[發明專利]一種Bi4 有效
| 申請號: | 201810383973.6 | 申請日: | 2018-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN108624960B | 公開(公告)日: | 2020-11-13 |
| 發明(設計)人: | 韓俊峰;陳東云;肖文德;賈爽;姚裕貴 | 申請(專利權)人: | 北京理工大學 |
| 主分類號: | C30B29/62 | 分類號: | C30B29/62;C30B29/12;C30B30/00;C30B11/02 |
| 代理公司: | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人: | 楊志兵;仇蕾安 |
| 地址: | 100081 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 bi base sub | ||
本發明涉及一種Bi4Br4的制備方法,屬于紅外材料技術領域。所述方法以低毒且沒有揮發性的單質Bi和BiBr3為原料,并在密封的真空石英管中加熱反應,再經過離心將生成的Bi4Br4單晶與未反應完的Bi分離,并在氬氣或氮氣的保護氣氛下將所生成的Bi4Br4單晶取出。本發明所述的制備方法步驟簡單,易于操作,大大降低了工藝難度,便于推廣;另外,本發明所述方法制備的Bi4Br4單晶樣品成相均勻、雜質含量少、遷移率較高,在室溫下具有較強的紅外吸收特性和靈敏的紅外光電響應,在紅外光電探測領域具有極大的潛在應用價值。
技術領域
本發明具體涉及一種紅外光電探測材料Bi4Br4的制備方法,屬于紅外材料技術領域。
背景技術
紅外光電探測技術是以碲鎘汞材料(HgCdTe)為代表的半導體器件構成的焦平面陣列,包括碲鎘汞、砷化銦鎵、InAs/InGaSb II型超晶格量子阱等,它們的研發起于20世紀五六十年代。該體系在紅外波段帶隙可調,電子有效質量小,本征載流子濃度低,其制成的探測器具有噪聲低,響應率高,響應時間短和響應頻帶寬等優點,因此,此類半導體材料在紅外光電探測器的發展中起到了至關重要的作用,至今仍然是重要的戰略戰術應用中首選的材料體系。然而,為了得到高性噪比、高量子效率的量子阱器件,必須使用昂貴的單晶基底,使用超高純度的原材料,工藝非常復雜,而且制成的光電器件需要工作在液氮溫度下。由于此類光電探測系統體系復雜、價格昂貴、無法做到小型化以及便攜式,從而限制了它在軍事和民用領域的更廣泛應用。因此,目前紅外光電探測領域在努力尋找新型的、廉價的、容易制備的光電轉換材料,設計開發室溫下工作的紅外探測焦平面器件。
Bi4Br4是一種窄帶隙半導體材料,它的能帶寬度為0.15eV,可以吸收波長小于8.3微米的紅外波段的光,這個范圍涵蓋了常用的中紅外波段(3-5微米),也涉及到部分中遠紅外波段(如人體的紅外輻射中心波長在9微米),因此在紅外光電探測領域具有極大的應用潛力。盡管Bi4Br4的單晶在20世紀80年代就由德國科學家采用氣相輸運的方法成功合成,但是他們報道的方法中以Bi和 Hg2Br2為原料,而Hg2Br2容易分解且有劇毒,另外此方法生長周期較長,一般需要數天時間,因此,并不利于實際應用中的生產制備。
發明內容
針對現有技術中制備Bi4Br4存在的缺陷,本發明的目的在于提供一種新的 Bi4Br4制備方法,采用低毒且沒有揮發性的單質Bi和BiBr3為原料,制備工藝簡單且易于操作,所制備Bi4Br4單晶樣品成相均勻、雜質含量少、遷移率較高,在紅外光電探測領域具有極大的潛在應用價值。
本發明的目的是通過以下技術方案實現的。
一種Bi4Br4的制備方法,所述方法步驟如下:
步驟1.將單質Bi和BiBr3裝入一端封閉一端開放的石英管底部,并在Bi和 BiBr3混合原料的正上方裝入石英棉;然后,將石英管內部的真空度抽至10-3 Pa~10-5Pa,再將石英管的開放端封閉;
步驟2.將密封的石英管豎直放置在馬弗爐中,裝有混合原料的石英管一端 (即石英管的封閉端)與馬弗爐底端接觸;先升溫至310℃~500℃,保溫6h~10 h后,再以1℃/h~2℃/h的速率降溫至271℃~294℃,并保溫2h~5h;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京理工大學,未經北京理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810383973.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 一種Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>復相熱障涂層材料
- 無鉛[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>納米管及其制備方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一種Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 復合膜及其制備方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 熒光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一種(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制備方法
- 熒光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>復合材料的制備方法





