[發(fā)明專利]一種高世代鉬靶材的生產(chǎn)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810400974.7 | 申請日: | 2018-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN108642457B | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李鵬;李家旺;付立政 | 申請(專利權(quán))人: | 湖南有色新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;B22F1/00;B22F3/04;B22F3/03;B22F3/093;B22F3/10;B22F3/18;B22F3/24 |
| 代理公司: | 長沙永星專利商標事務(wù)所(普通合伙) 43001 | 代理人: | 周詠 |
| 地址: | 410200 湖南省*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 世代 鉬靶材 生產(chǎn) 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種高世代鉬靶材的生產(chǎn)方法,該生產(chǎn)方法包括:1、將兩種粒徑范圍不同的鉬粉在真空條件下混合,過篩后得到混合粉料;2、將混合粉料進行等靜壓處理;3、燒結(jié)處理;4、熱軋?zhí)幚恚?;真空退火;6、水切割、銑削加工、磨床加工。通過該方法得到的鉬靶材的長度可達3500mm以上,厚度≤30mm,寬度≤600mm,平面度小于0.08mm,鉬含量≥99.97%,該生產(chǎn)方法的生產(chǎn)效率高,所得高世代鉬靶材的致密度≥99.5%,鉬靶材內(nèi)部組織無氣孔、裂紋、分層、夾雜等缺陷,其表面粗糙度<0.6um,平均晶粒≤80um,晶粒均勻,可作為G10.5代線平面顯示器生產(chǎn)的高純鉬靶;本發(fā)明提供的高世代鉬靶材的生產(chǎn)方法,制備方法簡單,生產(chǎn)成本較低,成品率高,有利于工業(yè)化生產(chǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于金屬材料加工技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種高世代鉬靶材的生產(chǎn)方法。
背景技術(shù)
鉬作為一種稀有金屬材料,具備高熔點、高電導(dǎo)率、低阻抗、耐腐蝕性等諸多優(yōu)良性能。基于上述特性,鉬靶材在電子行業(yè)中應(yīng)用非常廣泛,按市場需求量來分析,鉬靶材主要應(yīng)用于平面顯示器、薄膜太陽能電池電極、配線材料以及半導(dǎo)體阻擋層材料等領(lǐng)域。尤其在平面顯示器行業(yè),鉬使用在LCD的元器件中,可使液晶顯示器在亮度、對比度、色彩以及壽命等方面的性能大大提升,因此成為了平面顯示器濺射靶材的基礎(chǔ)材料之一。
近年來,隨著市場對平面顯示器需求的不斷擴大,PVD制備過程所需的濺射鉬靶材市場需求量日趨旺盛。據(jù)統(tǒng)計,全球范圍內(nèi)鉬靶材的市場需求量每年以20%的速度增長,中國作為全球制造業(yè)大國,其鉬靶材的市場需求量更是每年以超過30%的速度增長。然而,平面顯示器作為資金密集型的高技術(shù)含量產(chǎn)品,曾是中國進口僅次于集成電路板、石油、鐵礦石的大宗商品。直至2010年,中國投資的首條8.5代線投產(chǎn),才開始擺脫32寸和55寸液晶電視對國外面板的依賴。尤其隨著我國以京東方、華星光電、中國電子等為代表的平面顯示器企業(yè)G8.5代線、G10.5代線的投產(chǎn),對高世代鉬靶材的需求呈爆發(fā)式增長。
高世代鉬靶主要是針對平面顯示器行業(yè)中G8.5代線及G10.5代線所需要的高純鉬靶材,其所對應(yīng)的基本尺寸見下表:
序號 代線 基本規(guī)格(厚度*寬度*長度,單位:mm) 1 G8.5 18*210*2650 2 G10.5 20*200*(3300~3500)
高世代高純鉬靶作為平面顯示器生產(chǎn)的主要基礎(chǔ)材料,市場對該類產(chǎn)品提出了較苛刻的技術(shù)要求,主要體現(xiàn)在如下三個方面:
1、雜質(zhì)元素的控制:鉬靶作為濺射中的陰極源,固體中的雜質(zhì)以及氣孔中的氣體是沉積薄膜的主要污染源。因此,在鉬靶生產(chǎn)過程中,需嚴格控制這些雜質(zhì)元素,最大程度地降低其在鉬靶中的含量;
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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