,所述第二區(qū)的上部與所述反應(yīng)區(qū)底部連通設(shè)置;第二曝氣裝置,設(shè)置在所述第二區(qū)底部,用于給所述反應(yīng)區(qū)進行曝氣處理;污泥承載裝置,設(shè)置在所述反應(yīng)區(qū)內(nèi),用于固定顆粒污泥。實現(xiàn)廢水與顆粒污泥的完全接觸反應(yīng),與傳統(tǒng)的上部入口相比,能夠使得廢水與顆粒污泥充分的反應(yīng),且由于顆粒污泥固定設(shè)置在固定裝置內(nèi),因此不易在巨大的泵送力下雖廢水一起流入下一道沉淀區(qū)內(nèi)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及污水處理技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種醫(yī)藥廢水處理裝置。
背景技術(shù)
制藥廢水具有COD濃度高、鹽度高、色度大、可生化性差的特點,且具有一定的生物毒性,處理難度很大,一般采用預(yù)處理+厭氧+好氧為主體的綜合工藝對其進行處理。近年來,一方面隨著制藥科學技術(shù)的不斷進步,大量新藥被研發(fā)生產(chǎn)的同時,產(chǎn)生含大量復(fù)雜有機化合物的制藥廢水,制藥廢水的成分日益復(fù)雜,導(dǎo)致其處理難度越來越大;另一方面人們對保護生態(tài)環(huán)境,減少污染的呼聲越來越高,國家對于工業(yè)節(jié)能減排的工作也在不斷推進,制藥廢水的排放要求越來越嚴格,現(xiàn)行的制藥廢水處理設(shè)施及其處理工藝已不能滿足行業(yè)減排和水污染物控制新標準的要求因此,強化新建制藥廢水處理系統(tǒng)以及對原有制藥廢水處理系統(tǒng)出水的深度處理勢在必行。
現(xiàn)有的醫(yī)藥廢水處理裝置進行好氧處理時,存在污泥積聚在底部,導(dǎo)致上層的醫(yī)藥廢水處理效果不佳的問題,因此急需尋找一種能夠?qū)崿F(xiàn)污水均勻處理的裝置。
有鑒于上述現(xiàn)有的醫(yī)藥廢水處理裝置存在的缺陷,本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計制造多年豐富的實務(wù)經(jīng)驗及專業(yè)知識,并配合學理的運用,積極加以研究創(chuàng)新,以期創(chuàng)設(shè)一種醫(yī)藥廢水處理裝置,使其更具有實用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計,并經(jīng)反復(fù)試作樣品及改進后,終于創(chuàng)設(shè)出確具實用價值的本發(fā)明。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于,克服現(xiàn)有的醫(yī)藥廢水處理裝置存在的缺陷,而提供一種醫(yī)藥廢水處理裝置,能夠?qū)崿F(xiàn)均勻處理,從而更加適于實用,且具有產(chǎn)業(yè)上的利用價值。
本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實現(xiàn)的。
一種醫(yī)藥廢水處理裝置,包括依次連接的預(yù)處理沉淀池、微電解池、厭氧池、好氧池和沉淀池,其中,所述好氧池包括:
L型緩沖入口,所述L型緩沖入口包括垂直設(shè)置的第一區(qū)和第二區(qū);
反應(yīng)區(qū),所述反應(yīng)區(qū)設(shè)置在所述第二區(qū)的上方且與所述第一區(qū)并排設(shè)置,所述第二區(qū)的上部與所述反應(yīng)區(qū)底部連通設(shè)置;
第二曝氣裝置,設(shè)置在所述第二區(qū)底部,用于給所述反應(yīng)區(qū)進行曝氣處理;
污泥承載裝置,設(shè)置在所述反應(yīng)區(qū)內(nèi),用于固定顆粒污泥。
作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述污泥承載裝置包括上固定板、下固定板和設(shè)置在所述上固定板、所述下固定板之間的鏤空長方體形固定裝置,所述固定裝置內(nèi)部設(shè)置有顆粒污泥。
作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述固定裝置平行設(shè)置有多組。
作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述反應(yīng)區(qū)還包括緩沖上層,設(shè)置在所述上固定板與所述反應(yīng)區(qū)的頂部之間。
作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述預(yù)處理沉淀池內(nèi)部設(shè)置有活性炭,用于吸附所述待處理醫(yī)藥廢水中的固體雜質(zhì)。
作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述微電解池包括并聯(lián)設(shè)置的第一級微電解池和第二級微電解池,其中所述第一級微電解池與所述第二級微電解池分別包括L型入口和微電解反應(yīng)區(qū),所述第一級微電解池與所述第二級微電解池通過所述第一微電解池上端部的溢流口與所述第二級微電解池連通。
作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述L型入口底部設(shè)置有第一曝氣裝置。
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