[發(fā)明專利]基板周轉(zhuǎn)載盤有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810381661.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108572471B | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張夏;黃建龍;鄭紹谷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/13 | 分類號(hào): | G02F1/13 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂;王中華 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 周轉(zhuǎn) | ||
1.一種基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,包括:至少一個(gè)承載盤(1),每一個(gè)承載盤(1)均包括:底面(10)以及與所述底面(10)相連并包圍所述底面(10)的側(cè)壁(20);
所述底面(10)包括:承載凸臺(tái)(11)以及沿所述承載凸臺(tái)(11)四周延伸的聯(lián)通槽(12),所述承載凸臺(tái)(11)中形成有第一凹槽(13),所述側(cè)壁(20)中形成第二凹槽(14),所述聯(lián)通槽(12)、第一凹槽(13)及第二凹槽(14)的凹陷方向垂直于所述底面(10),所述第一凹槽(13)和第二凹槽(14)均與所述聯(lián)通槽(12)聯(lián)通;
所述第一凹槽(13)包括多個(gè)間隔分布的主凹陷區(qū)(131)、連接各個(gè)主凹陷區(qū)(131)的第一通道(132)以及連接主凹陷區(qū)(131)和聯(lián)通槽(12)的第二通道(133)。
2.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,所述主凹陷區(qū)(131)的形狀為三角形。
3.如權(quán)利要求2所述的基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,所述主凹陷區(qū)(131)的數(shù)量為8個(gè),每4個(gè)主凹陷區(qū)(131)為一組,位于同一組的主凹陷區(qū)(131)圍繞同一個(gè)中心點(diǎn)均勻分布,位于不同組的主凹陷區(qū)(131)圍繞不同的中心點(diǎn)分布。
4.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,所述側(cè)壁(20)的頂部至所述第二凹槽(14)的底部的距離大于所述側(cè)壁(20)的頂部至所述聯(lián)通槽(12)的底部的距離。
5.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,所述第二凹槽(14)的數(shù)量為多個(gè),所述多個(gè)第二凹槽(14)沿所述側(cè)壁(20)均勻分布。
6.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,所述基板周轉(zhuǎn)載盤的材料為塑料。
7.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,所述承載盤(1)的數(shù)量為4個(gè),所述4個(gè)承載盤(1)排列成2行2列。
8.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,所述承載盤(1)的形狀為矩形。
9.如權(quán)利要求1所述的基板周轉(zhuǎn)載盤,其特征在于,所述承載凸臺(tái)(11)的頂面至所述聯(lián)通槽(12)的底部的距離與所述承載凸臺(tái)(11)的頂面至所述第一凹槽(13)的底部的距離相等。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





