[發明專利]一種鍍膜系統及其制備柔性薄膜的方法

在審

• 申請號: 201810386934.1
• 申請日: 2018-04-26
• 公開（公告）號: CN108456857A
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發明（設計）人: 范襄;于振海;雷剛;沈靜曼;王訓春;姜德鵬;石夢奇;楊洪東
• 申請（專利權）人: 上海空間電源研究所
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/08;C23C14/12
• 代理公司: 上海元好知識產權代理有限公司 31323
• 代理人: 賈慧琴

1.一種鍍膜系統，其特征在于，該鍍膜系統包含：

真空室；

用于對真空室抽真空的真空系統；

設置于真空室內的用于蒸鍍有機薄膜的有機蒸發系統，其至少包含：密閉腔體，該密閉腔體由可控閥門控制密閉狀態，腔體內放置需要蒸鍍的有機蒸發原料；該密閉腔體的外部還設置有加熱裝置，用于對腔體進行加熱；

設置于真空室內的用于蒸鍍無機薄膜的無機蒸發系統，其至少包含：用于放置需要蒸鍍的無機蒸發原料的坩堝，及，用于隔斷坩堝內原料蒸鍍的坩堝擋板；

設置于真空室內的離子源；

設置于真空室內的用于固定待鍍膜襯底的工件盤。

2.如權利要求1所述的鍍膜系統，其特征在于，所述的可控閥門選擇電磁閥、插板閥、氣動閥中的任意一種。

3.如權利要求1所述的鍍膜系統，其特征在于，所述的無機蒸發系統選擇電子束蒸發系統或電阻蒸發系統。

4.如權利要求1所述的鍍膜系統，其特征在于，該鍍膜系統還包含：設置在真空室內的膜厚監控儀，用于監測薄膜沉積厚度及沉積速率。

5.一種采用權利要求1-4中任意一項所述的鍍膜系統制備柔性薄膜的方法，其特征在于，該方法包含以下步驟：

步驟 a）打開真空室，將待鍍膜襯底固定于工件盤上；打開有機蒸發系統的可控閥門和無機蒸發系統的坩堝擋板，將有機蒸發原料放置于密閉腔體內，并將無機蒸發原料放置于坩堝內，然后，關閉可控閥門和坩堝擋板，關閉真空室，抽真空；

步驟 b) 有機薄膜蒸鍍；

步驟 c）無機薄膜蒸鍍；

依據待鍍膜襯底的性質，選擇先開始步驟 b)或步驟 c），然后步驟 b)、步驟 c）交替進行若干次，直到監測達到鍍膜要求，鍍制完成，取出襯底，關閉鍍膜系統。

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述的有機薄膜蒸鍍包含：步驟b1，打開有機蒸發系統電源，依次打開離子源、可控閥門，開始有機薄膜蒸鍍；步驟b2，當有機鍍膜厚度達到設定厚度時，依次關閉可控閥門、加熱裝置、有機蒸發系統電源，暫停蒸鍍。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，步驟b1還包含：

步驟b1.1，根據待鍍薄膜設計，打開離子源電源，調節等離子體發生氣體與反應氣體的流量比，控制蒸鍍薄膜性能；

步驟b1.2，打開有機蒸發系統的加熱裝置，待溫度達到設定溫度后，打開可控閥門，開始有機薄膜蒸鍍。

8.如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述的無機薄膜蒸鍍包含：步驟c1，打開無機蒸發系統電源，調節加熱電壓或電流，使得無機蒸發原料充分熔化，然后，打開坩堝擋板，開始無機薄膜蒸鍍；步驟c2，當無機鍍膜的厚度達到設定厚度時，關閉坩堝擋板，調節加熱電壓或電流為零，關閉無機蒸發系統電源，暫停蒸鍍。

9.如權利要求5所述的方法，其特征在于，步驟a）中，抽真空至真空度優于1.0×10^-2Pa。

10.如權利要求5所述的方法，其特征在于，鍍制完成后，先往真空室內充氮氣，待真空度達到大氣壓時，打開真空室門，再取出襯底。