[發(fā)明專利]邊緣曝光機(jī)及邊緣曝光方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810402251.0
• 申請(qǐng)日: 2018-04-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108388087B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王威
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265
• 代理人: 林才桂;劉巍

本發(fā)明涉及一種邊緣曝光機(jī)及邊緣曝光方法。該邊緣曝光機(jī)包括：用于從基板上方曝光基板邊緣的光源；用于從基板下方通過(guò)真空吸附固定基板并向上支撐基板的真空墊；位于邊緣曝光機(jī)的腔室底部用于在基板下方反射光源所發(fā)出向下光線的反光底板，當(dāng)邊緣曝光機(jī)對(duì)一基板邊緣曝光時(shí)，所述反光底板對(duì)應(yīng)于所述基板邊緣的部分產(chǎn)生一反光范圍；還包括平移機(jī)構(gòu)，用于調(diào)整臨近所述基板邊緣的真空墊與所述基板邊緣之間的水平相對(duì)位置，以使臨近所述基板邊緣的真空墊趨向于離開(kāi)所述反光范圍。本發(fā)明還提供了相應(yīng)的邊緣曝光方法。本發(fā)明的邊緣曝光機(jī)及邊緣曝光方法，減少反射光線光強(qiáng)對(duì)基板照射的影響，很好的解決真空墊亮暗不均的產(chǎn)生，減少良率損失。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種邊緣曝光機(jī)及邊緣曝光方法。

背景技術(shù)

在LCD顯示面板與OLED顯示面板的制造過(guò)程中，會(huì)經(jīng)常用到光刻制程：具體為在涂有光刻膠的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光機(jī)對(duì)基板進(jìn)行曝光，曝光機(jī)通過(guò)開(kāi)啟超高壓水銀燈發(fā)出紫外光線，將掩膜板上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的基板表面上，基于掩膜板的圖案，光刻膠會(huì)有被曝光的部分和未被曝光的部分；再利用顯影液對(duì)光刻膠進(jìn)行顯影，即可去除光刻膠被曝光的部分，保留光刻膠未被曝光的部分，或者去除光刻膠未被曝光的部分，保留光刻膠被曝光的部分，從而使光刻膠形成所需的圖形；最后進(jìn)行蝕刻，在基板上形成相應(yīng)的圖案。

近年來(lái)，中小尺寸液晶顯示器發(fā)展迅猛，低溫多晶硅(LTPS)制程過(guò)程中需要使用到邊緣曝光機(jī)，對(duì)基板長(zhǎng)短邊進(jìn)行洗邊，去除金屬等邊緣導(dǎo)電物質(zhì)。

如圖1所示，其為現(xiàn)有邊緣曝光機(jī)的真空墊亮暗不均產(chǎn)生原理示意圖，圖中以箭頭表示光線方向。在邊緣曝光機(jī)的曝光制程中，透明的基板1是由多個(gè)真空墊(pad)2以真空吸附的方式從基板1下方支撐固定在曝光位置，邊緣曝光機(jī)的光源3露光時(shí)照射到基板1邊緣和基板1邊緣旁邊的光線，將通過(guò)邊緣曝光機(jī)腔室(chamber)內(nèi)的反光底板4與基板1邊緣上下對(duì)應(yīng)的部分被反射回來(lái)，此反射光對(duì)基板1產(chǎn)生了露光效應(yīng)。反光底板4與基板1邊緣相對(duì)應(yīng)的部分反射光源3的光線所產(chǎn)生的反光范圍與光源3相對(duì)于基板1邊緣的位置有關(guān)，反光范圍可預(yù)先確定，圖1中虛線光線所涵蓋范圍即為相對(duì)于基板1所產(chǎn)生的反射范圍。當(dāng)真空墊2處于反射范圍時(shí)，處于基板1邊緣位置的真空墊2擋住了從下面反射回來(lái)的光線，真空墊2周?chē)母泄獠糠趾驼诠獠糠中纬闪缩r明的對(duì)比而導(dǎo)致真空墊2對(duì)應(yīng)的遮光部分關(guān)鍵尺寸(CD)變化趨勢(shì)明顯，進(jìn)而導(dǎo)致四方狀亮暗不均(Mura)的產(chǎn)生。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種邊緣曝光機(jī)及邊緣曝光方法，避免真空墊亮暗不均的產(chǎn)生。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種邊緣曝光機(jī)，包括：用于從基板上方曝光基板邊緣的光源；用于從基板下方通過(guò)真空吸附固定基板并向上支撐基板的真空墊；位于邊緣曝光機(jī)的腔室底部用于在基板下方反射光源所發(fā)出向下光線的反光底板，當(dāng)邊緣曝光機(jī)對(duì)一基板邊緣曝光時(shí)，所述反光底板對(duì)應(yīng)于所述基板邊緣的部分產(chǎn)生一反光范圍；還包括平移機(jī)構(gòu)，用于調(diào)整臨近所述基板邊緣的真空墊與所述基板邊緣之間的水平相對(duì)位置，以使臨近所述基板邊緣的真空墊趨向于離開(kāi)所述反光范圍。

其中，所述平移機(jī)構(gòu)使臨近所述基板邊緣的真空墊位于所述反光范圍外。

其中，所述平移機(jī)構(gòu)包括水平滑軌和能夠在所述水平滑軌上水平滑動(dòng)的滑塊，臨近所述基板邊緣的真空墊固定至所述滑塊。

其中，所述反光底板包括位于中心的中心底板以及與中心底板分離的位于中心底板邊緣的傾斜底板，所述傾斜底板為所述反光底板對(duì)應(yīng)于所述基板邊緣的部分；所述傾斜底板設(shè)有角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，用于調(diào)整所述傾斜底板的反光角度，以使所述反光范圍趨向于離開(kāi)臨近所述基板邊緣的真空墊。

其中，所述角度調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)包括固定底座和固定底座上的轉(zhuǎn)軸，所述傾斜底板通過(guò)轉(zhuǎn)軸安裝至固定底座。

其中，所述角度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)整所述傾斜底板的反光角度，使所述反光范圍位于基板范圍外。