[發(fā)明專利]基片處理裝置和基片處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810365860.3
• 申請(qǐng)日: 2018-04-23
• 公開（公告）號(hào): CN108735630B
• 公開（公告）日: 2023-05-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 川原幸三;飯?zhí)锍烧?/a>;下川大輔;大村和久
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/027
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

本發(fā)明提供高精度地調(diào)整排出嘴與基片的間隙的基片處理裝置。液體處理單元(U1)包括：保持晶片(W)的保持部(23)；從前端部(41)對(duì)保持于保持部(23)的晶片(W)排出涂敷液的噴嘴(40)；使噴嘴(40)移動(dòng)到晶片(W)的上方的驅(qū)動(dòng)部(30)；和檢測(cè)由驅(qū)動(dòng)部(30)移動(dòng)的噴嘴(40)的前端部(41)的狀態(tài)的噴嘴傳感器(60)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及基片處理裝置和基片處理方法。

背景技術(shù)

在專利文獻(xiàn)1中，公開了在基片的表面將涂敷液以螺旋狀涂敷(進(jìn)行螺旋涂敷)的基片處理裝置。在螺旋涂敷中，在基片的旋轉(zhuǎn)中，在旋轉(zhuǎn)軸與基片的周緣之間，沿基片的表面在規(guī)定的方向使排出嘴移動(dòng)，同時(shí)將涂敷液從排出嘴排出。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2016-010796號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明想要解決的技術(shù)問題

此處，在螺旋涂敷中，排出嘴與基片的間隙的形成膜厚大致一致。這樣，螺旋涂敷中，排出嘴與基片的間隙直接對(duì)形成膜厚造成影響，因此需要對(duì)該間隙高精度地進(jìn)行調(diào)整。

本發(fā)明鑒于上述問題而提出，其目的在于高精度地調(diào)整排出嘴與基片的間隙。

用于解決課題的技術(shù)方案

本發(fā)明的一個(gè)方式的基片處理裝置包括：保持基片的保持部；對(duì)保持于保持部的基片從前端部排出涂敷液的至少一個(gè)液體接觸型的排出嘴；使排出嘴在基片的上方移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)部；和檢測(cè)驅(qū)動(dòng)部移動(dòng)的排出嘴的前端部的狀態(tài)的第一傳感器。

本發(fā)明的一個(gè)方式的基片處理裝置中，由驅(qū)動(dòng)部移動(dòng)的排出嘴的前端部的狀態(tài)由第一傳感器檢測(cè)。由此，例如，能夠取得與排出嘴的間隔距離、排出嘴的前端部的水平度、或固接于前端部的涂敷液的狀態(tài)等的信息，使用這些信息，能夠適當(dāng)?shù)卦O(shè)定涂敷液排出時(shí)的排出嘴與基片的間隙。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式的基片處理裝置，能夠高精度地調(diào)整排出嘴與基片的間隙。

第一傳感器可以配置在由驅(qū)動(dòng)部移動(dòng)的排出嘴的移動(dòng)路徑的下方。利用驅(qū)動(dòng)部移動(dòng)的排出嘴從基片的上方(即從排出嘴的下部即前端部)排出涂敷液，通過第一傳感器配置在排出嘴的移動(dòng)路徑的下方，能夠用第一傳感器很好地檢測(cè)排出嘴的前端部的狀態(tài)。即，能夠更高精度地調(diào)整排出嘴與基片的間隙。

驅(qū)動(dòng)部可以使排出嘴移動(dòng)，使得能夠由第一傳感器檢測(cè)前端部的多個(gè)部位的狀態(tài)。難以使排出嘴的前端部完全平坦，在前端部的區(qū)域間可能產(chǎn)生例如數(shù)十μm程度的凹凸。由此，通過利用掃描動(dòng)作由第一傳感器檢測(cè)前端部的多個(gè)部位的狀態(tài)，能夠考慮上述凹凸地設(shè)定排出嘴與基片的間隙。

上述基片處理裝置可以具有多個(gè)所述排出嘴，驅(qū)動(dòng)部從多個(gè)排出嘴中選擇至少1個(gè)排出嘴，使選擇出的該排出嘴經(jīng)第一傳感器的檢測(cè)范圍向基片的上方移動(dòng)。由此，能夠例如對(duì)每個(gè)涂敷液準(zhǔn)備排出嘴，針對(duì)各排出嘴設(shè)定排出嘴與基片的間隙。

上述基片處理裝置可以還具有檢測(cè)從基片起的間隔距離的第二傳感器，驅(qū)動(dòng)部具有保持排出嘴和第二傳感器的臂部，由臂部使排出嘴和第二傳感器移動(dòng)。由此，能夠利用與排出嘴一起被臂部保持的第二傳感器，檢測(cè)與基片的間隔距離。即，能夠適當(dāng)?shù)卮_定排出嘴與基片的間隔距離，更高精度地調(diào)整排出嘴與基片的間隙。

上述基片處理裝置可以還具有控制部，驅(qū)動(dòng)部使第二傳感器經(jīng)第一傳感器的檢測(cè)范圍向基片的上方移動(dòng)，控制部執(zhí)行下述處理：從第一傳感器和第二傳感器的至少任一者取得第一傳感器與第二傳感器的間隔距離即傳感器間隔距離；從第一傳感器取得第一傳感器與排出嘴的間隔距離即噴嘴間隔距離；和基于傳感器間隔距離和噴嘴間隔距離，導(dǎo)出第二傳感器與排出嘴的安裝位置之差。這樣，通過導(dǎo)出第二傳感器與排出嘴的安裝位置之差即安裝差，能夠基于上述第二傳感器的檢測(cè)結(jié)果，高精度地確定排出嘴與基片的間隔距離。由此，能夠更高精度地調(diào)整排出嘴與基片的間隙。