[發明專利]超光滑玻璃鏡片多級離子拋光方法

有效

• 申請號: 201810382584.1
• 申請日: 2018-04-26
• 公開（公告）號: CN108747598B
• 公開（公告）日: 2020-04-21
• 發明（設計）人: 李錢陶;李定;王潺;金天義;熊長新
• 申請（專利權）人: 華中光電技術研究所（中國船舶重工集團有限公司第七一七研究所）
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 許美紅;徐曉琴

1.一種超光滑玻璃鏡片多級離子拋光方法，其特征在于，包括如下步驟：

（1）超光滑玻璃鏡片精密清洗：去除基底表面上殘留的污染物，使基底潔凈；

（2）高能離子束刻蝕去除比耳拜層：將精密清洗后的超光滑玻璃鏡片放置于裝有發散型離子源的真空室內，抽真空，通入流量為F₁的惰性氣體，對離子源加激勵電源，設置離子束能量為BV₁、束流為BI₁，控制刻蝕速率為V₁，刻蝕深度為D₁，拋光時間為T₁；

（3）多級離子束拋光與化學計量比恢復：將離子束拋光過程分為N級，N=3~100，其中步驟（2）所述高能離子束刻蝕去除比耳拜層為第一級離子束拋光，設定X為第二級至第N-1級離子束拋光，第X級的離子束拋光參數設定為：惰性氣體流量F_X=F₁×（1-X/N）、氧氣流量FO_x=F₁×（X/N），離子束能量BV_x=200+（BV₁-200）×（1-X/N），束流維持不變BI_x=BI₁，拋光時間Tx=D₁/（NV₁）；第N級的離子束拋光參數設定為：完全關閉惰性氣體流量，增加氧氣流量至FO_N=F₁，離子束能量降至BV_N=200eV，束流維持不變BI_N= BI₁，拋光時間T_N=2×D₁/（NV₁）。

2.根據權利要求1所述的超光滑玻璃鏡片多級離子拋光方法，其特征在于，步驟（1）所述超光滑玻璃鏡片rms≤0.3nm。

3.根據權利要求1所述的超光滑玻璃鏡片多級離子拋光方法，其特征在于，步驟（2）中所述真空的壓力P≤5×10^-4Pa。

4.根據權利要求1所述的超光滑玻璃鏡片多級離子拋光方法，其特征在于，步驟（2）所述惰性氣體為Ar氣或Xe氣。

5.根據權利要求1所述的超光滑玻璃鏡片多級離子拋光方法，其特征在于，步驟（2）中所述惰性氣體的流量F₁為10sccm~20sccm，離子束能量BV₁為500eV~600 eV，束流BI₁為50mA~100mA，刻蝕速率V₁為0.05nm/s~0.15nm/s，刻蝕深度D₁為90nm~150nm，拋光時間T₁為=D₁/V₁。