[發(fā)明專利]一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810407374.3
• 申請日: 2018-04-28
• 公開（公告）號: CN108581242A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發(fā)明（設計）人: 徐強;李高
• 申請（專利權）人: 廣州新可激光設備有限公司
• 主分類號: B23K26/70
• 分類號: B23K26/70;B23K26/362
• 代理公司: 廣州圣理華知識產(chǎn)權代理有限公司 44302
• 代理人: 李唐明;頓海舟

1.一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：所述方法包括：

步驟一：選定打標工作區(qū)域S，以打標工作區(qū)域中心為基點O，取得工作區(qū)域中心基點O的能量設定初始值E1；

步驟二：根據(jù)需要打標的目標物的材料進行計算實測，選擇方程系數(shù)；

步驟三：通過補償方程F(x)和選擇的方程系數(shù)進行計算，計算后得到需補償?shù)哪芰恐礒2；

步驟四：計算后得到的需補償?shù)哪芰恐礒2越接近工作區(qū)域中心O，補償?shù)哪芰恐礒2應越少；越接近打標工作區(qū)域S的邊緣，補償?shù)哪芰恐礒2越大。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：所述補償方程為能量補償一次方程、能量補償二次方程或能量補償三次方程。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：若所述補償方程為能量補償一次方程，則方程式為F(x)＝ax+b，得到的能量值E2為直線增量；此時，所述方程系數(shù)為a與b。

4.根據(jù)權利要求2所述的一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：若所述補償方程為能量補償二次方程，則方程式為F(x)＝ax²+bx+c，得到的能量值E2以拋物線的方式增長，越靠近打標工作區(qū)域S邊緣，補償?shù)哪芰恐礒2增長速度越快；此時，所述方程系數(shù)為a、b與c。

5.根據(jù)權利要求2所述的一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：若所述補償方程為能量補償三次方程，則方程式F(x)＝ax³+bx²+cx+d，得到的能量值E2以回歸拋物線的方式增長，越靠近打標工作區(qū)域S邊緣，補償?shù)哪芰恐礒2增長速度越快，增長速度比能量補償二次方程快；此時，所述方程系數(shù)為a、b、c與d。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：在所述步驟四中，計算后得到的需補償?shù)哪芰恐礒2越接近工作區(qū)域中心O，補償?shù)哪芰恐礒2為零，則在中心O的能量保持為設定初始值E1；越接近打標工作區(qū)域S的邊緣點A，若A點處的打標能量值為EA，則補償?shù)哪芰恐礒2＝E1-EA。

7.根據(jù)權利要求2所述的一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：使用所述能量補償三次方程對打標區(qū)域S內(nèi)的打標點x進行補償，越遠離中心O，在相同打標點x1處，其補償值比能量補償二次方程或能量補償一次方程高。

8.根據(jù)權利要求2所述的一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：使用所述能量補償二次方程對打標區(qū)域S內(nèi)的打標點x進行補償，越遠離中心O，在相同打標點x2處，其補償值比能量補償一次方程高。

9.根據(jù)權利要求2所述的一種激光設備打標邊緣的能量增強優(yōu)化方法，其特征在于：所述補償方程的常數(shù)項為零。