[發(fā)明專利]電致變色薄膜的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810410696.3 | 申請日: | 2018-05-02 |
| 公開(公告)號: | CN108828868B | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高彥峰;方雅思;陳長 | 申請(專利權(quán))人: | 上海大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/153 | 分類號: | G02F1/153;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 上海上大專利事務(wù)所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顧勇華 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 變色 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種電致變色薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
a.將金屬氧化物納米粒子、透明導(dǎo)電氧化物納米粒子進行混合,制成納米分散液,作為金屬氧化物與透明導(dǎo)電氧化物的鍍膜液備用;所述金屬氧化物為電致變色材料;
b.在對透明導(dǎo)電基板進行前處理后,采用濕法涂覆的方法,將在所述步驟a中制備的納米分散液涂覆在透明導(dǎo)電基板的導(dǎo)電面上,形成均勻納米顆粒薄層;
c.對在所述步驟b中制備的形成均勻納米顆粒薄膜的透明導(dǎo)電基板形成的薄膜進行熱處理,所述熱處理溫度為50~400℃,熱處理時間為5~300min;從而得到由電致變色金屬氧化物和透明導(dǎo)電氧化物的納米薄膜以及透明導(dǎo)電基板復(fù)合而成的電致變色薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:在所述步驟a中,所述納米分散液中包含100重量份的金屬氧化物納米粒子、0.1~1000重量份的透明導(dǎo)電氧化物納米粒子、0.01~1000重量份的分散劑、100~20000重量份的溶劑、0~1000重量份的樹脂和0~500重量份的固化劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:所述金屬氧化物納米粒子采用具有電致變色特性的納米顆粒、納米棒、納米線、納米管和納米多孔材料中的任意一種納米材料或任意幾種混合納米材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:所述透明導(dǎo)電氧化物納米粒子采用摻銻的氧化錫、摻錫的氧化銦、摻鎵的氧化鋅、摻銦的氧化鋅、摻銦并摻鎵的氧化鋅和摻鋁的氧化鋅中的任意一種納米材料或任意幾種的混合納米材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:所述溶劑采用醇、醚、酮、酯、芳烴和水中的任意一種溶劑或任意幾種的混合溶劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:所述樹脂采用環(huán)氧樹脂、聚酰胺樹脂、雙氰胺中的任意一種或任意幾種的混合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:所述固化劑采用甲苯二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、聚酰胺類中的任意一種或任意幾種的混合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:在所述步驟b中,所述前處理方式采用Plasma處理、物理清洗、化學(xué)清洗、紫外臭氧處理、熱處理、電暈放電處理、壓力處理中的任意一種處理方式或者任意多種進行混合處理的方式。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:在所述步驟b中,所述濕法涂覆的方法采用旋涂、輥涂、棒涂、鑄造、浸涂、刮涂、噴涂、流涂、微凹版涂布、凹版涂布、狹縫涂布、唇膜擠出涂布、噴嘴涂布、逗號涂布、毛細(xì)管涂布和絲網(wǎng)印刷、柔版印刷、膠版印刷、反向印刷、噴墨印刷中的任意一種方法進行涂覆或者任意多種方法進行混合涂覆。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:在所述步驟b中,所述透明導(dǎo)電基板采用FTO、ITO、銀納米線、石墨烯、導(dǎo)電聚合物膜的導(dǎo)電玻璃或基于FTO、ITO、銀納米線、石墨烯、導(dǎo)電聚合物膜的導(dǎo)電塑料薄膜、片材、板材等中的任意一種襯底或任意幾種混合導(dǎo)電材料形成的導(dǎo)電面的襯底。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述電致變色薄膜的制備方法,其特征在于:在所述步驟c中,采用平均顆粒尺寸為1~5000nm的電致變色金屬氧化物納米粒子和透明導(dǎo)電氧化物納米粒子,在透明導(dǎo)電基板的導(dǎo)電面上形成均勻分布納米顆粒的薄膜層厚度為50~2000nm。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





