[發明專利]一種利用輻射制冷的冷卻水系統

在審

• 申請號: 201810362588.3
• 申請日: 2018-04-20
• 公開（公告）號: CN108507227A
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發明（設計）人: 楊榮貴;尹曉波;譚剛
• 申請（專利權）人: 深圳瑞凌新能源科技有限公司
• 主分類號: F25B23/00
• 分類號: F25B23/00;F25B49/00
• 代理公司: 深圳市中科創為專利代理有限公司 44384
• 代理人: 梁炎芳;謝亮

1.一種利用輻射制冷的冷卻水系統，其特征在于，包括:注水緩沖裝置、輻射制冷裝置和控制系統；

所述注水緩沖裝置包括緩沖罐和進液電動截止閥，所述緩沖罐的罐體一側開設有一出液口，所述進液電動截止閥的輸入端通過管道與所述出液口連接；

輻射制冷裝置包括：出液電動截止閥、制冷池以及與所述制冷池適配的制冷蓋，所述制冷池的側壁上開設有制冷進口和制冷出口，所述制冷進口通過管道與所述進液電動截止閥的輸出端連接，所述制冷出口通過管道與所述出液電動截止閥連接；所述制冷蓋包括傳熱基板，所述傳熱基板背離所述制冷池的一面覆蓋有一層輻射制冷薄膜，所述輻射制冷薄膜由透明高分子基體和嵌于透明高分子基體內的玻璃微珠組成，所述玻璃微珠為SiO₂、TiO₂、SiC和SiS₂中的一種或者多種；

所述控制系統包括：控制器、緩沖液位計、緩沖溫度傳感器、制冷液位計和制冷溫度傳感器；所述控制器分別與所述緩沖液位計、所述緩沖溫度傳感器、所述制冷液位計和所述制冷溫度傳感器控制連接；所述緩沖液位計和所述緩沖溫度傳感器設置與所述緩沖罐內，所述制冷液位計和所述制冷溫度傳感器設置在所述制冷池內。

2.如權利要求1所述的利用輻射制冷的冷卻水系統，其特征在于，所述輻射制冷薄膜朝向所述傳熱基板的一面涂布有一層反射金屬。

3.如權利要求2所述的利用輻射制冷的冷卻水系統，其特征在于，所述反射金屬為Ag或Al。

4.如權利要求1至3中任意一項所述的利用輻射制冷的冷卻水系統，其特征在于，所述傳熱基板背離所述輻射制冷薄膜的一面開設有若干波浪型凹槽。

5.如權利要求4所述的利用輻射制冷的冷卻水系統，其特征在于，所述傳熱基板的板材為鋼、鋁或者銅。