[發(fā)明專利]發(fā)光裝置及相關(guān)投影系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810408028.7
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN108646508B
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曹亮亮;胡飛
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳光峰科技股份有限公司
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;G03B21/16;G03B21/14;G02B26/00
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• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明實施例公開了一種發(fā)光裝置及投影裝置，包括：產(chǎn)生激發(fā)光的激發(fā)光源；包括波長轉(zhuǎn)換層的波長轉(zhuǎn)換裝置，該波長轉(zhuǎn)換層吸收激發(fā)光并出射受激光；驅(qū)動裝置驅(qū)動波長轉(zhuǎn)換層周期性轉(zhuǎn)動，以使得入射在波長轉(zhuǎn)換層的光斑沿預(yù)定圓形軌跡運(yùn)動，波長轉(zhuǎn)換裝置的至少部分區(qū)域的線速度大于等于75米/秒；密封裝置，包括透光區(qū)和導(dǎo)熱區(qū)，波長轉(zhuǎn)換裝置設(shè)置于該密封裝置內(nèi)，透光區(qū)透射波長轉(zhuǎn)換裝置出射光，導(dǎo)熱區(qū)與波長轉(zhuǎn)換裝置的光出射面或者與其相對的表面之間的距離小于等于1毫米，并將熱量傳導(dǎo)至密封裝置外部，且導(dǎo)熱區(qū)的面積大于等于激發(fā)光入射光斑的面積。本發(fā)明實施例提供了一種兼顧波長轉(zhuǎn)換裝置的防塵和有效降低其工作溫度的發(fā)光裝置及相關(guān)投影系統(tǒng)。

本申請為申請人于2012年12月20日遞交的申請?zhí)枮?01210558409.6、申請日為2012年12月20日、發(fā)明名稱為“發(fā)光裝置及相關(guān)投影系統(tǒng)”的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及照明及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種發(fā)光裝置及相關(guān)投影系統(tǒng)。

背景技術(shù)

利用激發(fā)熒光粉來產(chǎn)生的彩色光作為光源是一種在投影顯示等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛的方案。一般來說，熒光粉會被設(shè)置在一個高速旋轉(zhuǎn)的色輪上，激光等激發(fā)光入射到色輪并激發(fā)熒光粉產(chǎn)生受激光，同時產(chǎn)生大量熱量，色輪的高速轉(zhuǎn)動的作用在于使得不同區(qū)域的熒光粉會輪流處于激發(fā)光的照射下，不同區(qū)域可以分擔(dān)熱量，從而降低色輪溫度。

由于熒光粉對激發(fā)光的轉(zhuǎn)換效率并不是100％，熒光粉會產(chǎn)生大量的熱，而色輪的散熱是主要通過色輪與空氣之間的熱對流實現(xiàn)的。盡管色輪暴露在空氣中可以將熱量傳導(dǎo)至空氣而降低工作溫度，但是由于空氣存在大量的灰塵顆粒，當(dāng)色輪表面附著有灰塵顆粒，灰塵顆粒的周圍會集聚大量的熱量，有可能導(dǎo)致色輪的溫度急劇升高，甚至燒壞色輪。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供了一種兼顧波長轉(zhuǎn)換裝置的防塵和有效降低波長轉(zhuǎn)換裝置的工作溫度的發(fā)光裝置及相關(guān)投影系統(tǒng)。

本發(fā)明實施例提供了發(fā)光裝置，包括：

一種激發(fā)光源，用于產(chǎn)生激發(fā)光；

波長轉(zhuǎn)換裝置，包括波長轉(zhuǎn)換層，該波長轉(zhuǎn)換層用于吸收激發(fā)光并出射受激光；

驅(qū)動裝置，驅(qū)動裝置用于驅(qū)動波長轉(zhuǎn)換層周期性轉(zhuǎn)動，以使得激發(fā)光入射在波長轉(zhuǎn)換層上的光斑沿預(yù)定圓形軌跡周期性運(yùn)動，波長轉(zhuǎn)換裝置的至少部分區(qū)域的線速度大于等于75米/秒；

密封裝置，波長轉(zhuǎn)換裝置設(shè)置于該密封裝置內(nèi)，該密封裝置包括透光區(qū)和導(dǎo)熱區(qū)，透光區(qū)用于透射從波長轉(zhuǎn)換裝置出射到該透光區(qū)的光，導(dǎo)熱區(qū)與波長轉(zhuǎn)換裝置的光出射面或者與該光出射面相對的表面之間的距離小于等于1毫米，導(dǎo)熱區(qū)用于將波長轉(zhuǎn)換裝置傳遞至該導(dǎo)熱區(qū)的熱量傳導(dǎo)至密封裝置外部，且導(dǎo)熱區(qū)的面積大于等于激發(fā)光入射在波長轉(zhuǎn)換層的光斑的面積。

優(yōu)選地，導(dǎo)熱區(qū)位于密封裝置上與光斑相對的位置。

優(yōu)選地，導(dǎo)熱區(qū)的面積與波長轉(zhuǎn)換裝置的靠近導(dǎo)熱區(qū)的表面的面積相等。

優(yōu)選地，驅(qū)動裝置固定在密封裝置的側(cè)壁上。

優(yōu)選地，波長轉(zhuǎn)換裝置還包括基板，該基板用于承載波長轉(zhuǎn)換層，基板位于波長轉(zhuǎn)換層的靠近導(dǎo)熱區(qū)的一側(cè)。

優(yōu)選地，基板的導(dǎo)熱系數(shù)大于所述波長轉(zhuǎn)換層的導(dǎo)熱系數(shù)。

優(yōu)選地，波長轉(zhuǎn)換裝置的基板上設(shè)置有反射層，該反射層將入射到該反射層的光反射至波長轉(zhuǎn)換裝置的光出射面。

優(yōu)選地，發(fā)光裝置還包括散熱裝置，散熱裝置用于加快導(dǎo)熱區(qū)的熱量傳遞至外界空氣中。

本發(fā)明還提供了一種投影系統(tǒng)，包括上述的發(fā)光裝置。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實施例具有如下有益效果：