[發(fā)明專利]一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810403452.2
• 申請日: 2018-04-28
• 公開（公告）號(hào): CN108419402B
• 公開（公告）日: 2023-05-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梁萬龍;何建宗
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東電網(wǎng)有限責(zé)任公司;廣東電網(wǎng)有限責(zé)任公司東莞供電局
• 主分類號(hào): H05K7/02
• 分類號(hào): H05K7/02
• 代理公司: 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102
• 代理人: 林麗明

1.一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：包括陰模（1）與陽模（2），所述陰模（1）倒扣于所述陽模（2）中，所述陰模（1）的橫向與縱向分別設(shè)置有若干可活動(dòng)調(diào)節(jié)的活動(dòng)塊（3），所述活動(dòng)塊（3）上設(shè)置有調(diào)節(jié)活動(dòng)塊（3）的調(diào)節(jié)裝置，所述活動(dòng)塊（3）與陽模（2）底部抵接時(shí)形成封閉塊（4），所述活動(dòng)塊（3）與陽模（2）底部不接觸時(shí)形成電路塊（5），所述陽模（2）中還設(shè)置有易熔金屬（6）；所述易熔金屬（6）在封閉塊（4）與電路塊（5）的共同作用下形成電路板，實(shí)現(xiàn)了電路重構(gòu)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述調(diào)節(jié)裝置包括若干微型氣缸（7）、安裝架（8）以及設(shè)置在活動(dòng)塊（3）一端的連桿（9），所述的微型氣缸（7）與所述連桿（9）相連，所述安裝架（8）包括安裝底架（10）以及若干支架（11），所述安裝底架（10）設(shè)置在陰模（1）上，所述支架（11）橫跨在安裝底架（10）上，所述微型氣缸（7）安裝在支架（11）上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述微型氣缸（7）還連接有用于控制微型氣缸（7）活動(dòng)的控制裝置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述陽模（2）為第一矩形框結(jié)構(gòu)，所述第一矩形框結(jié)構(gòu)包括第一邊框結(jié)構(gòu)（12）以及由第一邊框結(jié)構(gòu)（12）圍成的第一空腔結(jié)構(gòu)（13）。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述陰模（1）為第二矩形框結(jié)構(gòu)，所述第二矩形框結(jié)構(gòu)包括第二邊框結(jié)構(gòu)（14）以及由第二邊框結(jié)構(gòu)（14）圍成的第二空腔結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述易熔金屬（6）設(shè)置在所述第一空腔結(jié)構(gòu)（13）中。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述活動(dòng)塊（3）設(shè)置在所述第二空腔結(jié)構(gòu)中，所述第二空腔結(jié)構(gòu)與所述第一空腔結(jié)構(gòu)（13）大小尺度相匹配。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述封閉塊（4）的長度與所述陽模（2）的深度尺寸一致，所述封閉塊（4）與所述第一空腔結(jié)構(gòu)（13）的底部抵接時(shí)，所述第一邊框結(jié)構(gòu)（12）與所述第二邊框結(jié)構(gòu)（14）相抵接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述電路塊（5）與封閉塊（4）無縫滑動(dòng)連接。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種易熔金屬重構(gòu)電路裝置，其特征在于：所述第一邊框結(jié)構(gòu)（12）上設(shè)置有溢流口（15）。