[發明專利]電容屏功能片的生產方法及電容屏功能片

在審

• 申請號: 201810392948.4
• 申請日: 2018-04-27
• 公開（公告）號: CN108595061A
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: 王偉鵬;陳文威;趙云
• 申請（專利權）人: 深圳秋田微電子股份有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 北京英特普羅知識產權代理有限公司 11015
• 代理人: 齊永紅

本發明涉及一種電容屏功能片的生產方法及電容屏功能片，所述方法主要包括以下步驟：在基板上做ITO鍍膜，并進行光刻加工得到第一ITO電極層；在所述第一ITO電極層的上面做絕緣層鍍膜，并經過光刻加工得到第一絕緣層；在前述步驟的基礎上做ITO鍍膜，并經過光刻加工得到第二ITO電極層；在ITO電極邊緣通過絲印銀漿材料和激光加工形成銀漿線路，ITO電極通過所述銀漿線路連接到線路板，在所述銀漿線路的上面絲印第二絕緣層。本發明通過使用導電銀漿替代鍍膜金屬材料，使用絲印絕緣層有代替鍍膜絕緣層，大大地簡化了工藝流程，降低了工藝難度，減少了光罩次數。

技術領域

本發明涉及單面雙層投射式電容觸摸屏的技術領域，尤其涉及一種電容屏功能片的生產方法及電容屏功能片。

背景技術

投射式互感應電容觸摸屏一般采用設置在基材上的多個縱向的第一組電極和多個橫向的第二組電極，形成矩陣式分布，以RX(感應)、TX(驅動)交叉分布作為電容矩陣，利用人體的電流感應進行工作。人是接地物(即導電體)，給工作面通一個很低的電壓，當用戶觸摸屏幕時，觸摸的手指就會吸收走一個很小的電流，通過對X軸(TX)、Y軸(RX)的掃描，檢測到觸碰位置的電容變化，進而計算出手指觸碰點位置。

目前縱向和橫向電極的實現采用如下方式：第一種為雙面雙層，通常所說的雙面ITO(Dito)，即兩層ITO菲林的FF結構均為此設計；第二種為單面雙層，通常所說的單面ITO架橋(Sito)，ITO電極雖然在同一面，但是通過架橋方式實現縱向和橫向分別導通，且在架橋位置形成雙層結構。

單面ITO架橋通常為金屬架橋和ITO架橋。金屬架橋的結構為，縱橫兩組電極為ITO菱形塊，其中一組ITO菱形塊在與另一組ITO菱形塊即將相交的位置處斷開，通過增加絕緣層和金屬導通材料把斷開的一組ITO菱形塊連接起來，同時為降低非視窗AA區走線阻值，視窗AA區的ITO菱形塊到線路板的導電線路也采用金屬材料。ITO架橋的結構為，縱橫兩組電極為ITO菱形塊，其中一組ITO菱形塊在與另一組ITO菱形塊即將相交的位置處斷開，因改善顯示效果(減少色差)把金屬導通材料更改為透明導電的ITO材料，但是為降低非視窗AA區走線阻值，視窗AA區的ITO菱形塊到線路板的導電線路還采用金屬材料。金屬架橋或ITO架橋需要經過多次鍍膜和光刻，方法復雜、光罩數量多、開模費用高。金屬架橋需要ITO、絕緣層、金屬、絕緣層4次光罩；ITO架橋需要ITO、絕緣層、ITO、金屬、絕緣層5次光罩。

發明內容

本發明的目的在于克服以上技術所述不足，提供一種電容屏功能片的生產方法及電容屏功能片，以簡化工藝流程、降低工藝難度、減少光罩次數。

為實現上述目的，本發明可以通過以下技術方案予以實現：

一種電容屏功能片的生產方法，包括以下步驟：

(1)在基板上做ITO鍍膜，并進行光刻加工得到第一ITO電極層；

(2)在所述第一ITO電極層的上面做絕緣層鍍膜，并經過光刻加工得到第一絕緣層；

(3)在步驟(2)的基礎上做ITO鍍膜，并經過光刻加工得到第二ITO電極層；

(4)在ITO電極邊緣通過絲印銀漿材料和激光加工形成銀漿線路，ITO電極通過所述銀漿線路連接到線路板，在所述銀漿線路的上面絲印第二絕緣層。

進一步地，所述第一ITO電極層的圖形為縱橫兩組ITO電極，其中一組ITO電極在與另一組ITO電極即將相交的位置處斷開；所述第一絕緣層和第二ITO電極層的圖形均為連接第一ITO電極層中斷開的一組ITO電極的架橋結構，所述第二ITO電極層把該斷開的一組ITO電極導通，所述第一絕緣層隔絕第二ITO電極層與第一ITO電極層中非斷開的一組ITO電極。

進一步地，所述第二ITO電極層的長度比第一絕緣層的長度長，其寬度比第一絕緣層的寬度小。