[發明專利]一種有效提高通用鈦白粉遮蓋力的方法

在審

• 申請號: 201810375608.0
• 申請日: 2018-04-25
• 公開（公告）號: CN108329720A
• 公開（公告）日: 2018-07-27
• 發明（設計）人: 張玉榮;杜國華;鐘曉英;周春勇;姚恒平;孫潤發
• 申請（專利權）人: 四川龍蟒鈦業股份有限公司
• 主分類號: C09C1/36
• 分類號: C09C1/36;C09C3/04
• 代理公司: 焦作市科彤知識產權代理事務所(普通合伙) 41133
• 代理人: 張莉

本發明公開了一種有效提高通用鈦白粉遮蓋力的方法，包括以下步驟：1）將研磨后的鈦白粉進行一次打漿分散，得到料漿；2）將步驟1）得到的料漿靜置，濾去靜置后料漿的上層漿料，并將剩余漿料中的水分濾除；3）將步驟2）所剩物料加入分散劑進行二次打漿；4）將步驟3）得到的漿料進行二級砂磨，砂磨后的漿料進入后續處理步驟。本發明通過對鈦白粉的打漿分散制備料漿的過程進行改進，提高砂磨效果，使料漿的粒徑分布變窄，進而提高鈦白粉遮蓋力和分散性。

技術領域

本發明屬于鈦白粉生產領域，具體涉及一種有效提高通用鈦白粉遮蓋力的方法。

背景技術

由于鈦白粉折射率比較高，具有優異的光學性能，因此廣泛應用于涂料、塑料、油墨、層壓紙等領域。鈦白粉的光學性能是通過粒子的光散射來實現的，光散射效率與粒徑大小和粒徑分布有關，同時也與產品的分散性有關，而光散射效率直接影響到鈦白粉的光學性能。因此，如何通過改善產品的粒徑大小和粒徑分布，以提高產品的分散性成為研究的重點和難點。

常規的通用鈦白粉是把窯下物直接打漿成濃度為400-600g/L，然后以3-4m³/h的速度通過一級砂磨，得到分散漿料，用于進行后續的鈦白粉表面處理。鈦白粉的打漿研磨效果直接影響鈦白粉的粒徑分布，進而影響鈦白粉的遮蓋力和分散性。

發明內容

針對上述情況，本發明的目的是提供一種有效提高通用鈦白粉遮蓋力的方法。通過對鈦白粉的打漿分散制備料漿的過程進行改進，提高砂磨效果，使料漿的粒徑分布變窄，進而提高鈦白粉遮蓋力和分散性。

本發明提供了一種有效提高通用鈦白粉遮蓋力的方法，包括以下步驟：

1）將研磨后的鈦白粉進行一次打漿分散，得到料漿；

2）將步驟1）得到的料漿靜置，濾去靜置后料漿的上層漿料，并將剩余漿料中的水分濾除；

3）將步驟2）所剩物料加入分散劑進行二次打漿；

4）將步驟3）得到的漿料進行二級砂磨，砂磨后的漿料進入后續處理步驟。

根據本發明，步驟1）中，鈦白粉的研磨可采用輥壓磨或雷蒙磨。

優選情況下，步驟1）中，料漿的濃度為100-300g/L。

為了實現料漿中偏細粒徑物料的濾除，將一次打漿后的料漿靜置，料漿的靜置時間優選為10-60min。

優選情況下，步驟2）中，濾去的上層漿料占靜置后料漿的體積分數為10-30%。

本發明中，所述分散劑可選自硅酸鈉、三乙醇胺和聚羧酸鈉中的至少一種。

優選情況下，步驟3）中，二次打漿得到漿料的濃度為600-1200g/L。

優選情況下，步驟4）中，漿料以6-8m³/h的流速通過二級砂磨。

本發明中，經過二級砂磨后的漿料可進行無機包膜、閃蒸干燥和有機包膜等后續步驟。

按照本發明的一種優選實施方式，一種有效提高通用鈦白粉遮蓋力的方法，包括以下步驟：對輥壓磨或者雷蒙磨物料進行打漿分散，打漿濃度為100-300g/L，然后靜置10-60min，濾去上層10-30%的料漿，接著把料漿水分濾掉，再重新打漿，添加分散劑，分散劑為硅酸鈉、三乙醇胺和聚羧酸鈉中的至少一種，得到料漿濃度為600-1200g/L，將該料漿以6-8m³/h的流速通過二級砂磨，然后進行無機包膜、閃蒸干燥和有機包膜。

與現有技術相比，本發明具有如下有益點：