[發(fā)明專利]觸控模組、觸摸屏及觸控模組的制造工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810384071.4
• 申請日: 2018-04-26
• 公開（公告）號: CN108762545A
• 公開（公告）日: 2018-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐代雨
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市駿達(dá)光電股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 深圳眾鼎專利商標(biāo)代理事務(wù)所(普通合伙) 44325
• 代理人: 陽開亮

1.觸控模組，包括ITO薄膜，所述ITO薄膜上設(shè)有多條X電極、多條Y電極、多根銀膠搭橋線和多根銀膠走線，其特征在于：還包括黑色絕緣層，所述黑色絕緣層包括覆蓋于各所述銀膠搭橋線的非可視部分和覆蓋于各所述銀膠走線的遮光部分，所述黑色絕緣層的遮光部分的內(nèi)緣形成觸摸屏的可視區(qū)域的邊界。

2.觸摸屏，包括蓋板，其特征在于，還包括權(quán)利要求1所述的觸控模組，所述蓋板通過OCA光學(xué)膠層粘接在所述ITO薄膜上，所述黑色絕緣層的遮光部分的內(nèi)緣突出于所述蓋板的邊框區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述銀膠走線的與所述X電極或所述Y電極連接的一端在所述ITO薄膜上的投影

位于所述蓋板的可視區(qū)域的外緣在所述ITO薄膜上的投影和所述黑色絕緣層的遮光部分的內(nèi)緣在所述ITO薄膜上的投影之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸摸屏，其特征在于，所述蓋板的可視區(qū)域的外緣到所述黑色絕緣層的遮光部分的內(nèi)緣的距離為0.25±0.05mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸摸屏，其特征在于，所述銀膠走線的與所述X電極或所述Y電極連接的一端到所述黑色絕緣層的遮光部分的內(nèi)緣的距離為0.1±0.05mm。

6.觸控模組的制造工藝，其特征在于，用于制造權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的觸控模組，包括依次進(jìn)行的如下步驟：

準(zhǔn)備所述ITO薄膜；

在所述ITO薄膜上蝕刻出所述X電極和所述Y電極；

在所述ITO薄膜上制作所述銀膠搭橋線和所述銀膠走線；

在所述ITO薄膜上制作所述黑色絕緣層。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸控模組的制造工藝，其特征在于，在所述ITO薄膜上制作所述銀膠搭橋線和所述銀膠走線的步驟包括：

在所述ITO薄膜上印刷銀漿；

對所述銀漿進(jìn)行IR預(yù)烤、曝光、顯影及固烤，得到所述銀膠搭橋線和所述銀膠走線。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的觸控模組的制造工藝，其特征在于，在所述ITO薄膜上制作所述黑色絕緣層的步驟包括：

在所述ITO薄膜上印刷黑色絕緣；

對所述黑色絕緣進(jìn)行預(yù)干、曝光、顯影和固烤，得到所述黑色絕緣層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控模組的制造工藝，其特征在于，對所述黑色絕緣進(jìn)行預(yù)干的溫度為80±3℃，恒溫時(shí)間為10±1min。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的觸控模組的制造工藝，其特征在于，

對所述黑色絕緣進(jìn)行曝光的曝光能量為500±50mj/cm²；

對所述黑色絕緣進(jìn)行顯影的顯示液的濃度為5±0.5g/L。