[發明專利]研磨機上盤裝置擺動系統在審
| 申請號: | 201810401340.3 | 申請日: | 2018-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN108581823A | 公開(公告)日: | 2018-09-28 |
| 發明(設計)人: | 戴瑜興;楊佳葳;龔濤;龔平 | 申請(專利權)人: | 湖南宇晶機器股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/34 | 分類號: | B24B37/34;B24B37/00 |
| 代理公司: | 長沙明新專利代理事務所(普通合伙) 43222 | 代理人: | 徐新 |
| 地址: | 413001 湖南省益*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 連接座 擺動組件 緩沖組件 研磨機 擺動系統 定位組件 上盤裝置 研磨 盤裝置 配合連接 箱體部件 機械手 上下料 上盤 抬升 | ||
研磨機上盤裝置擺動系統,包括連接座、定位組件、緩沖組件和擺動組件,所述擺動組件和緩沖組件安裝在研磨機的箱體部件上,所述連接座與研磨機的上盤裝置相連,所述擺動組件與連接座相連,所述定位組件安裝在連接座上,所述連接座與緩沖組件配合連接。本發明可實現研磨機在上盤抬升后將上盤裝置旋轉一定的角度以便于工人或機械手的上下料。
技術領域
本發明涉及一種研磨機上盤裝置擺動系統。
背景技術
研磨機作為一種拋光設備,在2.5D、2D玻璃、藍寶石以及其它硬、脆材料的異形表面拋光中廣泛應用。如何提高機器的可操作性以及如何實現研磨機的自動化成為現代研磨機發展的一個重要趨勢。
目前,由于設計上存在的不足,還沒有一種可實現研磨機在上盤抬升后將上盤裝置旋轉一定的角度以便于工人或機械手的上下料的擺動系統。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是,提供一種實現研磨機在上盤抬升后將上盤裝置旋轉一定的角度以便于工人或機械手的上下料的擺動系統。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:研磨機上盤裝置擺動系統,包括連接座、定位組件、緩沖組件和擺動組件,所述擺動組件和緩沖組件安裝在研磨機的箱體部件上,所述連接座與研磨機的上盤裝置相連,所述擺動組件與連接座相連,所述定位組件安裝在連接座上,所述連接座與緩沖組件配合連接。
進一步,所述連接座通過連接件與研磨機的上盤裝置相連。
進一步,所述定位組件采用銷孔定位,所述定位組件與上的定位銷定位用銷孔設置在箱體部件上。
進一步,所述定位組件采用氣缸控制,氣缸控制該組件中的定位銷與箱體部件上的銷孔配合實現定位。
進一步,擺動過程中連接座與緩沖組件配合實現擺動過程的平穩。
進一步,所述擺動組件和緩沖組件通過連接螺栓安裝在研磨機的箱體部件上。
該系統中上盤裝置安裝在箱體部件上,上盤裝置在結構上能夠實現定點旋轉;該系統擺動組件和緩沖組件安裝在箱體部件上,連接座與上盤裝置相連,擺動組件連接在連接座上;定位組件安裝在連接座上,定位組件采用銷孔定位,定位組件采用氣缸控制,氣缸控制該組件中的定位銷與箱體部件上的銷孔配合實現定位;擺動過程中連接座與緩沖組件配合實現擺動過程的平穩。
本發明的有益效果:
1.該系統主要集中實現研磨機在上盤抬升后將上盤裝置旋轉一定的角度以便于工人或機械手的上下料;
2.該系統采用氣缸組件對上盤裝置進行擺動,同時利用緩沖組件對擺動過程進行限位降低擺動過程中的噪音同時提高該擺動過程的平穩性;
3.擺動后機器采用定位組件對上盤裝置進行限位,有效的降低上盤工作過程中的剛性,同時提高上下盤之間的定位精度;
4.整體規整、空間小。
附圖說明
圖1為本發明實施例的結構示意圖;
圖中:1.連接座,2.定位組件,3.緩沖組件,4.擺動組件,5.上盤裝置,6.箱體部件。
具體實施方式
以下結合附圖及實施例對本發明作進一步說明。
參照圖1,一種研磨機上盤裝置擺動系統,包括連接座1、定位組件2、緩沖組件3和擺動組件4,所述擺動組件4和緩沖組件3安裝在研磨機的箱體部件6上,所述連接座1通過連接件與研磨機的上盤裝置5相連,所述擺動組件4與連接座1相連,所述定位組件2安裝在連接座1上,所述連接座1與緩沖組件3配合連接。
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