[發(fā)明專利]一種隨機(jī)輻射雷達(dá)關(guān)聯(lián)成像方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810387112.5
• 申請日: 2018-04-26
• 公開（公告）號: CN108828593B
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張寅;毛德慶;聶憲波;張永偉;張永超;黃鈺林;楊建宇
• 申請（專利權(quán)）人: 電子科技大學(xué)
• 主分類號: G01S13/89
• 分類號: G01S13/89;G01S7/41
• 代理公司: 成都虹盛匯泉專利代理有限公司 51268
• 代理人: 王偉

1.一種隨機(jī)輻射雷達(dá)關(guān)聯(lián)成像方法，其特征在于，包括：

S1、通過正交初始幅度相位參數(shù)配置發(fā)射信號；所述步驟S1具體包括以下分步驟：

S11、根據(jù)發(fā)射信號的時寬、系統(tǒng)采樣頻率計算回波采樣點數(shù)Ts；

S12、根據(jù)回波采樣點數(shù)Ts和陣列發(fā)射天線單元個數(shù)MN-1，產(chǎn)生維數(shù)為Ts*(MN-1)的二維行向量正交矩陣A和P；

S13、將A和P分別作為隨機(jī)發(fā)射信號的幅度及相位；

S14、根據(jù)天線單元的分布，對A和P沿行向量進(jìn)行劃分；

S15、根據(jù)步驟S14獲得的陣列分布將步驟S13確定的幅度和相位參數(shù)配置為發(fā)射信號；

S2、根據(jù)步驟S1的發(fā)射信號產(chǎn)生空-時二維隨機(jī)輻射場；

S3、根據(jù)步驟S2的空-時二維隨機(jī)輻射場，得到目標(biāo)點處產(chǎn)生的反射回波散射場矩陣；

S4、通過對步驟S3的反射回波散射場矩陣求解，得到目標(biāo)散射系數(shù)；

S5、根據(jù)步驟S4得到的目標(biāo)散射系數(shù)得到隨機(jī)輻射雷達(dá)反演成像結(jié)果。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種隨機(jī)輻射雷達(dá)關(guān)聯(lián)成像方法，其特征在于，所述的陣列分布為以間距為D沿行列均勻分布，且其中心位置為接收陣元。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種隨機(jī)輻射雷達(dá)關(guān)聯(lián)成像方法，其特征在于，步驟S2所述空-時二維隨機(jī)輻射場由MN-1個發(fā)射陣元的輻射信號在目標(biāo)點處疊加產(chǎn)生。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種隨機(jī)輻射雷達(dá)關(guān)聯(lián)成像方法，其特征在于，步驟S4對步驟S3的反射回波散射場矩陣采用截斷奇異值矩陣求逆方法，得到目標(biāo)散射系數(shù)。