[發(fā)明專利]一種適用于高頻光電導(dǎo)衰減法測(cè)量半導(dǎo)體級(jí)單晶硅少子壽命的預(yù)處理方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810365224.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108549003A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高召帥;張?zhí)煊?/a>;姜浩;李福中;于躍;吳鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇鑫華半導(dǎo)體材料科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01R31/26 | 分類號(hào): | G01R31/26;B24B37/02;C30B33/10 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 肖明芳 |
| 地址: | 221004 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 單晶硅棒 預(yù)處理 少子壽命 單晶硅 測(cè)量半導(dǎo)體 化學(xué)拋光 光電導(dǎo) 衰減法 邊界效應(yīng) 表面復(fù)合 晶體結(jié)構(gòu) 深能級(jí) 硅棒 沖洗 測(cè)量 金屬 加工 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種適用于高頻光電導(dǎo)衰減法測(cè)量半導(dǎo)體級(jí)單晶硅少子壽命的預(yù)處理方法,包括以下步驟:(1)將單晶硅棒加工成圓柱形;(2)將步驟(1)得到的單晶硅棒進(jìn)行化學(xué)拋光;(3)沖洗完成化學(xué)拋光的單晶硅棒,干燥。本發(fā)明提供的預(yù)處理方法可以有效消除因硅棒的邊界效應(yīng)和表面復(fù)合效應(yīng)引起的少子壽命的測(cè)量誤差,使測(cè)量結(jié)果更能真實(shí)反映單晶硅棒晶體結(jié)構(gòu)和深能級(jí)金屬含量的實(shí)際情況。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種單晶硅棒的預(yù)處理方法,特別涉及一種適用于高頻光電導(dǎo)衰減法測(cè)量半導(dǎo)體級(jí)單晶硅少子壽命的預(yù)處理方法。
背景技術(shù)
非平衡少數(shù)載流子的平均生存時(shí)間稱為少數(shù)載流子壽命,簡(jiǎn)稱少子壽命。半導(dǎo)體的少子壽命是衡量其晶體結(jié)構(gòu)完整性和深能級(jí)金屬含量的重要物理參數(shù)。光伏行業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)通常采取的檢測(cè)方法為:多晶硅料拉制成區(qū)熔單晶硅棒,采用高頻光電導(dǎo)衰減法測(cè)量單晶硅棒的少子壽命,以此來(lái)評(píng)價(jià)多晶硅料的品質(zhì)。但是該方法的測(cè)量值受到很多因素的干擾,對(duì)于半導(dǎo)體級(jí)行業(yè),少子壽命是下游廠家關(guān)注的一個(gè)重要指標(biāo),如何準(zhǔn)確測(cè)量少子壽命使其精準(zhǔn)反映硅料的真實(shí)質(zhì)量是一個(gè)非常棘手的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的:為了排除外來(lái)因素對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響,確保測(cè)量值可以準(zhǔn)確反映單晶硅棒的晶體結(jié)構(gòu)和深能級(jí)金屬含量,本發(fā)明提供了一種適用于高頻光電導(dǎo)衰減法測(cè)量半導(dǎo)體級(jí)單晶硅少子壽命的預(yù)處理方法,該方法可以有效消除單晶硅硅棒的結(jié)構(gòu)缺陷和表面復(fù)合效應(yīng)的影響。
技術(shù)方案:本發(fā)明所述的適用于高頻光電導(dǎo)衰減法測(cè)量半導(dǎo)體級(jí)單晶硅少子壽命的預(yù)處理方法,包括以下步驟:
(1)將單晶硅棒加工成圓柱形;
(2)將步驟(1)得到的單晶硅棒進(jìn)行化學(xué)拋光;
(3)沖洗完成化學(xué)拋光的單晶硅棒,干燥。
步驟(1)中,利用研磨機(jī)將單晶硅棒加工成圓柱形。所述的研磨機(jī)優(yōu)選為表面研磨機(jī)。
步驟(1)中,所述的單晶硅棒是完成區(qū)熔處理的單晶硅棒。區(qū)熔處理具體的處理過(guò)程為:多晶硅棒通過(guò)區(qū)熔法加工成單晶硅棒,完成區(qū)熔處理以后的單晶硅棒大致為圓柱形,但是會(huì)存在一些棱角,所以為了精確測(cè)量,采用機(jī)加工的方式處理為最優(yōu)形狀,圓柱形。
步驟(2)中,所述的化學(xué)拋光是利用HF/HNO3混合體系進(jìn)行化學(xué)拋光。
優(yōu)選地,所述的HF/HNO3混合體系中,HF和HNO3體積比為1∶(2-4)。
優(yōu)選地,化學(xué)拋光的時(shí)間為5-8min。
步驟(3)中,利用超高純水沖洗完成化學(xué)拋光的單晶硅棒。
步驟(3)中,所述的干燥為將硅棒表面的水分吹干。
步驟(3)中,利用高純氮?dú)鈱⒐璋舯砻娴乃执蹈伞?/p>
工作原理:
①單晶硅棒的幾何結(jié)構(gòu)
通過(guò)高頻光電導(dǎo)衰減法檢測(cè)少子壽命時(shí),將檢測(cè)樣品放在檢測(cè)臺(tái)上,高頻電源提供的電流通過(guò)檢測(cè)樣品,可以得到樣品的電導(dǎo)率。當(dāng)紅外光源照射到檢測(cè)樣品表面時(shí),檢測(cè)樣品會(huì)被激發(fā)出光生電子-空穴對(duì),激發(fā)出的非平衡載流子會(huì)使檢測(cè)樣品產(chǎn)生附加光電導(dǎo)。當(dāng)光照消失后,附加光電導(dǎo)會(huì)逐漸降低直至消失,通過(guò)測(cè)試附加光電導(dǎo)的消失時(shí)間可以得到非平衡少數(shù)載流子的平均生存時(shí)間,即少子壽命。
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G01R 測(cè)量電變量;測(cè)量磁變量
G01R31-00 電性能的測(cè)試裝置;電故障的探測(cè)裝置;以所進(jìn)行的測(cè)試在其他位置未提供為特征的電測(cè)試裝置
G01R31-01 .對(duì)相似的物品依次進(jìn)行測(cè)試,例如在成批生產(chǎn)中的“過(guò)端—不過(guò)端”測(cè)試;測(cè)試對(duì)象多點(diǎn)通過(guò)測(cè)試站
G01R31-02 .對(duì)電設(shè)備、線路或元件進(jìn)行短路、斷路、泄漏或不正確連接的測(cè)試
G01R31-08 .探測(cè)電纜、傳輸線或網(wǎng)絡(luò)中的故障
G01R31-12 .測(cè)試介電強(qiáng)度或擊穿電壓
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