[發明專利]聚降冰片烯及其衍生物薄膜和氫化產物薄膜及制備方法和應用在審
| 申請號： | 201810384052.1 | 申請日： | 2018-04-26 |
| 公開（公告）號： | CN108752568A | 公開（公告）日： | 2018-11-06 |
| 發明（設計）人： | 張久洋;高鑫;吳平平 | 申請（專利權）人： | 東南大學 |
| 主分類號： | C08G61/08 | 分類號： | C08G61/08;C08J5/18;B01D53/22 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 211189 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 聚降冰片烯 氫化產物 制備方法和應用 分離膜 薄膜 聚合 衍生物薄膜 材料韌性 分離效果 加氫處理 降冰片烯 力學性能 制備過程 | ||
1.一種聚降冰片烯及其衍生物和氫化產物薄膜，其特征在于：由降冰片烯單體通過ROMP聚合反應合成對應的降冰片烯聚合物，再經加工制備而得分離膜；
其中，所述降冰片烯單體包括：降冰片烯、降冰片烯衍生物；所述降冰片烯聚合物對應的包括：聚降冰片烯、聚降冰片烯衍生物、聚降冰片烯或其衍生物的氫化產物。
2.根據權利要求1所述的聚降冰片烯及其衍生物和氫化產物薄膜，其特征在于：所述聚降冰片烯、聚降冰片烯衍生物通過在高壓加氫反應器中加氫處理，得到其氫化產物，即為所述聚降冰片烯或其衍生物的氫化產物。
3.根據權利要求1所述的聚降冰片烯及其衍生物和氫化產物薄膜，其特征在于：所述聚降冰片烯、聚降冰片烯衍生物的分子量大于30000g/mol。
4.根據權利要求1所述的聚降冰片烯及其衍生物和氫化產物薄膜，其特征在于：制得的薄膜厚度小于200μm且大于5μm，H2的滲透率大于30×10-10mol/(m2s Pa)，CO2的滲透率小于0.5×10-10mol/(m2s Pa)，H2/CO2的選擇滲透性大于85％。
5.根據權利要求1所述的聚降冰片烯及其衍生物和氫化產物薄膜，其特征在于：所述降冰片烯及其衍生物的單體結構式分別為：
其中R1、R2、R3為以下基團中的一種或幾種：-H、-CH3、-CH2CH3、-CH2CH2CH3、-CH2CH2CH2CH3、-CH2CH2CH2CH2CH3、-CH2CH2CH2CH2CH2CH3、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH3、-NH2、-CH2NH2、-CH2CH2NH2、-CH2CH2CH2NH2、-CH2CH2CH2CH2NH2、-CH2CH2CH2CH2CH2NH2、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2NH2、-COOH、-CH2COOH、-CH2CH2COOH、-CH2CH2CH2COOH、-CH2CH2CH2CH2COOH、-CH2CH2CH2CH2CH2COOH、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2COOH。
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