[發明專利]陰影繪制方法、裝置、終端以及計算機可讀存儲介質

在審

• 申請號: 201810362693.7
• 申請日: 2018-04-20
• 公開（公告）號: CN110389761A
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發明（設計）人: 涂勇
• 申請（專利權）人: 廣州優視網絡科技有限公司
• 主分類號: G06F8/38
• 分類號: G06F8/38;G06F3/0484
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 張子青;劉芳

1.一種陰影繪制方法，其特征在于，用于對用戶界面控件的陰影進行繪制，所述方法包括：

根據用戶預先輸入的陰影繪制請求確定需進行繪制陰影的至少一個View控件的陰影繪制區域；

獲取對每個View控件進行陰影繪制操作的陰影繪制參數；

利用預先設置的圖形繪制算法、并根據所述陰影繪制參數在每個View控件的陰影繪制區域繪制陰影。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述陰影繪制參數包括以下至少之一：陰影方向、陰影顏色、陰影四邊圓角、陰影的擴散半徑、陰影在陰影平面上的水平偏移值、陰影在陰影平面上的豎直偏移值。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述圖形繪制算法包括用于對陰影的基本特性進行繪制的第一圖形繪制算法；利用預先設置的圖形繪制算法、并根據所述陰影繪制參數在每個View控件的陰影繪制區域繪制陰影，包括：

利用所述第一圖形繪制算法、并根據所述陰影繪制參數在每個View控件的陰影繪制區域內對陰影的基本特性進行繪制；

所述陰影的基本特性包括以下至少之一：陰影方向、陰影顏色、陰影的擴散半徑、陰影在陰影平面上的水平偏移值、陰影在陰影平面上的豎直偏移值。

4.根據權利要求1-3中任意一項所述的方法，其特征在于，所述圖形繪制算法包括用于對陰影的圓角特性進行繪制的第二圖形繪制算法，利用預先設置的圖形繪制算法、并根據所述陰影繪制參數在每個View控件的陰影繪制區域繪制陰影，包括：

利用所述第二圖形繪制算法、并根據所述陰影繪制參數在每個View控件的陰影繪制區域內對陰影的圓角特性進行繪制，所述陰影的圓角特性包括：陰影四邊圓角。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，根據用戶預先輸入的陰影繪制請求確定需進行繪制陰影的至少一個View控件的陰影繪制區域，包括：

獲取用戶預先輸入的至少一個陰影繪制請求；

根據所述陰影繪制請求確定至少一個View控件；

獲取每個View控件所占用的工作區域；

根據所述陰影繪制請求將所述工作區域的四周在至少一個方向上進行擴展，生成至少一個擴展區域；

將生成的所有擴展區域確定為所述陰影繪制區域。

6.一種陰影繪制裝置，其特征在于，用于對用戶界面控件的陰影進行繪制，所述裝置包括：

確定模塊，用于根據用戶預先輸入的陰影繪制請求確定需進行繪制陰影的至少一個View控件的陰影繪制區域；

獲取模塊，用于獲取對每個View控件進行陰影繪制操作的陰影繪制參數；

繪制模塊，用于利用預先設置的圖形繪制算法、并根據所述陰影繪制參數在每個View控件的陰影繪制區域繪制陰影。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述陰影繪制參數包括以下至少之一：陰影方向、陰影顏色、陰影四邊圓角、陰影的擴散半徑、陰影在陰影平面上的水平偏移值、陰影在陰影平面上的豎直偏移值。

8.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述圖形繪制算法包括用于對陰影的基本特性進行繪制的第一圖形繪制算法；所述繪制模塊，用于：

利用所述第一圖形繪制算法、并根據所述陰影繪制參數在每個View控件的陰影繪制區域內對陰影的基本特性進行繪制；

所述陰影的基本特性包括以下至少之一：陰影方向、陰影顏色、陰影的擴散半徑、陰影在陰影平面上的水平偏移值、陰影在陰影平面上的豎直偏移值。

9.根據權利要求6-8中任意一項所述的裝置，其特征在于，所述圖形繪制算法包括用于對陰影的圓角特性進行繪制的第二圖形繪制算法，所述繪制模塊，用于：

利用所述第二圖形繪制算法、并根據所述陰影繪制參數在每個View控件的陰影繪制區域內對陰影的圓角特性進行繪制，所述陰影的圓角特性包括：陰影四邊圓角。