[發明專利]一種減反射冷裱膜及其制備方法在審
| 申請號: | 201810399434.1 | 申請日: | 2018-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN108728008A | 公開(公告)日: | 2018-11-02 |
| 發明(設計)人: | 涂大記;夏厚君;潘華;楊曉明 | 申請(專利權)人: | 浙江福萊新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C09J7/50 | 分類號: | C09J7/50;C09J7/30;C09J7/25;C09J133/08;C08F220/18;C08F220/14;C08F230/02;C23C14/30;C23C14/08 |
| 代理公司: | 上海伯瑞杰知識產權代理有限公司 31227 | 代理人: | 周兵 |
| 地址: | 314100 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧化鉿層 冷裱膜 減反射 制備 致密 透明PET膜 減反射層 規模化生產 透明膠層 宣傳效果 用戶體驗 照片表面 真空沉積 制備工藝 硅紙層 孔隙率 眩光 圖片 | ||
1.一種減反射冷裱膜,其特征在于,自上而下依次包括:減反射層、透明PET膜層、透明膠層和白硅紙層;其中,所述減反射層為致密氧化鉿層和/或多孔氧化鉿層,且所述致密氧化鉿層的厚度為130-140nm;所述多孔氧化鉿層的厚度為88-92nm,且孔隙率為76%-80%。
2.如權利要求1所述減反射冷裱膜,其特征在于,所述致密氧化鉿層的厚度為133-137nm;所述多孔氧化鉿層的厚度為89-91nm,且孔隙率為77%-79%。
3.如權利要求1或2所述減反射冷裱膜,其特征在于,所述致密氧化鉿層的厚度為135nm;所述多孔氧化鉿層的厚度為90nm,且孔隙率為78%。
4.如權利要求1所述減反射冷裱膜,其特征在于,所述透明膠層按照質量百分比計,包括以下組分:丙烯酸單體18%-22%,丙烯酸丁酯36%-40%,甲基丙烯酸甲酯16%-20%,十二烷基苯磺酸鈉1%-5%,固化劑4%-6%,過硫酸銨2%-4%,余量為聚乙烯醇。
5.如權利要求1或4所述減反射冷裱膜,其特征在于,所述透明膠層按照質量百分比計,包括以下組分:丙烯酸單體20%;丙烯酸丁酯38%;甲基丙烯酸甲酯18%;十二烷基苯磺酸鈉3%;固化劑5%;過硫酸銨3%,余量為聚乙烯醇。
6.如權利要求1所述減反射冷裱膜,其特征在于,所述丙烯酸單體為2-乙基(甲基丙烯酸酰氧甲基)膦酸酯、2-乙基(丙烯酰氧甲基)膦酸酯和2-乙基(甲基丙烯酸酰氧甲基)磷酸酯中的一種或幾種。
7.如權利要求6所述減反射冷裱膜,其特征在于,所述丙烯酸單體為2-乙基(甲基丙烯酸酰氧甲基)磷酸酯。
8.如權利要求1所述減反射冷裱膜,其特征在于,所述固化劑為含NCO基團的固化劑,包括甲苯二異氰酸酯和/或二苯基甲烷二異氰酸酯。
9.如權利要求1-8任一項所述減反射冷裱膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)制備減反射膜層:在室溫下將透明PET膜放卷后固定在電子束蒸發鍍膜機的可移動式樣品臺上,采用氧化鉿為靶材,將上述電子束蒸發鍍膜機腔室抽至真空度為3×10-4-5×10-4Pa,先調整電子束入射角度為0°,在所述透明PET膜表面沉積致密氧化鉿層;再調整電子束入射角度為85°,在所述致密氧化鉿層表面沉積多孔氧化鉿層,收卷即得;其中,所述可移動式樣品臺的轉速為2-3rpm,沉積速率為0.40-0.45nm/s;
(2)制備透明膠:按照上述配比和組成稱取所述透明膠層的原料,先在溫度為100-120℃下將所述聚乙烯醇充分熔化,然后降溫至75-85℃,加入除固化劑和過硫酸銨之外的各組分充分混合,再邊攪拌邊逐漸加入過硫酸銨反應10-12h,反應完成后加入固化劑攪拌均勻,冷卻即得;
(3)制備減反射冷裱膜:將步驟(2)中所述透明膠經網線輥上膠后均勻涂布于步驟(1)中沉積有所述減反射膜層的透明PET膜層上,經烘干后與所述白硅紙層貼合,收卷,得減反射冷裱膜;具體工序為:放卷、上膠、烘干、貼合和收卷;其中,上膠量為所述透明膠干基18-25g/m2,涂布速度為25-35m/min。
10.如權利要求9所述減反射冷裱膜的制備方法,其特征在于,步驟(3)中,所述上膠量為所述透明膠干基20g/m2,所述涂布速度為30m/min。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江福萊新材料股份有限公司,未經浙江福萊新材料股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810399434.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





