[發明專利]激光投影顯示系統

在審

• 申請號: 201810405503.5
• 申請日: 2018-04-29
• 公開（公告）號: CN108663878A
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發明（設計）人: 杜健;孔維成;楊思文;付瑤;孫陽;陳易;廖明慧;馬常偉;葛君廷;尹煒;李洋
• 申請（專利權）人: 中國華錄集團有限公司
• 主分類號: G03B21/16
• 分類號: G03B21/16;G03B21/20
• 代理公司: 大連至誠專利代理事務所(特殊普通合伙) 21242
• 代理人: 涂文詩;董彬

1.一種激光投影顯示系統，包括：波長選擇透過反射鏡、第一透鏡組件、反射鏡、第二透鏡組件、勻光棒、其特征在于，還包括：

激光光源單元、半導體制冷單元、散熱循環系統、溫度采集單元、溫度控制單元；

所述溫度采集單元用于采集所述激光光源單元的實時溫度，并將所述實時溫度發送至所述溫度控制單元；

所述溫度控制單元用于接收所述實時溫度，并根據所述實時溫度控制所述半導體制冷片和所述散熱循環單元；

所述激光光源單元包括：激光二極管、模組基座、準直鏡以及準直環，所述激光二極管呈陣列式排列在所述模組基座上，所述準直環設置于所述準直鏡與所述激光二極管之間，并通過固定在所述模組基座上的壓緊片壓緊在所述準直環上，所述半導體制冷單元設置于所述模組基座背面；

所述散熱循環系統包括：冷卻端、散熱端、液體泵、循環管路，所述冷卻端設置于所述半導體制冷單元的熱端，所述冷卻端通過所述循環管路與所述液體泵連接，所述液體泵的另一端連接所述散熱端。

2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，還包括：

波長選擇透過反射鏡位置調整單元，所述波長選擇透過反射鏡位置調整單元包括：

波長選擇透過反射鏡基座、彈性部件、調整基座、調整螺釘、調整鏈接架；

所述波長選擇透過反射鏡基座底端設置連接架，所述調整連接架設置于所述連接架和所述調整基座之間，所述連接架、所述調整鏈接架以及所述調整基座通過所述調整螺釘連接，所述調整鏈接架與所述調整基座之間設置彈性部件。

3.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，還包括：

用于將波長選擇透過反射鏡固定于所述波長選擇透過反射鏡基座內的波長選擇透過反射鏡壓片，所述波長選擇透過反射鏡壓片設置于所述波長選擇透過反射鏡基座兩側，所述調整鏈接架分別設置于所述連接架兩側，所述彈性部件設置于所述連接架的兩端。

4.根據權利要求2所述的系統，其特征在于，所述波長選擇透過反射鏡基座兩側設置與所述波長選擇透過反射鏡壓片連接的連接耳，所述連接耳設置滑槽，所述滑槽方向與所述波長選擇透過反射鏡基座相垂直，所述波長選擇透過反射鏡壓片通過所述滑槽調整與所述波長選擇透過反射鏡基座之間的距離。

5.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述模組基座設有用于安裝所述激光二極管、準直環和準直鏡的安裝孔，所述壓緊片上設置通孔，所述通孔與所述準直鏡相對應，所述通孔邊緣處設置有指向所述通孔中心的壓緊凸起。

6.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述半導體制冷單元包括：

半導體制冷片，所述半導體制冷片冷端粘貼于所述模組基座背面。

7.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，所述半導體制冷單元包括：

半導體制冷棒，所述半導體制冷棒內嵌于所述模組基座背面。

8.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，所述溫度控制單元具體用于：

判斷所述實時溫度是否超出閾值溫度，若是，則調節所述半導體制冷片的制冷量、所述液體泵的流量以及所述風扇的轉速；

判斷調節后的實時溫度是否超出閾值溫度，若是，則降低所述激光光源單元功率；

判斷減低功率后的實時溫度是否超出閾值溫度，若是，則停止電源模塊工作。