[發(fā)明專利]一種光學(xué)反射率表面處理方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810364034.7 | 申請日: | 2018-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN108441914B | 公開(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王南南;溫武警;譚錦升 | 申請(專利權(quán))人: | 國泰達(dá)鳴精密機(jī)件(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | C25D11/02 | 分類號: | C25D11/02 |
| 代理公司: | 深圳英聚知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44471 | 代理人: | 林俊遠(yuǎn) |
| 地址: | 518110 廣東省深圳市龍*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 預(yù)處理 二次陽極氧化 一次陽極氧化 光學(xué)反射率 封閉處理 產(chǎn)品表面 硫酸溶液 陽極氧化 活性劑 封閉 中和 堿性溶液中和 產(chǎn)品放置 清潔產(chǎn)品 清洗烘干 水洗處理 水洗工序 外觀檢測 脫脂 氟化鎳 固定架 油污 去除 封裝 清潔 | ||
1.一種光學(xué)反射率表面處理方法,其特征在于,該方法對產(chǎn)品的處理包括以下步驟:
將產(chǎn)品放置到產(chǎn)品固定架后,經(jīng)由脫脂和水洗工序去除產(chǎn)品表面油污,清潔產(chǎn)品;
進(jìn)行一次陽極氧化處理,所述一次陽極氧化采用硫酸溶液對產(chǎn)品進(jìn)行陽極氧化;
所述一次陽極氧化后進(jìn)行水洗,然后用堿性溶液中和,再經(jīng)由水洗清潔;
進(jìn)行封閉預(yù)處理,所述封閉預(yù)處理采用活性劑對產(chǎn)品進(jìn)行處理;
所述封閉預(yù)處理后進(jìn)行中和和水洗處理;
進(jìn)行二次陽極氧化處理,所述二次陽極氧化采用硫酸溶液對產(chǎn)品進(jìn)行陽極氧化;
所述二次陽極氧化處理后進(jìn)行水洗和中和,然后再水洗的處理;
進(jìn)行封閉處理,所述封閉處理采用氟化鎳和活性劑對產(chǎn)品進(jìn)行處理;
所述封閉處理后進(jìn)行清洗烘干以及外觀檢測,然后將產(chǎn)品進(jìn)行封裝;
一次陽極氧化之前在脫脂和水洗后包括堿蝕、水洗和化學(xué)拋光的步驟;
所述一次陽極氧化步驟中采用硫酸的濃度為200~220g/L,溫度為18~20℃,pH值為5~7,電壓值為13~14V,處理時間為30~40分鐘;
所述封閉預(yù)處理步驟中采用的活性劑包含了10~26%的檸檬酸和1~5%的無機(jī)季銨鹽活性劑,該活性劑的濃度為8~12g/L,溫度為90~100℃,pH值為10.2~13.5,處理時間為30~40分鐘。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)反射率表面處理方法,其特征在于,所述二次陽極氧化步驟中采用的硫酸的濃度為200~220g/L,溫度為18~20℃,pH值為5~7,電壓值為13~14V,處理時間為30~40分鐘。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)反射率表面處理方法,其特征在于,所述封閉處理步驟中采用的封閉劑包含了10~26%的檸檬酸、1~5%的無機(jī)季銨鹽活性劑及25~40%的氟化鎳,該封閉劑的濃度為8~12g/L,溫度為90~100℃,pH值為10~13,處理時間為30~40分鐘。
4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)反射率表面處理方法,其特征在于,所述一次陽極氧化采用硫酸的濃度為210g/L,溫度為19℃,pH值為6,電壓值為13.5V,處理時間為35分鐘;
所述封閉預(yù)處理步驟中處理時間為35分鐘;
所述二次陽極氧化步驟中采用的硫酸的濃度為210g/L,溫度為19℃,pH值為6,電壓值為13.5V,處理時間為35分鐘;
所述封閉處理步驟中所述封閉劑的濃度為10g/L,溫度為95℃,pH值為11.5,處理時間為35分鐘。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)反射率表面處理方法,其特征在于,所述二次陽極氧化后的產(chǎn)品表面生成的膜的總厚度為30~50μm;其顏色為黑色;且其表面光學(xué)反射率小于10%。
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