[發(fā)明專利]一種用于活性印花的均勻給濕裝置

在審

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• 申請日: 2018-05-02
• 公開（公告）號: CN108394177A
• 公開（公告）日: 2018-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周傳林;陳勇江;蔡國明;王興
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江嘉業(yè)印染有限公司
• 主分類號: B41F23/02
• 分類號: B41F23/02
• 代理公司: 浙江永鼎律師事務(wù)所 33233
• 代理人: 陸永強

1.一種用于活性印花的均勻給濕裝置，包括機架，其特征在于所述機架的兩側(cè)分別設(shè)有進(jìn)布口和出布口，所述機架內(nèi)設(shè)有容納腔，所述容納腔內(nèi)設(shè)有隔板，隔板將所述容納腔分成除塵腔和噴霧腔；除塵腔內(nèi)在所述機架的上端內(nèi)壁上安裝有第一電機和第二支撐桿，所述隔板的上端安裝有第二電機和第一支撐桿，所述第一電機的轉(zhuǎn)軸固定連接有第一毛刷，所述第二電機的轉(zhuǎn)軸固定連接有第二毛刷，所述第一支撐桿的上端固定連接有第一平板，所述第二支撐桿的下端固定連接有第二平板，所述第一平板和第二平板的側(cè)面均設(shè)有軸支架，所述軸支架上連接有防護(hù)輥；噴霧腔內(nèi)在所述隔板的下方從上到下依次設(shè)有旋轉(zhuǎn)輥、導(dǎo)布輥、噴霧機構(gòu)和導(dǎo)向輥，所述噴霧機構(gòu)包括伸縮電機、伸縮桿、噴霧頭、上防霧板和下防霧板，所述伸縮桿的一端與伸縮電機相連接，所述伸縮桿的另一端與噴霧頭相連接，所述上防霧板設(shè)置在伸縮電機的上方，所述下防霧板設(shè)置在伸縮電機的下方，所述導(dǎo)向輥的下方設(shè)有儲水箱，且儲水箱位于噴霧腔的底部，儲水箱內(nèi)設(shè)有給濕液，所述儲水箱的底部設(shè)有過濾箱，所述儲水箱上連接有伸入過濾箱底部的水管，所述過濾箱內(nèi)設(shè)有過濾網(wǎng)，過濾網(wǎng)將過濾箱分成過濾箱上部和過濾箱下部；所述機架的外側(cè)設(shè)有循環(huán)水管，循環(huán)水管的一端與過濾箱上部相連通，循環(huán)水管的另一端與噴霧頭相連通，所述循環(huán)水管上安裝有水泵、高壓蒸汽源和氣料混合腔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種用于活性印花的均勻給濕裝置，其特征在于所述下防霧板的端部連接有輸送管道，所述輸送管道的另一端與所述儲水箱相連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種用于活性印花的均勻給濕裝置，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)輥分布為上下兩層，每層設(shè)有多個旋轉(zhuǎn)輥，且上層旋轉(zhuǎn)輥和下層旋轉(zhuǎn)輥錯位分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種用于活性印花的均勻給濕裝置，其特征在于所述噴霧機構(gòu)的數(shù)量為兩個，兩個噴霧機構(gòu)對稱設(shè)置在噴霧腔的兩側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種用于活性印花的均勻給濕裝置，其特征在于所述第一電機的位置與第一平板的位置相互對應(yīng)，所述第二電機的位置與第二平板的位置相互對應(yīng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種用于活性印花的均勻給濕裝置，其特征在于所述噴霧腔內(nèi)還設(shè)有上壓輥和下壓輥，所述上壓輥和下壓輥相對設(shè)置并安裝在出布口的右側(cè)。