[發明專利]輻射源

在審

• 申請號: 201810383321.2
• 申請日: 2012-09-14
• 公開（公告）號: CN108710264A
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: J·范德埃克;A·T·W·凱姆彭;A·C·庫普爾斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05G2/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種輻射源，包括：

流體流生成器，所述流體流生成器包括

貯存器，配置成保持一體積的燃料；

噴嘴，與貯存器流體連接，配置成沿著朝向等離子體形成位置的軌跡引導燃料的流；

激光輻射組件，配置成將激光輻射引導到在等離子體形成位置處的所述燃料的流上，以產生用于產生輻射的等離子體；和

污染物過濾器組件，定位在輻射源的燃料流路中且在噴嘴出口的上游，所述污染物過濾器組件包括過濾介質和過濾介質外殼，

其中過濾介質被所述污染物過濾器組件的進口或出口或過濾介質外殼通過所述過濾介質和所述進口或出口或過濾介質外殼之間的收縮配合提供的夾持力保持在污染物過濾器組件內的適合位置上，所述污染物過濾器組件的進口或出口或過濾介質外殼至少部分地圍繞過濾介質并與過濾介質接觸，所述燃料是熔融的金屬，

過濾介質具有第一部分和第二部分，所述第一部分被夾持在進口或出口或過濾介質外殼處，所述第二部分的外徑小于污染物過濾器組件的外殼的內徑以在過濾介質和污染物過濾器組件之間產生間隙，

所述過濾介質包括陶瓷材料，

所述進口、所述出口和所述過濾介質外殼中施加夾持力的相應的一者具有與過濾介質接觸的內表面；且

所述內表面包括陶瓷。

2.根據權利要求1所述的輻射源，其中污染物過濾器組件的進口或出口和過濾介質外殼彼此收縮配合。

3.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源，其中所述過濾介質包括下述中的一個或更多個：

陶瓷材料；

包括氧化鋯的陶瓷材料；

包括氧化鋁的陶瓷材料；

包括碳化硅的陶瓷材料；或

包括氮化硅的陶瓷材料。

4.根據權利要求1或2所述的輻射源，其中所述污染物過濾器組件定位在貯存器和噴嘴出口之間。

5.根據權利要求1或2所述的輻射源，其中過濾介質至少部分地沿著基本上平行于燃料流的方向的方向延伸。

6.根據權利要求1或2所述的輻射源，其中陶瓷漿或聚酰亞胺密封定位在過濾介質和一個或更多的圍繞物體中間。

7.根據權利要求1或2所述的輻射源，其中過濾介質的平均孔尺寸小于或等于20μm。

8.根據權利要求7所述的輻射源，其中過濾介質的平均孔尺寸小于或等于5μm。

9.根據權利要求8所述的輻射源，其中過濾介質的平均孔尺寸小于或等于1μm。

10.一種流體流生成器，包括：

貯存器，配置成保持一體積的流體；

噴嘴，與貯存器流體連接，且配置成沿著一軌跡引導流體的流；

污染物過濾器組件，定位在流體流生成器的流體流路中且在噴嘴出口的上游，所述污染物過濾器組件包括過濾介質和過濾介質外殼，

其中所述過濾介質被配置成通過由污染物過濾器組件的進口或出口或過濾介質外殼通過所述過濾介質和所述進口或出口或過濾介質外殼之間的收縮配合提供的夾持力保持在污染物過濾器組件內的適合位置上，所述污染物過濾器組件的進口或出口或過濾介質外殼至少部分地圍繞過濾介質并與過濾介質接觸，

所述流體是熔融的金屬，且

所述過濾介質具有第一部分和第二部分，所述第一部分被夾持在進口或出口或過濾介質外殼處，所述第二部分的外徑小于污染物過濾器組件的外殼的內徑以在過濾介質和污染物過濾器組件之間產生間隙，

所述過濾介質包括陶瓷材料，

所述進口、所述出口和所述過濾介質外殼中施加夾持力的相應的一者具有與過濾介質接觸的內表面；且

所述內表面包括陶瓷。

11.根據權利要求10所述的流體流生成器，其中污染物過濾器組件的進口或出口和所述過濾介質外殼彼此收縮配合。