[發明專利]一種粗集料表面紋理粗糙度的評價方法

在審

• 申請號: 201810372414.5
• 申請日: 2018-04-24
• 公開（公告）號: CN108829915A
• 公開（公告）日: 2018-11-16
• 發明（設計）人: 李慶豐;祝媛媛;冉茂平;肖神清;周興林
• 申請（專利權）人: 武漢科技大學
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

1.一種粗集料表面紋理粗糙度的評價方法，其特征在于，包括：

將粗集料高差相關函數與待測粗集料的表面紋理高差函數圖進行擬合，獲取所述粗集料高差相關函數中的垂直截止波長；

基于所述垂直截止波長對所述待測粗集料的表面紋理粗糙度進行評價。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述粗集料高差相關函數為基于兩段變維分形的高差相關函數；

對應地，將粗集料高差相關函數與待測粗集料的表面紋理高差函數圖進行擬合，獲取所述粗集料高差相關函數中的垂直截止波長，進一步包括：

將粗集料高差相關函數與待測粗集料的表面紋理高差函數圖進行擬合，獲取所述粗集料高差相關函數中的垂直截止波長，并獲取所述粗集料高差相關函數中的水平截止波長、宏觀紋理分形維數和微觀紋理分形維數中的至少一種；

基于所述垂直截止波長對所述待測粗集料的表面紋理粗糙度進行評價，進一步包括：

基于所述垂直截止波長，以及水平截止波長、宏觀紋理分形維數和微觀紋理分形維數中的至少一種，對所述待測粗集料的表面紋理粗糙度進行評價。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，將粗集料高差相關函數與待測粗集料的表面紋理高差函數圖進行擬合，獲取所述粗集料高差相關函數中的垂直截止波長，之前還包括：

獲取待測粗集料的表面紋理輪廓曲線；

根據所述待測粗集料的表面紋理輪廓曲線，獲取所述待測粗集料的表面紋理高差函數圖。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，將粗集料高差相關函數與待測粗集料的表面紋理高差函數圖進行擬合，獲取所述粗集料高差相關函數中的垂直截止波長，進一步包括：

設置預設數量個候選紋理界限，獲取每一所述候選紋理界限對應的粗集料高差相關函數與待測粗集料的表面紋理高差函數圖的擬合精度；

獲取所述擬合精度最高的粗集料高差相關函數中的垂直截止波長。

5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，根據所述待測粗集料的表面紋理輪廓曲線，獲取所述待測粗集料的表面紋理高差函數圖，之前還包括：

基于表面輪廓斜率和表面輪廓偏移量對所述待測粗集料的表面紋理輪廓曲線進行修正。

6.一種粗集料表面紋理粗糙度的評價裝置，其特征在于，包括：

擬合單元，用于將粗集料高差相關函數與待測粗集料的表面紋理高差函數圖進行擬合，獲取所述粗集料高差相關函數中的垂直截止波長；

評價單元，用于基于所述垂直截止波長對所述待測粗集料的表面紋理粗糙度進行評價。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，還包括：

輪廓曲線獲取單元，用于獲取待測粗集料的表面紋理輪廓曲線；

高差函數獲取單元，用于根據所述待測粗集料的表面紋理輪廓曲線，獲取所述待測粗集料的表面紋理高差函數圖。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，還包括：

修正單元，用于基于表面輪廓斜率和表面輪廓偏移量對所述待測粗集料的表面紋理輪廓曲線進行修正。

9.一種粗集料表面紋理粗糙度的評價設備，其特征在于，包括處理器、通信接口、存儲器和總線，其中，處理器，通信接口，存儲器通過總線完成相互間的通信，處理器可以調用存儲器中的邏輯指令，以執行如權利要求1至5任一所述的粗集料表面紋理粗糙度的評價方法。

10.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1至5任一所述的粗集料表面紋理粗糙度的評價方法。